シース領域

US9695503
[0064] Further, due to the short pulse width, or time duration 454 , used in the HIPIMS process,
【００５４】
  更に、ＨＩＰＩＭＳ処理で使用される短いパルス幅又は持続時間４５４のために、

 it has been found that the generation of a “pre-sheath” during the initial stages of the formation of the sputtering plasma
スパッタリングプラズマ形成の初期段階での「プレシース（ｐｒｅ－ｓｈｅａｔｈ）」の生成は、

has a significant effect on the process of forming the high energy and highly ionized sputtering material.
高エネルギーかつ高度にイオン化されたスパッタリング材料を形成する処理に著しい影響を及ぼすことが分かった。

In general, the “pre-sheath” is a non-equilibrium region of the plasma that has a varying size that varies over time, within the processing region (e.g., processing volume 118 in FIG. 1) between the target and the substrate, as the equilibrium plasma sheath region is being formed.
一般に、「プレシース」は、平衡プラズマシース領域が形成されている際に、ターゲットと基板との間の処理領域（例えば、図１の処理空間１１８）内部で、時間とともに変化する様々なサイズを有するプラズマの非平衡領域である。