出願番号 : 特許出願２００８－２９３０９４ 出願日 : ２００８年１１月１７日
公開番号 : 特許公開２０１０－１１９３０４ 公開日 : ２０１０年６月３日
出願人 : 大日本印刷株式会社 発明者 : 黒 田 正 敏
【課題】配向が制御された細胞パターンを安定的かつ確実に維持したまま、細胞にとって低侵襲な条件で、細胞パターンを迅速に回収できる、細胞パターン回収ツールの提供。
【解決手段】本発明による細胞パターン回収ツールは、表面が易接着処理された基材層と、前記基材層上に形成された、表面がシラン処理された温度応答性ポリマー層と、前記温度応答性ポリマー層上に形成された、細胞接着阻害材料層とから構成されてなる、配向が制御された細胞パターンの回収ツールであって、細胞接着阻害材料層において、温度応答性ポリマー層が露出されてなる細胞接着領域を挟んで存在する、細胞接着阻害材料に覆われてなる細胞接着阻害領域同士の間の幅を、伸展方向が制御された細胞培養が可能な最大幅以下とすることを特徴とするものである。ekouhou 明細書(全文）
