出願番号 : 特許出願２００８－２７１８５０ 出願日 : ２００８年１０月２２日
公開番号 : 特許公開２０１０－９８９７９ 公開日 : ２０１０年５月６日
出願人 : 学校法人東京女子医科大学 外１名 発明者 : 岡 野 光 夫 外３名
【課題】細胞パターンを安定的かつ確実に維持したまま、細胞にとって低侵襲な条件で、細胞パターンを迅速に回収できる、細胞パターン回収ツールの提供。
【解決手段】本発明による細胞パターン回収ツールは、表面が易接着処理された基材層と、前記基材層上に形成された、表面がシラン処理された温度応答性ポリマー層と、前記温度応答性ポリマー層上に形成された、細胞接着阻害材料層とから構成されてなる。ekouhou 明細書(全文）
