米IBMは2012年12月10日（現地時間）、電気信号の代わりに光パルスを使用して情報伝送を行う新方式のコンピュータ技術「CMOSナノフォトニクス」ついて、大量生産と実用が可能な段階に到達したと発表した。IBMは2010年に同技術の開発成功を発表していた（関連記事：エクサFLOPS級のスパコンも実現可能な集積技術、IBMが開発）。この段階ではまだ半導体製造ラインで大量生産する上での課題が残っていたが、IBMは2012年までの追加研究によってこの課題を解決したという。
IBMによれば、半導体の大量生産工場（ファウンドリー）に設置した「高性能90nm CMOS製造ライン」にいくつかの処理モジュールを追加することで、1つのシリコンチップ上に光部品と電気回路を隣り合わせに集積したものを製造できるメドがたったという。この結果、既存の半導体生産工場の製造ラインを、CMOSナノフォトニクスを応用した最新鋭のサーバーやスーパーコンピューター、高速通信機器などの製造に流用しやすくなる。これによる製造コストの大幅な削減が期待できる。
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ニュース - IBMが「CMOSナノフォトニクス」の量産技術、コンピュータ回路の“光”化加速へ：ITpro
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