酢酸菌を用いるシキミ酸の製造法およびキナ酸脱水素酵素

出願番号 : 特許出願２００１－２６７２５７ 出願日 : ２００１年９月４日
公開番号 : 特許公開２００３－７０４９３ 公開日 : ２００３年３月１１日
出願人 : 有限会社 山口ティー・エル・オー 外１名 発明者 : 足立 収生 外３名

発明の名称 : 酢酸菌を用いるシキミ酸の製造法およびキナ酸脱水素酵素

【課題】 抗生物質、農薬、除草剤などの原料として有用なシキミ酸を、酢酸菌の酸化発酵により高収率で製造できる製造法の開発、およびシキミ酸の製造に関与している新規酵素の特性付けが、本発明の課題である。
【解決手段】 酸化発酵の研究の過程で、本発明者らは、酢酸菌とくにグルコノバクター属酢酸菌の細胞膜外表層に、補酵素ＰＱＱを含む新規なキナ酸脱水素酵素（ＱＤＨ）を発見した。ＱＤＨはキナ酸を酸化して高収率でデヒドロキナ酸（ＤＱＡ）を生成し、さらにデヒドロキナ酸デヒドラターゼとシキミ酸脱水素酵素の作用によってシキミ酸を生成する。これらの知見により、シキミ酸経路上の代謝中間体を経て製造される抗生物質などの有用物質の生産に必要な、シキミ酸の新規な製造法を確立できた。