出願番号 : 特許出願２００４－３６５５７６ 出願日 : ２００４年１２月１７日
公開番号 : 特許公開２００６－８９７５ 公開日 : ２００６年１月１２日
出願人 : 独立行政法人産業技術総合研究所 発明者 : 須丸 公雄 外４名
【課題】細胞を播種する前及び／又は後に光照射することにより、特定の領域においてその細胞接着性を高いコントラストと可逆性を持って局所的に亢進または減少させることが可能な温度・光応答性表面を有する細胞培養基材及びこれを構成する温度・光応答性組成物を提供する。これによって、培養細胞から細胞機能を損傷することなく、所望の細胞又は細胞群のみを選択的に分別回収する、あるいは所望のパターンに沿って培養するための煩雑な操作を要しない手段を提供する。
【解決手段】温度応答性ポリマーを構成するアクリルアミド系モノマー成分と、光応答性を有するスピロベンゾピラン及び／又はスピロオキサジン残基を有するモノマー成分から構成され、光照射及び／又は温度変化に応答してその細胞接着性が変化する温度・光応答性コポリマーを少なくとも一つの成分として含む温度・光応答性組成物。ekouhou 特許公開・明細書（全文）
