雰囲気調整剤及びそれを用いた細胞培養方法

出願番号 : 特許出願２００８－１５０５１６ 出願日 : ２００８年６月９日
公開番号 : 特許公開２００９－２９１１６６ 公開日 : ２００９年１２月１７日
出願人 : 三菱瓦斯化学株式会社 発明者 : 今川 茂樹

【課題】 アルデヒドの培地への移行を抑制し、細胞培養への影響を低減する。
【解決手段】 有機物を主剤とする雰囲気調整剤、アルデヒド除去剤並びに細胞及び培地を収容した培養容器を、ガスバリア性密閉容器内に設置し、該密閉容器内の酸素濃度を１８％以下、炭酸ガス濃度を２％以上１０％以下として細胞を培養することを特徴とする細胞培養方法を提供する。ekouhou 特許公開・明細書（全文）