傾転

WO2015035116
[0037] However, in other embodiments, a substrate stage is provided that has the capability of substrate tilt (rotational) motion.

しかしながら、他の実施形態において、基板傾転（回転）能力を有する基板ステージが設けられる。

This allows the angle of the substrate surface to vary in a manner that may maintain a constant angle of incidence of an ion beam as the rotatable extraction electrode rotates.

これにより、回転可能な抽出電極の回転につれてイオンビームの入射角を一定に維持し得るように基板表面の角度を変化させることができる。

FIG. 6 depicts and embodiment of a processing system 602 that includes a substrate stage 604 in which a substrate platen 610 is provided with tilt capability.

図６は、基板プラテン６１０に傾転機能部が設けられた基板ステージ６０４を含む処理システム６０２の一実施形態を示す。

As with the rotatable substrate stage 112, the substrate stage 604 is rotatable about the axis PI . In particular, rotation of the rotation member 114 generates rotation of radial member 606 about the axis PI.

回転可能な基板ステージ１１２と同様に、基板ステージ６０４は軸Ｐ１を中心に回転可能である。特に、回転部材１１４の回転は軸Ｐ１を中心とするラジアル部材６０６の回転をもたらす。

For example, a 90 degree rotation of radial member 606, which is affixed to substrate platen 610, may transport the substrate platen 610 from a load position (not shown, but see FIG. 2A) and a process position shown in FIG. 6.

例えば、基板プラテン６１０に固定されたラジアル部材６０６の９０度の回転は基板プラテン６１０を装填位置（図示してないが、図２Ａを参照されたい）から図６に示す処理位置へ移送することができる。