微粒子数濃度

US2022097086
[0050] When the deposition device 1 is in use, the gas source 2 supplies the gas via the gas line 7 to the aerosol source 3 .
【００４４】
  堆積デバイス１が使用されているとき、ガス源２は、ガスライン７を介してエアロゾル源３にガスを供給する。

The gas flows through the active aerosol source 3 and picks op particles that are generated by the aerosol source, creating the aerosol stream comprising the gas and the particles.
ガスは、能動エアロゾル源３を通って流れ、エアロゾル源によって生成された粒子を拾い上げ、ガス及び粒子を備えるエアロゾル流を作成する。

Subsequently the aerosol stream flows via the aerosol line 8 through the modifier 4 .
その後、エアロゾル流は、エアロゾルライン８を介して改質器４を通って流れる。

The modifier 4 is arranged to modify the aerosol stream, if necessary, to obtain the desired properties thereof.
改質器４は、必要に応じてエアロゾル流を改質して、その所望の特性を得るように構成される。

Properties of the aerosol stream that may be modified are, amongst others, particle size of the aerosol particles or agglomerates thereof, shape of the aerosol particles, and particle number concentration. 
改質され得るエアロゾル流の特性は、とりわけ、エアロゾル粒子又はその凝集物の粒子サイズ、エアロゾル粒子の形状、及び粒子数濃度である。そ

US2021322912
[0009] In another aspect, the invention provides a method of detecting a sample, e.g., for microbial enumeration.
【０００９】
別の態様では、本発明は、サンプルの検出、例えば、微生物の計数のための方法を提供する。

The method includes applying a volume of clean and/or dry gas, e.g., air, nitrogen, or argon, to the surface of a sample container for a time sufficient to remove particulate matter, e.g., for no more than 10 s, e.g., no more than 5 s, 3 s, 2 s, 1 s, or 0.5 s, and detecting, e.g., imaging, the sample in the sample container.
この方法は、一定量の清浄な、及び／又は乾燥したガス（例えば、空気、窒素、又はアルゴン）を、サンプル容器の表面に粒子状物質を除去するのに十分な時間、例えば１０秒以下の間（例えば、５秒、３秒、２秒、１秒、又は０．５秒以下の間）、適用する工程を含み、サンプル容器内のサンプルを検出（例えば、画像化）する。

In certain embodiments, the mass concentration of particulate matter in the gas is less than 30 μg/m3 , e.g., less than 10, 5, 1, 0.5, 0.1, 0.005, 0.001, 0.0005, 0.0001, 0.00005, or 0.00001 μg/m3
ある実施形態では、ガス中の粒子状物質の質量濃度は、３０μｇ／ｍ^３未満（例えば、１０、５、１、０．５、０．１、０．００５、０．００１、０．０００５、０．０００１、０．００００５、又は０．００００１μｇ／ｍ^３未満）、

and/or the particle number concentration is below 20,000 particles/cm3 , e.g., less than 10,000, 5,000, 1000, 500, 100, 50, 10, 5, 1, 0.5, 0.1, 0.05, or 0.01 particles/cm3 . 
及び／又は粒子数濃度が２０，０００粒子／ｃｍ^３未満（例えば、１０，０００、５，０００、１０００、５００、１００、５０、１０、５、１、０．５、０．１、０．０５、又は０．０１粒子／ｃｍ^３未満）である。

粒子の固定

US2013059296
[0041] In yet another embodiment, a plurality of oligonucleotides may be attached or synthesized on nanoparticles.
【００４１】
  さらに他の実施形態において、複数のオリゴヌクレオチドが、ナノ粒子上に付着されるか、合成され得る。

Nanoparticles includes but are not limited to metal (e.g., gold, silver, copper and platinum), semiconductor (e.g., CdSe, CdS, and CdS coated with ZnS) and magnetic (e.g., ferromagnetite) colloidal materials.
ナノ粒子は金属（例えば、金、銀、銅、およびプラチナ）、半導体（例えばＣｄＳｅ、ＣｄＳ、およびＺｎＳでコーティングされたＣｄＳ）、および磁性（例えば、強磁性体）コロイド物質を含むが、これらに限られない。

Methods to attach oligonucleotides to the nanoparticles are known in the art.
オリゴヌクレオチドをナノ粒子に付着させるための方法は当分野で知られている。

In another embodiment, nanoparticles are attached to the substrate.
他の実施形態において、ナノ粒子は基板に付着される。

Nanoparticles with or without immobilized oligonucleotides
固定化オリゴヌクレオチドの有無にかかわらず、ナノ粒子は例えば、

can be attached to substrates as described in, e.g., Grabar et al., Analyt. Chem., 67, 73-743 (1995); Bethell et al., J. Electroanal. Chem., 409, 137 (1996); Bar et al., Langmuir, 12, 1172 (1996); Colvin et al., J. Am. Chem. Soc., 114, 5221 (1992).
Ｇｒａｂａｒ  ｅｔ  ａｌ．，  Ａｎａｌｙｔ．  Ｃｈｅｍ．，  ６７，  ７３－７４３  （１９９５）；  Ｂｅｔｈｅｌｌ  ｅｔ  ａｌ．，  Ｊ．  Ｅｌｅｃｔｒｏａｎａｌ．  Ｃｈｅｍ．，  ４０９，  １３７  （１９９６）；  Ｂａｒ  ｅｔ  ａｌ．，  Ｌａｎｇｍｕｉｒ，  １２，  １１７２  （１９９６）；  Ｃｏｌｖｉｎ  ｅｔ  ａｌ．，  Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  １１４，  ５２２１  （１９９２）に記載されるように基板に付着できる。

Naked nanoparticles may be first attached to the substrate and oligonucleotides can be attached to the immobilized nanoparticles.
そのままのナノ粒子がまず基板に結合し得、その後、固定されたナノ粒子にオリゴヌクレオチドが付着できる。

US10845367
[0326] In some instances, immobilized nanoparticle comprising a modified multispanning membrane polypeptide described herein is then screened against a phage library
【０２２８】
  いくつかの例では、本明細書に記載される修飾された複数膜貫通型ポリペプチドを含む固定されたナノ粒子は、その後、ファージライブラリーに対してスクリーニングされ、

where e.g., a magnetic separation is used to isolate phage displaying antibodies with selective affinity for the modified multispanning membrane polypeptide target.
ここでは、例えば、修飾された複数膜貫通型ポリペプチド標的に対する選択的な親和性を備えた抗体を表示するファージを単離させるために磁気分離を使用する。

US8945670
[0003] Patent US 2007/0104922 describes a process for the production of a deposit formed from several layers of inorganic nanoparticles secured to a light-transparent support by means of an organic polyelectrolyte. 
【０００３】
  特許ＵＳ２００７／０１０４９２２は、有機高分子電解質によって光透明支持体に固定された無機ナノ粒子のいくつかの層から形成された堆積物の製造方法を記述する。

US2022275914
To the above treated particles, 2 wt. parts of di-n-butyl fumarate and 0.05 wt. part of potassium persulfate were added, followed by polymerization reaction for 48 hours at 60° C. in a nitrogen atmosphere.
[0504] 上記の処理された粒子に対して、２重量部のフマル酸ジ－ｎ－ブチル及び過硫酸カリウム０．０５重量部を加えた後、窒素雰囲気下、６０℃で４８時間重合反応させた。

After coarse particles contained in the reaction mixture were removed with a filter, objective particles contained in the removed with a filter, objective particles contained in the reaction mixture were separated by centrifugation.
反応混合物に含まれる粗い粒子をフィルタで除去した後、中に含まれる目的粒子をフィルタで除去し、反応混合物に含まれる目的粒子を遠心分離により分離した。

The resultant precipitate was repeatedly recovered by filtration and washed, followed by drying to obtain particles to which the reactive surfactant-derived amphipathic residual group was fixed at the particle surface.
得られた沈殿物を濾過により繰り返し回収し、洗浄した後、乾燥させて、反応性界面活性剤由来の両親媒性残留基が粒子表面に固定された粒子を得た。

US10604843
[0074] At block 230 , the particles 140 are transported (e.g., by the particle transferring unit) to be within a second gap 124 between the outer surface 132 and a second substrate 120 .
【００５８】
  ブロック２３０において、粒子１４０は、外面１３２と第２の基板１２０との間の第２の間隙１２４内にあるように（例えば、粒子転写ユニットによって）運ばれる。

Block 230 may include the particles 140 secured to the outer surface 132 being transported by the particle transferring unit 130 . 
ブロック２３０は、粒子転写ユニット１３０によって運ばれる外面１３２に固定された粒子１４０を含むことができる。

互いに対向する

US9156321
The adjustments are computed using an algorithm that first determines the current value of a variable having a known relationship to the magnitude of the attraction force produced by a pair of mutually opposing（＊互いに対向）magnets 28 and 36, and then determines the amount by which the tractor vehicle magnet 28 needs to be displaced in order to maintain the magnitude of the attraction force within a preset range. 

US20190293473
FIG. 10 is a diagram representing a plan view of a pair of optical fibers encased in respective jackets having mutually opposing（＊互いに対向）longitudinal slots for sideways optical coupling of light (indicated by arrows) from the side-emitting optical fiber to the side-receiving optical fiber.

with which it is possible；できる、可能な、可能とする、可能である

ネイティブ例は多くない印象。

US7509111
The transformer 101 thus clearly has the function of an isolating transformer. In accordance with the exemplary embodiment, all the active components of the integrated circuit 100 are realized by means of field effect transistors (=FET) in 120 nm CMOS technology. Moreover, the mixer circuit of the integrated circuit 100 is constructed in accordance with the HIPERLAN standard (HIPERLAN=high performance radio local area network) and, according to the invention, as a Gilbert mixer with which it is possible to（＊できる、可能なミキサー）achieve frequency conversion in the range of 17 GHz to 20 GHz.

US9443207
In this example, a swarm is a group of autonomous vehicles that work together. In a swarm, the vehicles may work with each other to accomplish a mission, task, operation, or some combination thereof. A swarm may have swarm intelligence. Swarm intelligence is the property of a system whereby the collective behaviors of vehicles interacting locally with their environment cause coherent functional global patterns to emerge. Swarm intelligence provides a basis with which it is possible to（＊可能とする、可能である、基礎、土台、ベース）explore collective or distributed problem solving without centralized control or the provision of a global model.

US5866273
Another object is to provide a scaleable process with which it is possible to（＊可能にする、できるプロセス）produce environmentally stable RAM powder in large quantities.

US4054126
Thus, at 50 atmospheres pressure the magnesium oxide will react with water, generating heat at temperatures as high as 437° C. The calcium and barium oxides behave in a similar manner. It is seen, therefore, that the present invention provides a system with which it is possible to（＊可能にする、できるシステム）recover thermal energy at a higher temperature than that at which it was stored simply by increasing the pressure prior to hydration of the oxide.

調心

US10901231
 In some embodiments, a device 480 may be mounted to the rear of the relay element 410 
いくつかの実施態様では、装置４８０は、リレー要素４１０の後部に搭載され、

and aligned passively or actively to ensure appropriate energy location alignment within the determined tolerance is maintained.
パッシブまたはアクティブ調芯されて、決められた公差を維持する範囲内で適切なエネルギー位置に整列することを確保し得る。

US11389236
[0224] As best shown in FIG. 38, the sliding part 2310 
【０１６３】
  図３８に最もよく示されているように、スライド部２３１０は、

can be formed as two parts 2330 , 2231 (symmetric parts) that mate together

to form a shell that surrounds the rotating knob 2320 and contains aligned holes that permit the delivery fiber 2301 to passes therethrough
回転するノブ２３２０を取り囲み、かつ送達ファイバ２３０１が通過するのを可能にする調芯されたホールを内蔵するケースを形成するように

一緒に嵌合する２つの部品２３３０、２２３１（対称形部品）として形成され得る

(the sliding part 2310 thus slides along the delivery fiber). 
（したがって、スライド部２３１０は、送達ファイバに沿ってスライドする）。

US10598866
[0001] Fiber-optic connectors may be used to connect optical fibers to optical components such as other optical fibers, light sources, sensors, etc.
【０００１】
光ファイバコネクタは、光ファイバを他の光ファイバ、光源、センサ等の光学部材に接続するのに使用される。

A ferrule may hold the fiber end of an optical fiber, thus aligning the fiber end with the optical elements interfacing with the optical fiber,
フェルールは、光ファイバのファイバ端を保持することで、ファイバ端と、光ファイバとインターフェース接続する光学素子とを調芯し、

and further providing a means for mechanical connection, and/or for protecting the optical fiber.
更に機械的接続手段及び／又は光ファイバを保護する手段を提供する。

分岐

US2020391051
[0133] Referring now to FIG. 15, a device 1500 is illustrated wherein
【０１０４】
  ここで図１５を参照すると、装置（１５００）が示され、ここで、

the common output cable 209 is split by a beam splitter (not shown) to provide two or more output cables 1501 a , 1501 b for emitting two or more beams,
共通の出力ケーブル（２０９）は、２つ以上のビームを放射するために、ビームスプリッタ（図示せず）によって分岐されて、２つ以上の出力ケーブル（１５０１ａ）、（１５０１ｂ）を設け、

each delivering only a portion of the total EMR power transmitted by the common output cable 209 .
各々は、共通の出力ケーブル（２０９）によって伝播される全ＥＭＲ出力の一部のみを送る。

US2020264378
[0093] In the illustrative embodiment of FIG. 1, the input grating 102 includes a Bragg grating 104 .
【００８７】
  図１の例証的実施形態では、入力格子１０２は、ブラッグ格子１０４を含む。

In other embodiments, the input grating 102 is a surface relief grating.
他の実施形態では、入力格子１０２は、表面レリーフ格子である。

The input grating 102 can be implemented to bifurcate input light into two different portions. 
入力格子１０２は、入力光を２つの異なる部分に分岐させるために実装されることができる。

EP3864385
In addition, multiple electromagnetic radiation sources can be used and their optical signals combined in order to function as a single source of a beam of electromagnetic radiation (2) with more favorable spectral characteristics.
【０１３９】
  さらに、より好ましいスペクトル特性を有する電磁放射ビーム（２）の単一源として機能するために、複数の電磁放射源を使用し、それらの光信号を組み合わせることができる。

For instance, electromagnetic radiation from several LEDs and lasers
例えば、いくつかのＬＥＤ及びレーザからの電磁放射は

can be co-collimated using hot/cold mirrors, beam-splitters, bifurcated fiber optics, or other methods in order to produce a broadband beam.
広帯域ビームを生成するために、ホット/コールドミラー、ビームスプリッタ、分岐光ファイバ、又は他の方法を使用してココリメートすることができる。

US11054599
[0013] FIG. 1 illustrates an exemplary branched optical communication system 100 consistent with the present disclosure.
【０００９】
  図１は、本開示による例示の分岐光通信システム１００を示す。

The system 100 has been depicted in highly-simplified form for ease of explanation.
システム１００は、説明の便宜上、非常に簡略化された形式で図示されている。

The illustrated system 100 includes land-based trunk terminals 110 and 120 coupled to a trunk cable 112 , and a land-based branch terminal 160 coupled to the trunk cable 112 through a branch cable 162 . 
説明するシステム１００は、幹線ケーブル１１２に結合された地上系幹線端末１１０及び１２０並びに分岐ケーブル１６２を介して幹線ケーブル１１２に結合された地上系分岐端末１６０を含む。

US8535115
For example, a first optical fiber 170 a can transmit the light from a first light source 162 a to a first optical accesses 118 ,
例えば、第１の光ファイバ１７０ａは第１の光源１６２ａから第１の光学通路１１８に光を送出することができ、

and a second optical fiber 170 b can transmit the light from a second light source 162 b to a second optical access 118 .
第２の光ファイバ１７０ｂは第２の光源１６２ｂから第２の光学通路１１８に光を送出することができる。

A bifurcated third optical fiber 180 can be used to transmit the light from the substrate 10 from each of the optical accesses 118 back to the detector 164 .
分岐した第３の光ファイバ１８０を使用して、基板１０からの光を、光学通路１１８の各々から検出器１６４に送出して戻すことができる。

/////////

[0056] Furthermore, rather than using a bifurcated optical fiber to split the light from the light source,
【００５３】
  さらに、光源からの光を分割するのに分岐光ファイバを使用するのではなく、

other optical elements, such as beam splitters, e.g., a half-silvered mirror,
ビームスプリッタ、例えば、半透鏡などの他の光学要素を使用して、

can be used to split the light from the light source or rejoin the light paths from the optical accesses to the optical detector. 
光源からの光を分割し、または光学通路から光検出器までの光路を再結合することができる。

波長ロッカー

US10367588
[0077] The local oscillator frequency may be controlled to maintain a set LO frequency offset or within an offset range,
【００６８】
  局部発振器周波数は、設定されたＬＯ周波数オフセットを維持するように、またはオフセット範囲内に制御するか、

or it may be locked relative to one of edge of the wavelength channel, such as by using a wavelength locker. 
あるいは波長ロッカーを使用するなどして、波長チャネルのエッジの１つに対してロックし得る。

交差

WO2016191456
33. The tool holder of claim 32 wherein
［態様３３］

the extent of the clamp body is crosswise to the corresponding movements of the clamp plate end and the one or more clamping fingers

such that the first tolerance area provides tolerance crosswise to such corresponding movements,
前記クランププレートの端部と前記１つ又は複数の締付け指片との対応する移動に対して交差する許容範囲を前記第１の許容範囲領域が提供するように、

前記クランプ本体の長さが、前記クランププレートの端部と前記１つ又は複数の締付け指片との対応する移動に対して交差する方向にあり、

and whereas the second tolerance area provides tolerance in direction of such corresponding movements.
前記第２の許容範囲領域はこうした対応する移動の方向において許容範囲を提供する、

ことを特徴とする態様３２に記載の工具ホルダ。

EP3952938
Further, the vertical arrangement of the slots 234 is transverse to the suction path and parallel to gravity.
更に、スロット２３４の垂直方向の配置は、吸引経路に対して交差し、重力に対し平行である。

Thus, with further accumulation of the semisolid or solid waste material, at least a portion of the slots 234
このため、半固体または固体の廃棄物が更に蓄積しても、スロット２３４の少なくとも一部分は、

remain unobstructed until substantially an entirety of the basket 206 is consumed with the waste material, thereby maximizing the operational lifecycle of the manifold 124. 
バスケット２０６の実質的に全体が廃棄物により埋め尽くされるまで塞がらず、これによってマニホールド１２４の動作製品寿命が最大限に延びる。

造形

US9227366
[0002] This disclosure relates to a method and apparatus for fabricating three-dimensional objects from polymer based material. In particular, this invention relates to a three-dimensional fabrication apparatus having a print head and ink delivery system.
【０００２】
発明の分野
  本開示は、ポリマーベースの材料から三次元物体を造形する方法および装置に関する。特に、本発明は、プリントヘッドおよびインク送出システムを有する三次元造形装置に関する。

BACKGROUND OF THE INVENTION
【背景技術】
【０００３】
発明の背景

[0003] With the increased use of Computer Aided Design (CAD) solid modeling systems
コンピュータ支援設計(CAD)ソリッドモデリングシステムの使用の増加に伴い、

a new frontier of manufacturing technology has emerged that enables translation of the CAD output data into a three-dimensional physical object.
CADの出力データを三次元の物理的物体へと転換することを可能にする、製作技術における新しい最先端分野が登場した。

This technology is commonly referred to as solid freeform fabrication or layer manufacturing, which entails building an object on a layer-by-layer and point-by-point basis.
この技術は、一般的に、固体自由造形または積層製造と呼ばれ、層ごとにおよびポイントごとに物体を構築していく工程を伴う。

Examples of commercially available solid freeform fabrication systems include stereo lithography, selective laser sintering, laminated object manufacturing, and fused deposition modeling.
市販の固体自由造形システムの例としては、光造形法、選択的レーザー焼結法、薄膜積層法、および熱溶解積層法が挙げられる。

Other examples of solid freeform fabrication systems are known to those of skill in the art.
固体自由造形システムの他の例は、当業者に公知である。

US11472119
[0019] Central to the printing configuration for SLA, is the “light-engine,” or projector,
【００１３】
  ＳＬＡ用の印刷構成の中心的役割を果たすのは「光エンジン」、すなわちプロジェクタであり、

which is responsible for patterning light/energy to drive polymerization reactions of photo-sensitive liquid resins in the manufacturing process.
プロジェクタは、造形（＊通常は「製造」）プロセスにおいて感光液体樹脂の重合反応を駆動するように光／エネルギーをパターニングすることに関与する。

The spectrum of light projected, power-density of the projected light, and the rate in which the light can be patterned
投影光のスペクトル、投影光の出力密度、および光をパターニングできる速度はすべて、

all govern the capabilities of the additive manufacturing device, or printer, that utilizes the light engine.
光エンジンを利用する積層造形デバイスまたはプリンタの機能を支配する。

US10974460
[0003] Additive manufacturing is a set of methods that allows objects to be fabricated via selective addition of material.
【０００３】
  積層製造は、オブジェクトが材料の選択的追加によって造形（＊通常は「製作」、「製造」）されることを可能にする一連の方法である。

A typical additive manufacturing process works by slicing a digital model (for example, represented using an STL file) into a series of layers.
一般的な積層製造プロセスは、デジタルモデル（例えば、ＳＴＬファイルを使用して表される）を一連の層にスライスすることによって機能する。

Then the layers are sent to a fabrication apparatus that deposits the layers one by one from the bottom to the top.
次に、これらの層は、底部から最上部まで１つずつ層を堆積する造形装置に送られる。

Additive manufacturing is rapidly gaining popularity in a variety of markets including automotive, aerospace, medical devices, pharmaceuticals, and industrial tooling.
積層製造は、自動車、航空宇宙、医療デバイス、調剤及び工業用工具を含む様々な市場で急速に支持を得ている。

早期劣化

US11462918
[0118] In addition to cell failure, as battery cells age over time (and multiple charge/discharge cycles), the impedance/resistance, and capacity degrade and battery cell characteristics diverge.
【０１０２】
  セルの故障に加えて、バッテリセルが年月（及び複数回の充電／放電サイクル）を経て劣化すると、インピーダンス／抵抗、及び容量は劣化し、バッテリセルの特性にばらつきが生じる。

Premature degradation of even a single battery cell can bring down a traditional pack, resulting in wasted energy trapped in remaining good cells. 
単一のバッテリセルの早期劣化ですら、伝統的なパックを停止させ、その結果残りの良好なセルに捕捉されていたエネルギーが浪費される。

US2019083208
 Such improper contours may lead to aesthetic imperfections, ledges, appearances of black triangles between teeth due to the unfilled spaces between the teeth, and/or poor support for the patient's gingiva,
かかる不適切な外形は、審美上の欠陥、レッジ、歯の間の充填されていない空間による歯間のブラックトライアングル（black triangle）の出現、及び／又は患者の歯肉の不十分な支持につながり、

which may result in tooth sensitivity, plaque traps, premature deterioration of the gingiva, and/or patient dissatisfaction. 
これは、歯の過敏、歯垢の捕捉、歯肉の早期劣化、及び／又は患者の不満、につながる恐れがある。

US9589773
[0006] Insufficient clean time may cause the undesirable accumulation of reactant products and byproducts within the manufacturing equipment which may result in increased device defectivity and process drift. 
【０００３】
  不十分な洗浄時間は、製造機器内の反応生成物及び副生成物の望ましくない蓄積を引き起こし、装置の欠陥及び処理の流れを増やす可能性がある。

 Alternatively, excessive clean time can result in prolonged exposure to corrosive environments which may result in premature degradation of the manufacturing equipment components.
代替的には、過剰な洗浄時間は、結果的に腐食性環境への長時間の曝露を生じさせ、製造機器の構成要素の早期劣化をもたらす可能性がある。

In addition, excessive clean time has a generally negative impact on throughput.
加えて、過剰な洗浄時間は、一般にスループットに負の影響を与える。

斜め方向に

US9589792
In certain embodiments, the pattern of openings is obliquely oriented with respect to the structure of substrate 101 ,
特定の実施形態において、開口部のパターンは、基板１０１の構体に対して斜め方向に配置され、

for example, wherein the openings in patterned mask layer(s) 111 are rotated by between about 1 degree and about 44 degrees with respect to a high-symmetry axis of the substrate, such as a projection of the c-axis, an m-axis, or an a-axis on surface 102 .
例えば、パターンマスク層（単数または複数）１１１の開口部を基板の高対称性の軸（例えば、表面１０２上のｃ軸、ｍ軸またはａ軸の延長線）に対して約１度および約４４度だけ回転させる。

US3485850
As illustrated, the first ramped portions 306, 308 may include tongue portions 316, 318
図示する通り、第１勾配部分３０６、３０８は、舌部分３１６、３１８を含んでもよく、

with the tongue portions 316, 318 extending in an oblique direction with respect to the upper surface 40 of the endplate 14.
舌部分３１６、３１８は、終板１４の上表面４０に対して斜め方向に延在する。

As further illustrated, the second ramped portions 310, 312 may include tongue portions 320, 322 that extend in an oblique direction with respect to the upper surface 40 of the endplate 14.
さらに図示する通り、第２勾配部分３１０、３１２は、終板１４の上表面４０に対して斜め方向に延在する、舌部分３２０、３２２を含んでもよい。

US10542981
In the present example, transition surfaces ( 1134 ) are flat and obliquely angled relative to surfaces ( 1120 , 1132 ),
この例では、移行表面（１１３４）は平坦であり、表面（１１２０、１１３２）に対して斜め方向に角度がつけられており、

thereby providing a sloped transition between surfaces ( 1120 , 1132 ).
これにより、表面（１１２０、１１３２）の間に傾斜した移行部が設けられる。

In some other versions, transition surfaces ( 1134 ) are curved.
一部の他の変形では、移行表面（１１３４）は湾曲している。

In some other versions, transition surfaces ( 1134 ) are perpendicular to surfaces ( 1120 , 1132 ),
一部の他の変形では、移行表面（１１３４）は、表面（１１２０、１１３２）に対して垂直であり、

thereby providing a steep step-down transition between surfaces ( 1120 , 1132 ).
これにより、表面（１１２０、１１３２）との間に急な段階的溝が設けられる。

格子欠陥

US11276754
[0039] According to an embodiment, the semiconductor device may comprise lattice defects in the second source sub-region,
【００３３】
  一実施形態によれば、半導体デバイスは第２のソース部分領域内の格子欠陥を含み得、

wherein the lattice defects reduce the mobility of free charge carriers
格子欠陥は自由電荷キャリアの移動度を低減し、

and furthermore can decrease the effective doping concentration in the second source sub-region by a partial compensation of the donors in the second source sub-region. 
さらに、第２のソース部分領域中のドナーの部分的相殺によって第２のソース部分領域内の実効ドーピング濃度を減少させることができる。

US10418781
[0004] Laser facet degradation is a complex physical and chemical reaction process that can be driven by light, current（＊無冠詞）, and heat,
【０００４】
  レーザファセットの劣化は、光、電流、および熱によって駆動される可能性がある複雑な物理的および化学的反応プロセスであり、

and can lead to short-term power degradation during burn-in, long-term power degradation during normal operation（＊無冠詞）, and, in severe cases, to catastrophic optical damage (COD) to the mirror surfaces themselves, resulting in complete failure of the devices.
バーンイン中の短期的な電力劣化、通常の動作中の長期的な電力劣化、そして深刻な場合によっては、ミラーファセット自体に壊滅的な光学損傷（ＣＯＤ）を生じさせ、装置の完全な故障を招く。

Complex oxides and point defects can form and be trapped at the interface between the reflective coating and the semiconductor material.
反射性コーティングと半導体材料との間の界面に複合酸化物および点欠陥が形成されて捕捉される可能性がある。

As current（＊無冠詞）is applied to the device, charge carriers diffuse toward the facet since the surface acts as a carrier sink (due to the presence of states within the band gap created by point defects and oxidation of the surface).
電流がデバイスに印加されると、（点欠陥および表面酸化によって生じるバンドギャップ内の状態の存在により）表面がキャリアシンクとして作用するので、電荷キャリアは端面に向かって拡散する。

Light emission from the diode can photo-excite charge carriers (electrons and holes) at the facet surface,
ダイオードからの発光は、ファセット面で電荷キャリア（電子および正孔）を光励起することができ、

which can electro-chemically drive an oxidation reaction at the facet.
それはファセット面で酸化反応を電気化学的に推進することができる。

Additionally, electrons and holes generated by the absorbed light can recombine in a non-radiative manner,
さらに、吸収された光によって生成された電子と正孔は非放射的に再結合し、過度の熱発生を引き起こし、

causing excessive heat development and contributing to the formation of lattice defects (both point defects and dislocations). 
格子欠陥（点欠陥と転位の双方）の形成に寄与する可能性がある。

を受け付けると

US11209961
 In response to receiving the request to display web form 1734 , the device
ウェブフォーム１７３４を表示する要求を受け付けると、機器は、

displays web form 1734 and populates fields 1736 in web form 1734 with personal information 1738 - 1 thru 1738 - 6 based on the active user-specific profile (e.g., a name, address and phone number for “John Doe”).
ウェブフォーム１７３４を表示し、アクティブなユーザ固有プロファイルに基づいて個人情報１７３８−１から１７３８−６まで（例えば、「Ｊｏｈｎ Ｄｏｅ」の名前、住所及び電話番号）をウェブフォーム１７３４の欄１７３６に追加する。

Personal information 1738 used to populate fields 1736 are drawn from information associated with the active user-specific profile, such as contact information associated with the active user-specific profile.
欄１７３６に追加するために使用する個人情報１７３８は、アクティブなユーザ固有プロファイルに関連付けられた連絡先情報などの、アクティブなユーザ固有プロファイルに関連付けられた情報から引き出される。

US10963460
[0042] The query language processing unit 240 provides a predetermined instruction set group G adapted to process data according to the data query command signal.
【００３４】
  クエリ言語処理ユニット２４０は、データクエリコマンド信号に従ってデータを処理するように適合された予め定められた命令セット群Ｇを提供する。

The instruction set group G includes one or more instruction sets S(i).
この命令セット群Ｇは、１つまたは複数の命令セットＳ（ｉ）を含む。

If the query language processing unit 240 accepts the data query command signal, then
クエリ言語処理ユニット２４０がデータクエリコマンド信号を受け付けると、

the FPGA 215 is reconfigured to provide processing units PU(i) to process the data stream in parallel according to the predetermined instruction set group G. PU(i) are the processing units 230 in FIG. 2(A).
ＦＰＧＡ２１５は、予め定められた命令セット群Ｇに従ってデータストリームを並列に処理するための処理ユニットＰＵ（ｉ）を提供するように再構成される。

US2020052896
[0004] Implementations use the state data to enable the client device to later access a controlled access resources outside of the recognized location.
【０００４】
  実装態様は、状態データを使用して、クライアントデバイスが認識済みの所在地以外の場所から、アクセス管理されたリソースに後でアクセスできるようにする。

For example, once a student leaves the campus implementations enable the student to access, for a limited time, the resources as-if the student were still on-campus.
たとえば、学生が大学構内から出ると、実装態様は、この学生が、限られた時間、本人がまだ大学構内にいるかのようにリソースにアクセスできるようにする。

Thus, implementations provide seamless access. 
このように、実装態様によって、シームレスにアクセスできるようになる。

When the system receives a request for a controlled access resource that originates outside of a recognized location, the system checks for unexpired state data for the device.
認識済みの所在地以外の場所から発信された、アクセス管理されたリソースの要求を受け付けると、システムは、期限が満了していないデバイスの状態データをチェックする。

US11151311
[0089] Once the remote provider receives the autofill request, it in turn may provide at least two pieces of information to the operating system:
【００８２】
  リモートプロバイダがオートフィル要求を受け付けると、少なくとも２つの情報をオペレーティングシステムに提供してもよい。

(1) suggested user data 312 (including suggested user values “felipe@x.com” and “LemeF”); and
（１）候補ユーザデータ３１２（候補ユーザ値「ｆｅｌｉｐｅ＠ｘ．ｃｏｍ」および「ＬｅｍｅＦ」を含む）、および

(2) a field classification request 314 (shown here as “autofillId1”).
（２）フィールド分類要求３１４（ここでは、「ａｕｔｏｆｉｌｌＩｄ１」と示す）。

US10509672
[0671] Each resource manager instance, accepting the management task, monitors those resources under its responsibility.
各資源管理アセンブリは、管理タスクを受け付けると、自身の責任の下にこれらの資源を監視する。

If a resource faults for whatever reason, the resource manager instance determines and performs the corrective actions, such as finding replacement resources and/or notifying appropriate process.
どんな理由であれ資源が障害を被ると、資源管理アセンブリは、交換資源の発見及び／又は適切なプロセスの通知等の正しい動作を判定し且つ実行する。

US10788329
[0086] In response to the service request, the network service can select one of the service providers near the service location to fulfill the first leg of the multi-leg route by transporting the user to the first transfer location ( 830 ).
【００７６】
  サービス要求に応答して、ネットワークサービスはユーザーを第１乗り換え地点まで輸送することで多区間経路の第１区間を遂行するためにサービス地点に近いサービス提供者のうち１人を選択できる（８３０）。

Once a provider accepts the service request, the network service
提供者がサービス要求を受け付けると、ネットワークサービスは

can transmit data to be displayed on the service requester device that（＊離れた先行詞；新情報）informs the user about the current leg, including information about the provider, transfer location, and estimated time to arrival ( 840 ).
サービス要求者装置に表示されユーザーに現在の区間を知らせるデータ（その提供者、乗り換え地点、及び見積到着時間に関する情報を含む）を送信できる（８４０）。
【００７７】

US10723027
[0040] As the robot 100 traverses the environment, such as the home 10 depicted in FIG. 1, the robot 100 , the on-premise computing device 120 , and the remote cloud services system 150 cooperate to determine a location and a pose of various objects that are present within the environment. 
【００３２】
  ロボット１００が、図１に示す家１０などの環境を横切ると、ロボット１００、自社運用のコンピューティングデバイス１２０、及び遠隔クラウドサービスシステム１５０は協力して、環境内に存在する様々な対象物の位置、及び姿勢を決定する。

 In this manner, when receiving an input from a user corresponding to a request to find an object, the robot 100 
このようにして、対象物の検索要求に対応するユーザからの入力を受け付けると、ロボット１００は、

utilizes programming to locate the object and execute the optimal grasp pattern to grasp the object based on the pose of the object. 
対象物の位置を特定するためのプログラミングを利用し、最適な把持パターンを実行し、対象物の姿勢に基づいて、対象物を把持する。

走査されるレーザ

US11378732
[0100] In many embodiments, the light source is a laser scanned in at least one angular direction using an electromechanical beam deflector.
【００９３】
  多くの実施形態では、光源は、電気機械的ビーム偏向器を使用して、少なくとも１つの角度方向において走査されるレーザである。

In some embodiments, the laser scanner may be an electro optical device.
いくつかの実施形態では、レーザ走査装置は、電気光学デバイスであってもよい。

US11331756
[0030] In FIG. 2A an example of a scan path 200 is shown along which a laser processing beam is scanned in the process of laser patterning a target, such as an additive manufacturing target. 
【００２１】
  図２Ａでは、走査経路２００の一実施例が示され、付加製造の標的などの標的をレーザパターン化する際に、該走査経路に沿ってレーザ加工ビームが走査される。

At a time t1 , the laser processing beam is traveling with scan velocity, e.g., a particular speed and a direction to the right in the plane of FIG. 2A.
時間ｔ_１において、レーザ加工ビームは、走査速度で、例えば特定の速度で、図２Ａの平面において右側の方向に進行している。

The scan speed of the laser processing beam begins to slow as the laser processing beam reaches another position at a time t2 closer to a path corner. 
時間ｔ_２において、レーザ加工ビームが経路の隅部により近い別の位置に到達するにつれて、レーザ加工ビームの走査速度が減少し始める。

US9787959
[0003] Most projection devices are available today are class 2 or greater as the laser light which is emitted from the projection device is focused or collimated.
【０００３】
  現在利用可能なほとんどの投射装置は、投射装置から放出されるレーザ光が焦点を合わされている、またはコリメートされているので、クラス２またはそれ以上である。

The laser light which is reflected and scanned across the display screen by the MEMS mirror defines pixels of the projected image.
ＭＥＭＳミラーによって反射され、ディスプレイスクリーンにわたって走査されるレーザ光は、投射される画像の複数の画素を定義する。

に対向する（まとめ）

US2022205449（＊既出）
[0052] The cylindrical pump stator 73 is provided on the inner peripheral surface of the housing 4 .
【００４４】
  また、ハウジング４の内周面には、円筒状のポンプステータ７３が設けられている。

The inner peripheral surface of the pump stator 73 faces the outer peripheral surface of the cylindrical portion 14 in the radial direction with a small interval.
ポンプステータ７３の内周面は、円筒部１４の外周面と小さな間隔を隔てて半径方向に対向する。

US2020376700（＊既出）
[0026] The exemplary polishing system 100 includes the platen assembly 102 having a polishing pad 110 mounted thereon,
【００１８】
  [0025] 例示的な研磨システム１００は、研磨パッド１１０が上に取り付けられたプラテンアセンブリ１０２と、

a substrate carrier 108 disposed above the polishing pad 110 and facing there towards（＊theretoward）.
研磨パッド１１０の上方に配置された基板キャリア１０８であって、研磨パッド１１０に対向する基板キャリア１０８とを含む。

EP3966941（＊既出）
The second antenna plate is spatially disposed from the first antenna plate
第２のアンテナプレートは、第１のアンテナプレートから間隔をあけて配置され、

and the second interior surface of the second antenna plate faces the first interior surface of the first antenna plate. 
第２のアンテナプレートの第２の内面は、第１のアンテナプレートの第１の内面に対向する。

WO2019190882（＊既出）
A planar buckling restraint plate (BRP) on a second surface of the yield plate, opposite the first surface,
降伏プレートの第１の表面に対向する第２の表面上の平面座屈拘束プレート（ＢＲＰ）は、

may be bolted through the yield plate and into the beam to prevent buckling of the plate under compressive loads.
圧縮荷重下でのプレートの座屈を防止するために、降伏プレートを通して梁の中にボルト止めすることができる。

EP3084374（＊既出）
[0072] An edge of prism 122 opposite to surface 122a is also but not necessarily supported from below by a prism base 204.
【００６７】
  表面１２２ａに対向するプリズム１２２の縁は、プリズム基底２０４によって下からも支持されるが、そうでなくてもよい。

WO2015164569（＊既出）
In some embodiments, each glass band occupies less than the entire thickness of glass sheet 100c as shown in FIG. 15.
図１５に示すように、一部の実施の形態において、各々のガラス帯は、ガラスシート１００ｃの全厚さ未満を占めている。

In other embodiments, one or more glass bands can occupy substantially the entire thickness of the glass sheet.
別の実施の形態において、１つ又は複数のガラス帯は、実質的にガラスシートの全厚さを占めることができる。

Glass sheet 100c comprises a core 150, a first band 152 adjacent to the core, and a second band 154 adjacent to the core and opposite the first band.
ガラスシート１００ｃは、コア１５０、コアに隣接した第１の帯１５２、及びコアに隣接し、第１の帯に対向する第２の帯１５４を有している。

WO2017044231（＊既出）
6. The flow-propelled rotary knife system of claim 5, wherein opposite ends of the at least one blade
【請求項６】
  前記少なくとも一つのブレードの反対の端部は、

 

are secured to diametrically opposite portions of the blade holder at a pitch angle defined by the formula: Pitch Angle = Arc Tan (2 x Pi x Radius/Pitch Length),

 

where Radius is a radial distance from the center of the central aperture of the blade holder, and Pitch Length is a distance the product travels during one full rotation of the blade.

半径を前記ブレードホルダの前記中央開口の中心からの半径方向の距離とし、ピッチ寸法を前記ブレードの一回転の間に前記生産物が移動する距離としたときに、

 

下記式で定義されるピッチ角で前記ブレードホルダの直径方向に対向する部分に固定されることを特徴とする請求項５に記載の流れ駆動型回転ナイフシステム。
 

US10253637（＊既出）
Blade 170 further includes an airfoil 202 and a tip 204 at a distal radial end thereof, opposite blade root 203 . 
動翼１７０は、エーロフォイル２０２および動翼根元２０３に対向する遠位半径方向端部の先端２０４とをさらに含む。

US2020306883
[0089] With continued reference to FIGS. 4-10, the additive manufacturing system 304 includes a guide member 468 , as indicated above.
【００７８】
  続いて図４－１０を参照すると、付加製造システム３０４は、上記のガイド部材４６８を含む。

The guide member 468 may be a first guide member 468 and the additive manufacturing system 304 may further include a second guide member 468 opposing the first guide member 468 . 
ガイド部材４６８は、第１のガイド部材４６８であり、付加製造システム３０４は、第１のガイド部材４６８に対向する第２のガイド部材４６８を更に含みうる。

US10968969
[0100] Optional substep 326 of substep 324 includes engaging a brake pad with an outer side of each stator structure.
【００９０】
  サブステップ３２４における任意のサブステップ３２６は、各ステータ構造体の外面サイドにブレーキパッドを係合させることを含む。

Each stator may include a planar surface such（＊such a surface：名詞を修飾、形容詞的、態様；so thatは動詞を修飾、副詞的、目的、結果）that the brake pad may be brought into frictional contact with the stator during rotation, and thereby slow the stator.
各ステータは、平面を有しており、これにより、回転中にブレーキパッドをステータと摩擦接触させて、ステータを減速させることができる。

For example, a surface of each stator axially opposite the corresponding wobble plate may be contacted.
例えば、各ステータにおける、対応する転頭プレートと軸方向に対向する面に、接触させることができる。

In some examples, the brake module may be configured for engagement by a hydraulic disc brake caliper.
いくつかの例において、ブレーキモジュールは、油圧ディスクブレーキキャリパーを係合させるように、構成することができる。

US11280222
[0023] FIG. 12 is a perspective view of fuselage sections, depicting faying（＊fay: fit closely or tightly; Merriam-Webster Unabridged）joints that may be assembled in accordance with the present disclosure
【図１２】胴体セクションの透視図であり、本開示に従って組付け可能な、互いに対向する接合部が示されている。