シールド基板

EP2006228967(FEDERAL MOGUL WORDWIDE INC)
[0005] Substrates used as heat shields should substantially inhibit radiant transfer, or conductive transfer, or both depending on the operating environment of the substrate.
熱シールドとして用いられる基板は、基板の動作環境に応じて、放射伝達もしくは伝導伝達またはこれら両方を実質的に抑制しなければならない。

Heat shield substrates can be formed of a non-woven layer and a reflective layer supported by the non-woven layer.
熱シールド基板は、不織布層と、当該不織布層によって支持される反射層とから形成され得る。

The non-woven layer can be formed by compressing randomly oriented fibers one on top of another in the manner of a felt material.
不織布層は、フェルト材料の態様で重なってランダムに方向付けされた繊維を圧縮することによって形成され得る。

The fibers are randomly oriented substantially in the plane of the substrate.
繊維は、実質的に基板の面においてランダムに方向付けされる。

The reflective layer may be a metal foil such as aluminum, copper, silver or gold having good optical reflective characteristics.
反射層は、良好な光反射特性を有するアルミニウム、銅、銀または金などの金属箔であってもよい。

US8618496(MAPPER LITHOGRAPHY IP BV [NL])
[0145] The cross-talk shield provides an electrical shielding of electrodes 204 against electro(magnetic) fields of any other circuitry in the vicinity of the electrodes.
【０１０８】
  クロストークシールドは、電極の近傍の他の回路類の電（磁）場に対する電極２０４の電気的シールドを提供する。

It appears that the shielding is at its optimum when a distance between the planar substrate and the planar shield substrate is smaller than 10 micrometer and/or a thickness of the shield planar substrate is about a diameter of the through openings of the planar substrate.
平面基板と平面シールド基板の間の距離が１０マイクロメートルよりも小さい、および／または、シールド平面基板の厚さが、ほぼ平面基板の貫通開口の直径であるとき、シールドがその最適状態にあるようである。

巻線の中点

US8723349(GEN ELECTRIC [US])
[0042] As can be seen, the vector diagram includes nine main vectors A 1 , A 2 , A 3 , B 1 , B 2 , B 3 , C 1 , C 2 , C 3 emanating from a common point of origin O, which corresponds to the neutral point 102 of the stator winding in FIG. 4.
【００３１】
  ここから分かるように、ベクトル図は、起点である共通点Ｏから発する９つのメインベクトルＡ１、Ａ２、Ａ３、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３を含んでおり、この起点は、図４のステータ巻線の中点１０２に相当する。

The main vectors A 1 -C 3 represent the phase outputs which are delivered by conductors 108 a to 108 i to the rectifier device 82 in FIG. 3. 
メインベクトルＡ１～Ｃ３は、導線１０８ａから１０８ｉによって図３の整流器デバイス８２に送られる各相出力を表している。

US8629636(VALEO SYS CONTROLE MOTEUR SAS [FR])
[0058] Advantageously, the connection points A 0 , B 0 , C 0 are the mid-points of each phase winding
【００４２】
  接続点Ａ０，Ｂ０，Ｃ０は、各相巻線の中点であり、

and are positioned so that each of the two groups of coils comprises n coils in series and the same number of turns.
２つのコイルグループの各グループが、ｎ本の直列コイル及び同じターン数を有するように配置されていると有利である。

へたり

US12011802(HILTI AG [LI])
[0012] If the clamping device has a clamping member in the form of a spring plate, which is preferred,
【００１２】
  クランプ装置は、スプリングプレートの形態のクランプ部材を有することが好ましく、この場合、

the clamping device obtains increased insensitivity to settling since the spring plate is in nonpositive engagement with the tool disk, which compensates thermal expansion.
スプリングプレートは、ツールディスクと非確動式に係合し、それにより熱膨張が補償されるため、クランプ装置は、熱へたり性の影響を受けにくくなる。

WO2019203777(SCHAEFFLER TECHNOLOGIES AG [DE])
[0033] The proposed solution shows a clutch system 1 that is in a more stable and weight-optimized package, containing a leaf spring unit 8 .
【００３０】
  提案された解決手段によって、ひとまとめで一層安定していて、重量が最適化された、板ばねユニット８を有するクラッチ装置１が示される。

That improves the variation in performance of the clutch over its lifetime, since less torque needs to be transmitted by means of the leaf spring unit 8 ;
これによって、クラッチの出力の変化が寿命にわたって改善される。なぜならば、板ばねユニット８を介して少しのトルクしか伝達されないからである。

this increases the safety against buckling of the leaf springs of the leaf spring unit 8 and their tendency to settle over the lifetime of the clutch system 1 . 
これによって、板ばねユニット８の板ばねの座屈安全性が高まり、クラッチ装置１の寿命にわたって、へたり傾向が減少する。

WO10145499(OTECHOS AS [NO])
[0003] All of the aforementioned types of gaskets have their advantages and disadvantages.
【０００３】
  前述したタイプのガスケットの全てがそれぞれの長所と短所とを有する。

Gaskets of ductile materials are cheap, but such materials will over time yield due to the pressure and the flange connection must be re-tightened in order to remain tight, and may therefore have a relatively short life. 
延性材料でできたガスケットは安価であるが、そのような材料は、時間が経つにつれ圧力によってへたり、フランジ接合は、締まりを維持するために締結し直さなければならないため、寿命が比較的短くなり得る。

から噴射

WO2022020280(CLEARIT LLC [US])
For the F-CAP treatment, an activated liquid-gas mixture (Neon and carbon dioxide infused water) was injected via a dielectric barrier plasma generating handpiece attached to 23 Gauge needle.
【０１５６】
  F-CAPでは、ネオンと炭酸気体を混合した活性液体を、23ゲージ針に取り付けた誘電体バリアプラズマ発生ハンドピースから噴射した。

Fifteen lateral injections were delivered with a few seconds exposure dose per injection and estimated fluid injection of 15 milliliters.
1回の照射時間は数秒、液剤の注入量は15ミリリットルで、横方向に15回注入した。

US2022372323(LUBRIZOL ADVANCED MAT INC [US])
[0170] Printing of Water-Based Pigment Ink onto Subject Ink-Receptive Coating
【０１６２】
  対象のインク受容性コーティングへの水ベース顔料インクの印刷

[0171] A water-based pigmented ink
水ベース顔料インクを、

was prepared by combining:

41.4 grams of deionized water, grams of a 29.9 grams of a 14% carbon black pigment dispersion in water,
４１．４グラムの脱イオン水と、水中の２９．９グラムの１４％カーボンブラック顔料分散体と、

11.9 grams of resin R-1, 1.4 grams of a 35% high density polyethylene wax dispersion,
１１．９グラムの樹脂Ｒ－１と、１．４グラムの３５％高密度ポリエチレンワックス分散体と、

7 grams of propylene glycol, 7 grams of glycerin,
７グラムのプロピレングリコールと、７グラムのグリセリンと、

0.02 grams of Acticide® MBS biocide, 0.7 grams of Surfynol® 440 and 0.165 grams of BYK® 3455 surfactants.
０．０２グラムのＡｃｔｉｃｉｄｅ（登録商標）ＭＢＳ殺生物剤と、０．７グラムのＳｕｒｆｙｎｏｌ（登録商標）４４０と、０．１６５グラムのＢＹＫ（登録商標）３４５５界面活性剤

とを組み合わせることによって調製した。

The ink was loaded into an Epson DX-5 piezo printhead
インクを、Ｅｐｓｏｎ  ＤＸ－５ピエゾ印刷ヘッドに充填し、

and jetted from the printhead onto a Mottle corrugated board coated with 2.5 gsm of dry coating applied from the ink-receptive coating of Example 1.
実施例１のインク受容性コーティングから適用された２．５ｇｓｍの乾燥コーティングでコーティングされたＭｏｔｔｌｅ段ボールに印刷ヘッドから噴射した。

US9314812(NORDSON CORP [US])
[0035] After the discrete volume of liquid material 31 is jetted from the nozzle outlet 78 , as described above,
【００２４】
  上述したように、個別量の液体材料３１をノズル出口７８から噴射した後で、

pressurized air may again be supplied to piston cavity 64 to
加圧空気を再びピストンキャビティ６４に供給して

cause piston rod 54 to move in a direction away from nozzle 52 and
ピストンロッド５４をノズル５２から離れる方向に移動させることができ、

the entire process may be repeated to dispense successive discrete volumes of liquid material from nozzle outlet 78 as may be desired.
所望である場合は、プロセス全体を繰り返して連続的な個別量の液体材料をノズル出口７８から吐出することができる。

排気する

WO2015073658(BROOKS AUTOMATION INC [US])
[0031] The vacuum load lock 1010 may be located between and connected to the mini-environment 1060 and the back end 1020.
【００１１】
  真空ロードロック１０１０は、ミニエンバイロメント１０６０とバックエンド１０２０との間に位置して、ミニエンバイロメント１０６０とバックエンド１０２０とに接続されてもよい。

It is noted that the term vacuum as used herein may denote a high vacuum such as 10-5 Torr or below in which the substrate are processed.
本明細書において使用される真空という用語は、基板が処理される、１０^-5Ｔｏｒｒ以下のような高真空を意味してもよい。

The load lock 1010 generally includes atmospheric and vacuum slot valves.
ロードロック１０１０は、一般的に、大気および真空スロットバルブを含む。

The slot valves
スロットバルブは、

may provide the environmental isolation employed to

evacuate the load lock after loading a substrate from the atmospheric front end and to maintain the vacuum in the transport chamber when venting the lock with an inert gas such as nitrogen. 
大気フロントエンドから基板を搭載した後に、ロードロック内を排気するために使用され、および、窒素などの不活性ガスを用いてロック内に通気するときに、搬送チャンバ内の真空を維持する

ために使用される環境隔離を提供する。

WO2022271383(APPLIED MATERIALS INC [US])
[0029] In some embodiments, the RF generator assembly 160 and RF generator 118 are
【００２２】
  [0029] 幾つかの実施形態では、RF生成器アセンブリ１６０及びRF生成器１１８が、

used to ignite and maintain a processing plasma 101 using the processing gases disposed in the processing volume 129 and fields generated by the RF power (RF signal) delivered to the support base 107 by the RF generator 118.
処理空間１２９内に配置された処理ガス、及び、RF生成器１１８によって支持ベース１０７に供給されたRF電力（RF信号）によって生成された電場を使用して、処理プラズマ１０１を点火し維持するために使用される。

The processing volume 129 is fluidly coupled to one or more dedicated vacuum pumps through a vacuum outlet 120,
処理空間１２９は、減圧出口１２０を介して１以上の専用減圧ポンプに流体結合されている。

which maintain the processing volume 129 at sub-atmospheric pressure conditions and evacuate processing and/or other gases, therefrom.
１以上の専用減圧ポンプは、処理空間１２９を準大気圧状態に維持し、処理空間１２９から処理ガス及び／又は他のガスを排気する。

In some embodiments, the substrate support assembly 136, disposed in the processing volume 129, is disposed on a support shaft 138 that is grounded and extends through the chamber base 124.
幾つかの実施形態では、処理空間１２９内に配置された基板支持アセンブリ１３６が、接地され且つチャンバベース１２４を貫通して延在する支持シャフト１３８上に配置される。

However, in some embodiments, the RF generator assembly 160 is configured to deliver an RF power to the bias electrode 104 disposed in the substrate support 105 versus the support base 107.
しかし、幾つかの実施形態では、RF生成器アセンブリ１６０が、支持ベース１０７に対して基板支持体１０５内に配置されたバイアス電極１０４にRF電力を供給するように構成される。

WO2019156753(VELTEK ASS INC [US])
 [0005] A negative air pressure room is maintained at an absolute air pressure that is either less than atmospheric pressure, less than the air pressure in spaces adjacent the clean room, or both.
【０００５】
  負圧の領域は、絶対圧が大気圧より低いか、またはクリーンルームに隣接する空間の空気圧より低く、あるいは両方より低く維持される。

The negative pressure is maintained by pumping air out of the room at a rate faster than that at which filtered and/or conditioned air is pumped into the room.
負圧は、濾過された、または空調された空気が区域内へ流入する量よりも速く領域の外へ排気することにより維持される。

Negative pressure rooms are often used when there is a concern that contaminants in the air in the room may pose a potential health threat to human health in adjacent spaces or the environment.
負圧の領域は、隣接する空間の人間や環境に対し、領域内の空気中の汚染物質が潜在的な健康への脅威となりうる懸念がある場合にしばしば用いられる。

WO2022265887(3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US])
In either process the vacuum molding roll sleeve 700 is mounted on rotatable backup roll 737.
 いずれのプロセスにおいても、真空成型ロールスリーブ７００は、回転可能なバックアップロール７３７に装着される。

Backup roll 737 may be expandable (e.g., a hydraulic pressurized backup roll) in order to ensure a snug frictional engagement between the vacuum molding roll sleeve and the backup roll.
バックアップロール７３７は、真空成型ロールスリーブとバックアップロールとの間のぴったりした摩擦係合を確実にするために、拡張可能（例えば、油圧加圧バックアップロール）であってもよい。

Other methods for securing the vacuum molding roll sleeve to the backup roll may be used (e.g., mechanical interlocking ridges/slots that securely engage corresponding structures on the backup roll, mechanical fasteners, or adhesive).
真空成型ロールスリーブをバックアップロールに固定するための他の方法を使用してもよい（例えば、バックアップロール上の対応する構造にしっかりと係合する機械相互連結リッジ／スロット、メカニカルファスナー、又は接着剤）。

In use, driving the backup roll causes the vacuum molding roll sleeve to rotate around a common axis.
使用時には、バックアップロールを駆動することにより、真空成型ロールスリーブが共通軸の周りを回転する。

During use, an external vacuum source may be applied to the vacuum ports, thereby evacuating the vacuum manifold in order to facilitate contact between molten or softened polymer and the molding surface.
使用中、外部真空源が真空ポートに適用されてもよく、それによって、溶融した又は軟化したポリマーと成型面との間の接触を促進するために、真空マニホールドを排気する。

回転動力

US2019047425(HONDA MOTOR CO LTD [JP])
8. Summation of the Embodiments
【００９８】
［８．各実施形態のまとめ］

[0112] The contact charging system 10 , 10 a , 10 b , 140 , 210 according to the first to sixth embodiments
第１～第６実施形態に係る接触充電システム１０、１０ａ、１０ｂ、１４０、２１０は、

charges the high-voltage battery 102 (a power storage) of the electric vehicle 12 , 12 a , 12 b , 212 by supplying electric power from the power feeding terminal 36 , 148 , 236 of the power feeding device 30 , 30 a , 30 b , 142 , 230 to the power receiving terminal 84 , 284 of the electric vehicle (power receiving device) 12 , 12 a , 12 b , 212 .
給電装置３０、３０ａ、３０ｂ、１４２、２３０の給電端子３６、１４８、２３６から電動車両（受電装置）１２、１２ａ、１２ｂ、２１２の受電端子８４、２８４に電力を供給することにより電動車両１２、１２ａ、１２ｂ、２１２の高圧バッテリ１０２（蓄電部）を充電する。

The power feeding terminal 36 , 148 , 236 and the power receiving terminal 84 , 284 are both rotatable.
給電端子３６、１４８、２３６と受電端子８４、２８４は共に回転可能である。

Further, the feeding-side motor 38 or the receiving-side motor 110 , 238 (a rotational power mechanism) for rotating either one of the power feeding terminal 36 , 148 , 236 and the power receiving terminal 84 , 284 is included.
更に、給電端子３６、１４８、２３６と受電端子８４、２８４のいずれか一方を回転させる給電側モータ３８又は受電側モータ１１０、２３８（回転動力機構）が備えられる。

創薬

EP4346868(UNIV UTAH RES FOUND [US])
EXAMPLE 9: Selectivity of RgIA-5474 for α9α10 nAChR
【０２３８】
実施例９：α9α10 nAChRに対するRgIA－5474の選択性

Methods: Receptor Pharmacology
方法: 受容体の薬理学的性質

Synthetic RgIA-5474 was tested on non-nAChRs targets in the CYP Inhibition assays by Eu-rofins Cerep, Pharma Discovery Service, Celle 1’Evescault, France.
非nAChR 標的に対する合成RgIA－5474の作用を、Eurofins Cerep社の創薬支援サービス(Pharma Discovery Service) (フランス国Celle l’Evescault）によるＣＹＰ阻害試験で検討した。

Automated patch-clamp electrophysiology was used for assessing the human ether-a-go- go-related gene (hERG) function.
自動化パッチクランプ法による電気生理学的分析で、ヒトether－a－go－go-related 遺伝子（hERG)の機能を調べた。

RgIA-5474 was also tested at the Dept, of Veterans Affairs Medical Center Research Service (R&D-22) in Portland, OR on serotonin, dopamine, and opioid receptors, as well as biogenic amine transporters.
RgIA－5474は退役軍人省メディカル・センター・リサーチ・サービス（Ｒ＆Ｄ－２２） 、オレゴン州ポートランドにおいて、セロトニン、ドーパミン及びオピオイドの各受容体、及び生体アミン輸送に対する効果を検討した。

Detailed description of the assays and the data are presented in the Tables 9B-9F.
この分析の詳細とデータを表９Ｂ～９Ｆに示す。

WO2020014468(GILEAD SCIENCES INC [US])
Inhibition of the cardiac ion channel coded by human ether-a-gogo-related gene (hERG) can lead to cardiac arrhythmia, which is a major concern in drug discovery and development.【０００７】
  ヒトエーテルアゴーゴー関連遺伝子（ｈＥＲＧ）によってコードされる心イオンチャネルの阻害は、創薬および開発における大きな課題である、不整脈をもたらす恐れがある。

Automated electrophysiological patch clamp allows assessment of hERG channel effects early in drug development to aid medicinal chemistry programs and has become routine in pharmaceutical companies. 
自動化した電気生理学的パッチクランプにより、薬物開発の早期に、ｈＥＲＧチャネルの作用を評価して、医薬品化学のプログラムを支援することが可能となり、医薬品会社では常套的になっている。

WO2017219000(CEDARS SINAI MEDICAL CENTER [US])
This method for reliably deriving iPSCs from patient blood samples
患者の血液試料からｉＰＳＣを確実に誘導するための本方法は、

paves the way for rapidly generate new human iPSC lines, including patient-specific lines,
患者特異的な系列を含む新規のヒトｉＰＳＣ株を迅速に生成するための道を開き、

thus providing an enormous bioresource for disease modeling, drμg discovery, and regenerative medicine applications.
病気のモデリング、創薬、及び再生医療用途のための莫大なバイオリソースを提供する。

偏光画像

WO2015164868(TETRAVUE INC [US])
[0034] The sensor subsystem 120 determines the extent of polarization of each pulse portion 127, 128, 129 by splitting each pulse into its orthogonal polarization components (e.g., H- and V-polarized components) using an optical element such as a prism or polarizing beamsplitter,
【００３４】
  センササブシステム１２０は、プリズムや偏光ビームスプリッタのような光学要素を使用して、各パルスをその直交偏光成分に分割することによって（例えば、Ｈ－およびＶ－偏光成分）各パルス部分１２７、１２８、１２９の偏光の範囲を決定し、

and then recording complementary images of the two polarization components.
次いで２つの偏光成分の相補的画像を記録する。

For example, a first image generated from the scene 190 may contain information about the H-polarized component of pulse portions 127, 128, 129, in the form of intensity regions in the first image, respectively.
例えば、光景１９０から発生させられた第一の画像は、パルス部分１２７、１２８、１２９のＨ－偏光成分についての情報を第一の画像における複数の強度領域の形式で、それぞれ含む。

A second image generated from the same scene 190 may contain information about the V-polarized component of pulse portions 127, 128, 129 in the form of intensity regions in the second image, respectively.
同じ光景１９０から発生させられた第二の画像は、パルス部分１２７、１２８、１２９のＶ－偏光成分についての情報を第二の画像における、複数の強度領域の形式で、それぞれ含む。

The intensity regions vary in intensity based on the arrival time or the returned light pulse from the scene. 
到着時間または、光景からの帰還光パルスに基づいて、強度領域は強度が変化する。

Processor subsystem 140, illustrated in Fig. 1, may store the polarized images and perform further processing to obtain distance and shape information for objects 191, 192 in scene 190.
図１に図示されるプロセッササブシステム１４０は、偏光画像を格納し、さらに処理を実行して光景１９０における物体１９１、１９２の距離および形状情報を取得する。

US12018983(BOEING CO [US])
[0004] In order to improve these types of imaging sensors, polarization sensors have also been included in the imaging sensors.
【０００２】
  これらの種類の画像センサを改良するため、画像センサには偏光センサも含まれている。

Polarization imaging utilizes a polarization sensor to divide up the received light in a captured image into different planes of polarization, for example, vertical, horizontal, and 45-degree polarization channels, or more.
偏光画像（＊撮像？）は、捕捉した画像内の受信光を様々な偏光面（例えば、垂直、水平、４５度偏光チャネルなど）に分割する偏光センサを利用する。

Since man-made materials tend to polarize light much more strongly than natural material,
人工材料は自然材料よりも強く光を偏光する傾向があるため、

appropriate processing of these polarization channels can produce a degree-of-linear-polarization (DOLP) image that results in the man-made objects “popping out” against the clutter background in the captured image.
これらの偏光チャネルを適切に処理することにより、捕捉した画像の雑音背景に対して人工物を「跳び出させる」直線偏光度（ＤＯＬＰ）画像を生成することができる。