WO2019164810(FREESTYLE PARTNERS LLC [US])
[0009] Another aspect of the disclosure provides a device for sanitizing a surface or air surrounding a surface.
【0009】
本開示の別の態様は、表面または表面周囲の空気を消毒するための装置を提供する。
The device incudes a body that includes a user input and a far-UVC light emitting source disposed at the body.
この装置は、ユーザ入力部と、遠紫外線発光源とを配置された本体を含む。
The device also includes a power source for providing power to the far-UVC light emitting source.
装置はまた、遠紫外線発光源に電力を供給するための電源も含む。
Responsive to actuating the user input, the far-UVC light emitting source is powered and emits far-UVC light to sanitize the surface or the air surrounding the surface of pathogens.
ユーザ入力部の作動に応答して、遠紫外線発光源に電力が供給され、遠紫外線を発光し、表面または病原体の表面周囲の空気を除菌する。
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[0014] This aspect may include one or more of the following optional features.
【0014】
この態様は、以下の任意の特徴のうちの1つまたは複数を含んでもよい。
The surface or space may include at least one of an epidermis or a non-biological surface.
表面または空間は、表皮または非生物学的表面のうちの少なくとも1つを含んでよい。
The illumination portion may include a lamp. The lamp generates and emits illumination having a wavelength at or below 222 nm.
照明部分は、ランプを含んでもよい。ランプは222nm以下の波長を有する照明を生成し、放射する。
The illumination portion may include a lamp that generates and emits far-UVC illumination that has a wavelength exceeding 222 nm.
照明部分は、222nmを超える波長を有する遠紫外線を生成し放射するランプを含んでもよい。
The device also includes a filter for filtering emitted illumination with a wavelength exceeding 222 nm.
装置はまた、222nmを超える波長を持つ放射された照明をフィルタリングするためのフィルタを含む。
The illumination portion may include at least one selected from the group consisting of: (i) an excimer lamp and (ii) a light emitting diode.
照明部分は、(i)エキシマランプ及び(ii)発光ダイオードからなる群から選択された少なくとも1つを含んでもよい。
The illumination portion may otherwise be any suitable light source or illumination source or lamp that is able to emit UVC and/or far-UVC illumination when energized or powered or activated.
あるいは、照明部分は、通電、電力供給、または起動されたときに紫外線および/または遠紫外線を放射することができる任意の適切な光源、照明源、またはランプであってもよい。
WO2010071814(UNIV NORTH CAROLINA [US])
[0004] Conventionally, the bacterial disinfection of fluids, such as water, air, fuel, other liquids and gases, and the like, is performed using ultraviolet (UV) lamps (or deep-UV lamps), such as low to medium pressure mercury lamps.
【0002】
従来、水、空気、燃料、他の液体及び気体等の流体を殺菌するには、低圧ないし中圧水銀ランプ等の紫外線(UV)ランプ(又は遠紫外線、deep-UV)ランプを用いている。
For example, water may be disinfected using such lamps, for a germicidal effect, in a conventional point-of-use (POU) water filtration system.
例えば、水は、従来の使用時点(point-of-use、POU)水ろ過システムにおいて、殺菌効果を得るために、このようなランプを用いて殺菌することができる。
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[0020] As a preliminary matter, DNA has peak absorption at about 260 nm, but the absorption curve is broad, with the majority of UV absorption occurring between about 240 nm and about 280 nm.
【0018】
予備的事項として、DNAの吸収ピークは約260nmであるが、吸収曲線は広く、紫外線吸収の大半は、約240nmと約280nmとの間で起こる。
Low and medium pressure mercury lamps have emission peaks at about 253.7 nm, with medium pressure lamps having emission peaks which are narrow and sporadic across the peak microbicidal region of DNA.
低圧及び中圧水銀ランプの発光ピークは約253.7nmであり、中圧ランプの発光ピークはDNAのピーク殺菌領域を横切って狭くかつ散発的である。
In comparison, UV LEDs have broadband deep-UV emission and may be tailored forpeak emission at about 260 nm to provide the maximum dose more effectively than mercury lamps.
これと比較して、紫外線LEDは、帯域幅の広い遠紫外線を照射し、水銀ランプよりも効果的に最大の照射量を与えるために、約260nmに発光ピークが来るように調整することができる。
US8455178(ROHM & HAAS ELECT MAT [US])
For deep UV applications (i.e. the overcoated resist is imaged with deep UV radiation), a polymer of an antireflective composition preferably will absorb reflections in the deep UV range (typically from about 100 to 300 nm).
【0058】
遠紫外線適用(すなわち、オーバーコーティングされたレジストが遠紫外線で画像化される)に対しては、反射防止組成物のポリマーは、好ましくは遠紫外線範囲(典型的には約100~300nm)における反射を吸収する。
Thus, the polymer preferably contains units that are deep UV chromophores, i.e. units that absorb deep UV radiation.
したがって、ポリマーは、好ましくは遠紫外線発色団である単位、すなわち、遠紫外線を吸収する単位を含有する。
WO2022125116(APERTURE IN MOTION LLC [US])
Examples of ablative lasers include, but are not limited to, an argon fluoride excimer laser emitting far ultraviolet light at a wavelength including, but not limited to, 193 nanometers and a solid-state laser.
切除用レーザーの例は、限定はしないが、193ナノメートルを含む波長の遠紫外線を放射するフッ化アルゴンエキシマーレーザー、および固体レーザーを含む。
One or more of exemplary apparatus described herein may direct light from laser light sources including, but not limited to, a laser light source emitting infrared or ultraviolet light producing photoablation.
本明細書において説明されている例示的な装置のうちの1つまたは複数は、限定はしないが、光剥離を生じる赤外線または紫外線光を放出するレーザー光源を含む、レーザー光源からの光を導き得る。
*紫外線、Wikipedia
波長による分類として、波長 380–200 nm の近紫外線 (near UV)、波長 200–10 nm の遠紫外線もしくは真空紫外線(far UV (FUV) もしくは vacuum UV (VUV))、波長 121–10 nmの極紫外線もしくは極端紫外線(extreme UV,EUV or XUV)に分けられる。また、人間の健康や環境への影響の観点から、近紫外線をさらに UVA (380–315 nm)、UVB(315–280nm)、UVC (280–200nm) に分けることもある[2]。なお、以上の分類とは別に、IBMのリン博士が用いた深紫外線(Deep-UV、DUV、リン博士の概念では200~300nmの波長域)という概念が用いられることがあり遠紫外線と混同されることがあるが波長域が異なる[3]。