集光光学系

WO2015123337
"[0008] In a specific implementation, the MOR module comprises a pump laser source for generating the pump beam at a wavelength range between about 400 and 600 nm, a modulator for configuring the pump laser source to modulate the pump beam, a probe continuous wave (CW) laser source for generating the probe beam at a wavelength range between about 600 and 800 nm, illumination optics for directing the pump beam and probe beam towards the sample, a photothermal detector, and collection optics for directing the MOR output beam towards the photothermal detector for detecting the MOR output beam and generating an output signal that is filtered to isolate changes that are synchronous with modulation of the pump beam. In a further aspect, the BF module comprises a BF light source for generating the BF illumination beam, illumination optics for directing the BF illumination beam towards the sample, a BF detector, and collection optics for directing the BF output beam towards the BF detector for detecting the BF output beam. In a further aspect, the illumination optics of the BF module share one or more components with the illumination optics of the MOR module and the collection optics of the BF module share one or more components with the collection optics of the MOR module."

特定の実施例において、ＭＯＲモジュールは、約４００～６００ｎｍの波長範囲でポンプビームを生成するポンプレーザ光源と、ポンプビームを変調するようにポンプレーザ光源を設定する変調器と、約６００～８００ｎｍの波長範囲でプローブビームを生成するプローブ連続発振（Ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ  Ｗａｖｅ，ＣＷ）レーザ光源と、ポンプビーム及びプローブビームを試料に誘導する照明光学系と、光熱検出器と、ＭＯＲ出力ビームを光熱検出器に誘導する集光光学系とを含み、光熱検出器は、ＭＯＲ出力ビームを検出し、ポンプビームの変調と同期した変化量を分離するようにフィルタリングされる出力信号を生成する。更に他の態様において、ＢＦモジュールは、ＢＦ照明ビームを生成するＢＦ光源と、ＢＦ照明ビームを試料に誘導する照明光学系と、ＢＦ検出器と、ＢＦ出力ビームを検出するＢＦ検出器にＢＦ出力ビームを誘導する集光光学系とを含む。更に他の態様において、ＢＦモジュールの照明光学系は、一つ以上の構成要素をＭＯＲモジュールの照明光学系と共用し、ＢＦモジュールの集光光学系は、一つ以上の構成要素をＭＯＲモジュールの集光光学系と共用する。

WO2012120380
"[0027] FIG. 2 shows in a cut-away view an illuminator with a linear array of LEDs arranged on a heat spreader, with collector optics, combining optics and condensing optics. The LEDS are arranged with increasing optical path lengths from the "White Light" output port. Collector optics, such as an aspheric lens and optionally a field lens, may be placed in front of each LED. The light from the red LED is reflected at a 90° angle by a mirror. Additional dichroic mirrors are placed in the combined beam path between this mirror and the "White Light" output port. These dichroic mirrors are designed to reflect, in the listed order, at a 90° angle light emitted by the exemplary long wavelength green LED (peak wavelength at ~ 530 nm and approximate FWHM bandwidth of +/- 40 nm), the exemplary short wavelength green LED (peak wavelength at ~515 nm and approximate FWHM bandwidth of +/- 37 nm), and the exemplary blue LED (peak wavelength at ~ 460 nm and approximate FWHM bandwidth of +/- 25 nm), while transmitting the wavelengths already present in the propagating combined beam, i.e., red, red + long green, red + long green + short green. Light emitted by a laser can be suitably added to the combined beam."

 図２は、ヒートスプレッダ上に配置されたＬＥＤの直線状アレイを備え、集光光学系（ｃｏｌｌｅｃｔｏｒ  ｏｐｔｉｃｓ）、結合光学系（ｃｏｍｂｉｎｉｎｇ  ｏｐｔｉｃ）及びコンデンス光学系（ｃｏｎｄｅｎｓｉｎｇ  ｏｐｔｉｃｓ）を備える、照明器の破断図を示す。ＬＥＤは、「白色光」出力ポートから、次第に増加する光学経路長を有するように配置されている。非球面レンズ、及び任意的には視野レンズ、のような集光光学系が、それぞれのＬＥＤの前面に配置されてもよい。赤色ＬＥＤからの光は、ミラーによって９０°の角度で反射される。さらなるダイクロイックミラーが、このミラーと「白色光」出力ポートとの間の結合ビーム経路に配置される。これらのダイクロイックミラーは、例示的な長波長緑色ＬＥＤ（ピーク波長は～５３０ｎｍにあり、おおよそのＦＷＨＭバンド幅は＋／－４０ｎｍである）と、例示的な短波長緑色ＬＥＤ（ピーク波長は～５１５ｎｍにあり、おおよそのＦＷＨＭバンド幅は＋／－３７ｎｍである）と、例示的な青色ＬＥＤ（ピーク波長は～４６０ｎｍにあり、おおよそのＦＷＨＭバンド幅は＋／－２５ｎｍである）と、によって放射された光を、伝播する結合ビーム、すなわち赤色、赤色＋長緑色、赤色＋長緑色＋短緑色にすでに存在する波長は透過させながら、このリストされた順に、９０°の角度で反射するように構成されている。レーザによって放射された光は、結合ビームへと適切に追加されることができる。図３は、ヒートスプレッダ上の直線状ＬＥＤアレイと、ＬＥＤレーザ熱交換器と、ＬＥＤレーザ熱交換ファンとを備える、照明器の破断図を概略的に示す。

WO2016205112
"The methods disclosed herein to pattern and transfer micro-optical elements may be used for use in display, semiconductor, traffic, and solar applications. Some application examples include the patterned transfer of redirection or concentration optics on solar modules, the use of collimation optics on LCD backlight units, the use of patterned retroreflectors on signage, or the use of diffractive optics on security documents. In some embodiments, the method of making a micro-optical assembly of includes wherein the micro-optical structures include at least one of daylight redirecting optical structures, light extraction optical structures and wide angle color distribution optical structures (e.g. for OLEDs or LEDs). In some embodiments, the method of making a micro-optical assembly includes wherein the receptor substrate is a glass panel for an insulated glazing unit and/or wherein the micro-optical structures are daylight redirecting optical structures."

本明細書で開示される、微小光学素子をパターン形成及び転写する方法は、ディスプレイ用途、半導体用途、交通用途、及び太陽電池用途に関して使用することができる。一部の用途例としては、太陽電池モジュール上での方向転換光学系若しくは集光光学系のパターン形成転写、ＬＣＤバックライトユニット上でのコリメーション光学系の使用、サイネージ上でのパターン形成再帰反射体の使用、又はセキュリティ文書上での回析光学系の使用が挙げられる。一部の実施形態では、この微小光学アセンブリの作製方法は、これらの微小光学構造体が、日光方向転換光学構造体、光抽出光学構造体、及び広角色分布光学構造体（例えば、ＯＬＥＤ又はＬＥＤ用）のうちの少なくとも１つを含むことを含む。一部の実装形態では、この微小光学アセンブリの作製方法は、レセプタ基材が、断熱ガラスユニット用のガラスパネルであり、かつ／又は、微小光学構造体が、日光方向転換光学構造体であることを含む。

WO2016106379
"1. An epi-illumination Fourier ptychographic imaging system for high resolution imaging of thick samples, the system comprising:

 

a variable illumination source configured to provide radiation sequentially at a plurality of incidence angles;

 

a first polarizer system configured to polarize radiation from the variable illumination source to a first polarization state incident upon a sample;

 

collection optics configured to receive radiation issuing from the sample, wherein the collection optics are located to the same side of the sample from which the variable illumination source provides radiation;

 

a second polarizer system configured to receive radiation passed through the collection optics and wherein the second polarizer system has (A) a first polarizer in a first orientation and a second polarizer in a second orientation orthogonal the first orientation or (B) a polarizer rotated between the first orientation and the second orientation orthogonal the first orientation;

 

a radiation detector configured to receive radiation from the second polarizer system, the radiation detector configured to acquire a first sequence of intensity images of the sample through the first polarizer and a second sequence of intensity images of the sample through the second polarizer, wherein each intensity image corresponds to a different incidence angle of the plurality of incidence angles; and

 

a processor configured to determine a sequence of de-scattered surface intensity images from the first sequence of intensity images and the second sequence of intensity images."

【請求項１】
  厚膜サンプルの高分解能撮像のための落射照明フーリエタイコグラフィ撮像システムであって、
  複数の入射角度で順次放射を提供するように構成される可変照明源と、
  前記可変照明源からの放射をサンプル上に入射する第１偏光状態へと偏光させるように構成される第１偏光子系と、
  前記サンプルから出る放射を受け取るように構成され、前記サンプルの、前記可変照明源が放射を提供する側と同じ側に位置する集光光学系と、
  前記集光光学系を通過した放射を受け取るように構成され、（Ａ）第１配向の第１偏光子および前記第１配向に直交する第２配向の第２偏光子、または、（Ｂ）前記第１配向と前記第１配向に直交する前記第２配向との間で回転される偏光子、を有する第２偏光子系と、
  前記第２偏光子系から放射を受け取るように構成され、前記第１偏光子を通じて前記サンプルの輝度画像の第１シーケンスを取得し前記第２偏光子を通じて前記サンプルの輝度画像の第２シーケンスを取得するように構成される放射検出器であって、各輝度画像は、前記複数の入射角度のうちの異なる入射角度に対応する、放射検出器と、
  前記輝度画像の第１シーケンスと前記輝度画像の第２シーケンスとから、非散乱表面輝度画像のシーケンスを決定するように構成されるプロセッサと、
を備える、システム。

WO2015023605
"13. A system for inspecting or measuring a specimen, comprising:

 

an illuminator for generating illumination;
illumination optics for directing the illumination towards one or more targets located in a plurality of fields on a semiconductor wafer, wherein the fields are associated with different process parameters for fabricating the one or more targets, wherein the acquired optical signals contain information regarding a parameter of interest (POI) for a top structure and information regarding one or more underlayer parameters for one or more underlayers formed below such top structure;

 

collection optics for directing a plurality of optical signals from the one or more targets located in the plurality of fields in response to the illumination to a detector system;

 

the detector system for acquiring the plurality of optical signals from the one or more targets from the plurality of fields in response to the illumination; and

 

a processor and memory configured for performing the following operations: generating a feature extraction model to extract a plurality of feature signals from such acquired optical signals so that the feature signals contain information for the POI and exclude information for the underlayer parameters; and

 

determining a POI value for each top structure of each field based on the feature signals extracted by the feature extraction model."

【請求項１３】
  試料を検査または測定するためのシステムであって、
    照明を作り出すための照明器と、
    半導体ウェハ上の複数のフィールド内に位置する１つ以上のターゲットに向けて前記照明を導くための照明光学系であって、前記フィールドが、前記１つ以上のターゲットを製作するための異なる処理パラメータに関連し、前記取得された光学信号が、上部構造に関する対象パラメータ（ＰＯＩ）に関わる情報と、そのような上部構造の下に形成される１つ以上の下層に関する１つ以上の下層パラメータに関わる情報とを含む、照明光学系と、
    前記複数のフィールド内に位置する前記１つ以上のターゲットからの複数の光学信号を、前記照明に応答して検出器システムへと導くための集光光学系と、
    前記照明に応答して前記複数のフィールドの前記１つ以上のターゲットから前記複数の光学信号を取得するための前記検出器システムと、
    プロセッサ及びメモリであって、以下の操作：
      特徴抽出モデルを作成して、特徴信号が前記ＰＯＩに関する情報を含み、前記下層パラメータに関する情報を除外するように、そのような取得された光学信号から複数の特徴信号を抽出することと、
      前記特徴抽出モデルによって抽出された前記特徴信号に基づいて、各フィールドの各上部構造に関するＰＯＩ値を決定することと、を実行するように構成された、プロセッサ及びメモリと、を備える、システム。

WO2008143635
"10. The method of claim 7 further comprising the step of providing an array of optical components selected from the group consisting of diffusing optics, dispersive optics, collecting optics, concentrating optics, and optical fiber, wherein said array of optical components is provided in optical communication with at least a portion of said printable semiconductor elements."

【請求項１０】
  拡散光学系、分散光学系、収光光学系、集光光学系、及び光ファイバからなる群から選択される光学構成要素アレイを設けるステップであり、前記光学構成要素アレイが、前記印刷可能半導体要素の少なくとも一部分と光学的に連絡した状態で設けられる前記ステップをさらに含む、請求項７に記載の方法。

US2019302570
"16. A supercontinuum radiation source comprising:
illumination optics arranged to receive a pulsed pump radiation beam having a power and to form a plurality of pulsed sub-beams, each pulsed sub-beam comprising a portion of the pulsed pump radiation beam;
a plurality of waveguides each arranged to receive at least one of the plurality of pulsed sub-beams beam and to broaden a spectrum of that pulsed sub-beam so as to generate a supercontinuum sub-beam wherein the power of the pulsed pump radiation beam is spread over the plurality of waveguides; and
collection optics arranged to receive the supercontinuum sub-beam from the plurality of waveguides and to combine them so as to form a supercontinuum radiation beam."

【請求項１】
  スーパーコンティニウム放射源であって、
  パルスポンプ放射ビームを受信するように、及び複数のパルスサブビームを形成するように、配置された、照明光学系であって、各パルスサブビームは前記パルスポンプ放射ビームの一部を含む、照明光学系と、
  前記複数のパルスサブビームビームのうちの少なくとも１つを受信するように、及びスーパーコンティニウムサブビームを発生させるために当該パルスサブビームのスペクトルを広げるように、各々が配置された、複数の導波路と、
  前記複数の導波路から前記スーパーコンティニウムサブビームを受信するように、及びスーパーコンティニウム放射ビームを形成するために前記複数の導波路を組み合わせるように、配置された、集光光学系と、
を備える、スーパーコンティニウム放射源。