プラズマ化

US2016338755
[0011] US2013233828 discloses
【００１１】
  ＵＳ２０１３２３３８２８は、

an atmospheric plasma irradiation unit which has

a discharge tube for ejecting a primary plasma formed of an inductively coupled plasma of an inert gas
不活性ガスの誘導結合プラズマから形成される一次プラズマを排出するための排出管、

and a mixer for generating a secondary plasma formed of a mixed gas made into plasma by collisions of the primary plasma with a mixed gas region of a second inert gas and a reactive gas.
及び一次プラズマの第２不活性ガス及び反応性ガスの混合ガス領域との衝突によりプラズマ化した混合ガスから形成される二次プラズマを生成するための混合器

を有する大気プラズマ照射ユニットを開示する。

US9500953
[0018] Some lithographic apparatus may have a radiation source that functions differently to that previously described.
【００１７】
[0017]  リソグラフィ装置には、上記機能とは異なる機能を果たすものがある。

In these cases, the production of output radiation from a fuel is a two-step process.
そのような場合は、燃料からの出力放射の生成は２段階のプロセスになる。

The first step is that a first pulse of radiation is directed at the fuel such that the first amount of radiation is incident on the fuel, and converts the fuel into a modified fuel distribution.
第１の段階は、第１の分量の放射が燃料に入射するように第１の放射パルスが燃料に誘導され、燃料を修正された燃料分布に変換する段階である。

For example, the modified fuel distribution may be a cloud of partially plasmarised fuel.
例えば、修正された燃料分布は、部分的にプラズマ化した燃料のクラウドであってもよい。

A subsequent amount of radiation may be directed at the modified fuel distribution such that the subsequent amount of radiation is incident on the modified fuel distribution,
修正された燃料分配に次の分量の放射が入射するように次の分量の放射が修正された燃料分布に誘導され、

causing the modified fuel distribution to become a radiation producing plasma, which outputs the desired radiation.
修正された燃料分布が放射生成プラズマになり、これが所望の放射を出力する。

US7806854
 If p(t) is the concentration, in mU/dl, of the drug in plasma as it is absorbed from the subcutaneous depot,
p(t)を、皮下空間から吸収されるプラズマ化した薬物のmU/dl単位での濃度とすると、

its evolution can be taken to be governed by
その進行は以下の式で表すことができる。

US2011126852
[0015] As shown in FIG. 3, the byproduct deposit 100 can be removed by running a chamber clean process, in which plasma is generated in the plasma processing chamber without the substrate 10 on the ESC 20 .
【００１５】
  図３に示すように、ＥＳＣ２０上に基板１０を載置することなくプラズマ処理チャンバ中にプラズマを発生させるチャンバ洗浄処理により、副生成物堆積物１００を除去できる。

Ions 200 in the plasma are accelerated vertically by an electric field on the ESC 20 and sputter and/or chemically etch the byproduct deposit 100 .
プラズマ化したイオン２００が、ＥＳＣ２０上の電場により鉛直方向に加速されて、副生成物堆積物１００をスパッタリングする、及び／又は、化学的にエッチングする。