処理均一性

WO2019021275
In hatchery management, it may be desirable to separate birds based upon various characteristics, such as gender, diseases, genetic traits, etc. For example, it may be desirable to inoculate male birds with a particular vaccine and inoculate female birds with a different vaccine.
【０００６】
  孵化場管理において、性や、病気、遺伝子特性などの種々の特徴に基づいて、鳥を分離することが望ましい。例えば、雄鳥に特定のワクチンを接種し、雌鳥に異なるワクチンを接種することが望ましい。

Sex separation of birds at hatch may be important for other reasons as well. For example, turkeys are conventionally segregated by sex because of the difference in growth rate and nutritional requirements of male and female turkeys.
孵化時での鳥の性分離は、他の理由のためにも重要である。例えば、七面鳥は、雄七面鳥および雌七面鳥の成長速度や栄養上の要求の差のために、性によって慣例的に隔離されている。

In the layer or table egg industry, it is desirable to keep only females. In the broiler industry, it is desirable to segregate birds based on sex to gain feed efficiencies, improve processing uniformity, and reduce production costs.
産卵鶏またはテーブル卵産業において、雌のみをのこして置くことが望ましい。ブロイラー産業において、飼料効率を増し、処理均一性を改善し、かつ製造コストを削減するために、性に基づいて鳥を隔離することが望ましい。

WO2018226503
[0027] In operation, the substrate 1 10 may enter the process chamber 100 via an opening 1 12 in the chamber body 102. The opening 1 12 may be selectively sealed via a slit valve 1 18, or other apparatus for selectively providing access to the interior of the chamber through the opening 1 12.
【００２０】
  動作時、基板１１０は、チャンバ本体１０２の開口１１２を介して処理チャンバ１００に入ることができる。スリット弁１１８を介して、または開口１１２を通したチャンバの内部へのアクセスを選択的に提供する他の装置を介して、開口１１２が選択的に密閉されてもよい。

The substrate support 108 may be coupled to a lift apparatus 134 that may control the position of the substrate support 108 between a lower position (as shown) suitable for transferring substrates into and out of the chamber via the opening 1 12 and a selectable upper position suitable for processing.
基板支持体１０８は、リフト装置１３４に結合されていてもよく、リフト装置１３４は、開口１１２を介して基板をチャンバ内およびチャンバ外へ移送するのに適した下位置（図示の位置）と処理に適した選択可能な上位置との間で基板支持体１０８の位置を制御するものであってもよい。

The process position may be selected to maximize process uniformity for a particular process step. When in an elevated processing position, the substrate support 108 may be disposed above the opening 1 12 to provide a symmetrical processing region.
この処理位置は、特定の処理ステップの処理均一性を最大にするように選択されていてもよい。高い処理位置にあるときには、対称な処理領域を
提供するために、基板支持体１０８が、開口１１２よりも高い位置に配置されてもよい。

After the substrate 1 10 is disposed within the process chamber 100, the chamber may be pumped down to a pressure suitable for forming a plasma and one or more process gases may be introduced into the chamber via the showerhead 1 14 (and/or other gas inlets).
処理チャンバ１００内に基板１１０が配置された後、ポンプによってチャンバの圧力が、プラズマを形成するのに適した圧力まで下げられてもよく、シャワーヘッド１１４（および／または他のガス入口）を介してチャンバに１種または数種の処理ガスが導入されてもよい。

RF power may be provided to strike and maintain a plasma from the process gases to process the substrate.
基板を処理するために処理ガスからプラズマを点火し、維持するために、ＲＦ電力が供給されてもよい。