和英特許翻訳メモ

便利そうな表現、疑問、謎、その他メモ書き。思いつきで書いてます。
拾った用例は必ずしも典型例、模範例ではありません。

ダイオード領域

2022-10-09 17:53:30 | 半導体

[0013] (第1実施形態)
本発明の第1実施形態にかかる半導体装置について説明する。本実施形態にかかる半導体装置は、基板厚み方向に電流を流す縦型のIGBTとFWDとが1つの基板に備えられたRC−IGBT構造により構成されている。この半導体装置は、例えば、インバータ、DC/DCコンバータ等の電源回路に使用されるパワースイッチング素子として利用されると好適である。具体的には、本実施形態にかかる半導体装置は、以下のように構成されている。

[0014] 図1に示されるように、半導体装置は、セル領域1と、このセル領域1を囲む外周領域2とを備えている。

[0015] セル領域1は、図1、図2、図3Aおよび図3Bに示されるように、IGBT素子が形成されたIGBT領域1aおよびFWDが形成されたダイオード領域1bが交互に形成されている。また、IGBT領域1aとダイオード領域1bの間に境界領域1cが形成された構成とされている。

[0016] 具体的には、これらIGBT領域1aとダイオード領域1bおよび境界領域1cは、図2、図3Aおよび図3Bに示すように、ドリフト層11として機能するN- 型の半導体基板10に形成されることで1チップで形成されている。IGBT領域1aとダイオード領域1bおよび境界領域1cは、半導体基板10の一面10aの一方向、図1で言えば紙面上下方向に沿って延設されている。そして、IGBT領域1aとダイオード領域1bが延設方向と直交する方向に交互に繰り返し形成され、その間に境界領域1cが形成されている。

[0017] ドリフト層11の上、つまり半導体基板10の一面10a側には、P型のベース層12が形成されている。そして、ベース層12を貫通してドリフト層11に達するように複数個のトレンチ13が形成され、このトレンチ13によってベース層12が複数個に分離されている。

[0018] なお、本実施形態では、複数のトレンチ13は、半導体基板10の一面10aの面方向のうちの一方向、図2で言えば紙面奥行き方向に沿って等間隔に形成されている。また、半導体基板10の一面10aは、ベース層12のうちのドリフト層11と反対側の一面などによって構成されている。

[0019] ベース層12は、IGBT領域1aとダイオード領域1bおよび境界領域1cとでP型不純物濃度が変えられており、IGBT領域1aでは、ダイオード領域1bおよび境界領域1cよりもP型不純物濃度が高くされている。以下、IGBT領域1aに形成されたベース層12を第1ベース層12aといい、ダイオード領域1bおよび境界領域1cに形成されたベース層12を第2ベース層12bという。

[0020] 第1ベース層12aは、チャネル領域として機能しつつ、ボディ領域としても機能する。この第1ベース層12aの表層部には、図2および図3Bに示すように、部分的に、第1ベース層12aよりも深さが浅くされたN+ 型のエミッタ領域14が形成されている。

[0021] エミッタ領域14は、ドリフト層11よりも高不純物濃度で構成され、第1ベース層12a内において終端し、かつ、トレンチ13の側面に接するように形成されている。本実施形態の場合、エミッタ領域14は、各トレンチ13の間において、トレンチ13の長手方向に沿って等間隔に複数個点在させられている。換言すれば、エミッタ領域14は、半導体基板10の一面10aに対する法線方向から見て、複数のトレンチ13の長手方向に対して交差するように、より詳しくは直交するように延設されている。そして、複数のトレンチ13の間に位置する各エミッタ領域14が、隣り合うトレンチ13の両方の側面に接した状態となっている。

[0022] なお、複数のトレンチ13の長手方向に対する垂直方向において、隣り合う各エミッタ領域14を繋げると直線状となっているが、各トレンチ13によって分断されているため、各エミッタ領域14は矩形状となっている。そして、各エミッタ領域14は、トレンチ13の長手方向両端よりも内側に配置された状態となっている。

[0023] また、第1ベース層12aは、エミッタ領域14が形成されていない部分において半導体基板10の一面10a側まで形成されており、この部分が後述する上部電極19とオーミック接触させられる第1コンタクト領域15aとされる。トレンチ13の長手方向における第1コンタクト領域15aの幅は、例えば同方向におけるエミッタ領域14の幅と等しくされ、これらの面積比が1:1とされている。

[0024] 第1コンタクト領域15aは、第1ベース層12aの一部によって構成されるが、部分的に表面濃度が高くされた領域であっても良い。本実施形態の場合、第1コンタクト領域15aは、半導体基板10の一面10aに対する法線方向から見て、エミッタ領域14と同様の上面レイアウトとされており、エミッタ領域14とされていない部分が第1コンタクト領域15aとされている。すなわち、第1コンタクト領域15aは、複数のトレンチ13の長手方向に対して交差するように、より詳しくは直交するように延設されており、複数のトレンチ13の間に位置する各第1コンタクト領域15aが隣り合うトレンチ13の両方の側面に接した状態となっている。

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m面、c面

2022-10-09 11:43:59 | 英語特許散策

EP3987220
[0191] In certain embodiments, GaN surface orientation is substantially in the c-plane, m- plane, {40-41}, {30-31}, {20-21}, {40-4-1}, {30-3-1}, {20-2-1} {20-21} orientation,
[0191] 特定の実施形態では、GaN表面配向が、実質的にc面、m面、{40-41}、{30-31}、{20-21}、{40-4-1}、{30-3-1}、{20-2-1}{20-21}配向であり、

and the device has a laser stripe region formed overlying a portion of the off-cut crystalline orientation surface region. 
デバイスは、オフカット結晶配向面領域の一部を覆って形成されたレーザストライプ領域を有する。

US2022108883
[0175] The images of FIG. 14, which include measurements by the LSCM, shows the surface of the (20-21) free standing GaN substrate 101 after removing the bar 501 of the device 110 .
【0166】
  LSCMによる測定を含む図14の画像は、素子110のバー501を除去した後の(20-21)自立GaN基板101の表面を示す。

The surface of the depressed region is tilted 15 degrees from the surface of the (20-21) substrate 101 , wherein the surface of the (20-21) substrate 101 is tilted 15 degrees from the m-plane.
陥没領域の表面は、(20-21)基板101の表面から15度傾転され、(20-21)基板101の表面は、m面から15度傾転される。

Therefore, the surface of the depressed region is an m-plane.
したがって、陥没領域の表面は、m面である。

The to-plane of bulk GaN is well known as a facet with high cleavage, and utilizing the cleavage of m-plane for removing the bar 501 is very important and useful.
バルクGaNのm面は、高い劈開を伴うファセットとして周知であり、バー501を除去するためにm面の劈開を利用することは、非常に重要かつ有用である。

The method of removing the bar 501 can effectively utilize the cleavage of the in-plane, even though the semipolar (20-21) substrate 101 does not have the m-plane as a main surface.
バー501を除去する方法は、半極性(20-21)基板101が主要な表面としてm面を有していないとしても、m面の劈開を効果的に利用することができる。

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貫通電流

2022-10-09 10:55:41 | 英語特許散策

US2020179698
[0106] As used herein, the term “A fiber” refers to myelinated afferent or efferent peripheral axons of the somatic nervous system.
【0098】
  本明細書で使用される「線維」という用語は、体性神経系の有髄求心性又は遠心性末梢軸索を指す。

Generally speaking, A fibers are associated with proprioception, somatic motor function, sensations of touch and pressure and also sensations of pain and temperature.
一般的に、A線維は固有受容、体性運動機能、触覚及び圧力の感覚、更に疼痛及び温度の感覚に関連している。

A fibers generally have a diameter of about 1 to 22 micrometers (μm) and conduction velocities between about 2 meter per second (m/s) to more than 100 m/s.
線維は一般に、直径が約1~22マイクロメートル(μm)で、伝導速度が約2メートル/秒(m/s)から100m/sを超える。

Each A fiber has dedicated Schwann cells forming the myelin sheath around the fiber.
各A線維には、線維の周囲にミエリン鞘を形成する専用のシュワン細胞がある。

As described above, the myelin sheath has a high content of lipids, increasing the electrical resistance to trans-membrane current flow and contributes to the high conduction velocity of action potentials along the nerve fiber. 
上記のように、ミエリン鞘には脂質が多く含まれており、貫通電流に対する電気抵抗が増加し、神経線維に沿った活動電位の高い伝導速度に貢献している。

US9899998
[0024] Depending on the current level and the threshold voltages of devices 81 - 86 (see FIG. 4), the power dissipation in the devices could be unacceptably high when operating in the diode mode.
【0017】
  ダイオードモードで動作するとき、電流レベル及び素子81~86の閾値電圧(図4参照)によっては、素子における電力散逸が許容できないほどに大きくなる。

In this case, a lower power mode of operation may be achieved by applying gate signals of the form shown in FIG. 6.
この場合、図6に示す形状のゲート信号を適用することによって、よりパワーが小さい動作モードを達成してもよい。

For example, when device 81 is switched as shown in FIGS. 5a and 5b ,
例えば、素子81が図5a及び図5bに示すように切り替えられると、

during the time device 82 conducts the freewheeling current (when device 81 is off), the gate of device 82 is driven high, allowing the drain-source voltage of device 82 to be simply the on-state resistance (Rds-on) times the motor current.
素子82が環流電流を流している(素子81がオフである)間、素子82のゲートは、ハイに駆動され、素子82のドレイン-ソース電圧は、単にオン状態抵抗(Rds-on)×モータ電流になる。

To avoid shoot-through currents from the high-voltage supply (HV) to ground,
ハイ電圧源(HV)からグラウンドへの貫通電流を回避するために、

some dead time must be provided between turn-off of device 81 and turn-on of device 82 and again between turn-off of device 82 and turn-on of device 81 
素子81をオフにする時点と、素子82をオンにする時点との間、及び再び素子82をオフにする時点と、素子81をオンにする時点との間に、ある程度の不動作時間を設ける必要がある。

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チベット人

2022-10-09 06:51:42 | 夢日記

(先行する夢の最後、夢の中で急に電灯が点くと同時に実際に廊下のセンサライトが付いた(たまに起きる恐らく単なるエラー現象)。半分目が覚め寝直し)

新聞購読の契約を取りに行く、外人(東南アジア)の奥様、バブルのボディコン風、赤い服。困窮しているらしくボロ屋、天井が傾いており今にも崩れ落ちそう。

チベット語の契約書を使えと言い差し出す。水商売?奥に亭主らしき人影。壁沿いの本棚に大量のチベット語(梵語?)らしき書籍類。天井直すの手伝う、亭主が何か太い木の棒を天井の穴に差し込んで更に上の穴に叩き込む、自分は板で下から天井押さえる、パラパラと塵埃、天井崩れ落ちる。子供が2人笑っている。奥様「仕事に出かけるので」、部屋の外に同僚らしきボディコンチベット人女性が数名立って待っている、一人と目が合う。

チベット語の契約書、日本語で書いてあるようだが良いのか迷う、「ちょっと電話して確認しますんで」、先輩「ああ、オレが行くわ」

 

(分析:昔新聞奨学生だった時の記憶+何か)

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当ブログの例文について

本ブログの「特許英語散策」等題した部分では、英語の例文を管理人の独断と偏見で収集し、適宜訳文・訳語を記載しています。 訳文等は原則として対応日本語公報をそのまま写したものです。私個人のコメント部分は(大抵)”*”を付しています。 訳語は多数の翻訳者の長年の努力の結晶ですが、誤訳、転記ミスもあると思いますのでご注意ください。