密集

US10481155(SOMALOGIC INC [US])
[0101] As described above, the lateral separation between the NV centers may be large, such as more than 100 nm, to prevent significant interactions between NV centers.
【００８１】
  上述のように、ＮＶ中心間の横方向分離は、ＮＶ中心間の顕著な相互作用を予防するために、たとえば１００ｎｍ超などのように大きくてよい。

The aptamers, however, are small, of order a few nanometers, so we distinguish two different realizations.
しかしながら、アプタマーは、小さく、数ナノメートルの桁であり、よって、本出願人らは、２つの異なる認識を区別している。

In the first, aptamers are bound to the surface densely so that
第１の認識では、アプタマーは表面に密集して結合され、それにより、

any given NV center interacts with multiple aptamer sites distributed randomly within the NV center's range of interaction and thus measures an average interaction change across the multiple sites.
いずれかの所定のＮＶ中心が、ＮＶ中心の範囲の相互作用内で無作為に分布された複数のアプタマー部位と相互作用し、よって、複数の部位にわたり平均相互作用変化を測定する。

US10737082(SORRENTO THERAPEUTICS INC [US])
[0174] In some embodiments described herein, are methods for applying a device having at least 2 or more delivery structures to the surface of the skin a subject for the treatment of a disease or disorder described herein.
【０１６３】
一部の実施形態では、本明細書に記述した疾患または障害の治療のために、少なくとも二つ以上の送達構造を持つ装置を被験者の皮膚の表面に適用する方法が本明細書に記述されている。

In some aspects, the device is applied to an area of the subject's skin, wherein the location of the skin on the body is dense in lymphatic capillaries. 
一部の態様では、装置は被験者の皮膚の領域に適用され、体の皮膚のこの場所は毛細リンパ管が密集している。

US10818561(APPLIED MATERIALS INC [US])
[0036] Additionally, the sensors may be formed proximate to different patterned features 221 .
【００２７】
  更に、センサは、異なるパターン形成された特徴２２１に近接して形成されうる。

For example, sensor 219 A and sensor 219 G may both be film thickness sensors, such as a resonator.
例えば、センサ２１９_Ａとセンサ２１９_Ｇは、共に共振器などの膜の厚さのセンサでありうる。

Sensor 219 A is located proximate to an isolated patterned feature 221 L and sensor 219 G is located proximate to a plurality of densely spaced patterned features 221 D .
センサ２１９_Ａは、分離してパターン形成された特徴２２１_Ｌに近接して位置し、センサ２１９_Ｇは、複数の密集して離間配置された、パターン形成された特徴２２１_Ｄに近接して位置する。

Accordingly, any loading effects that may result from the density of the patterned features may be monitored as well.
したがって、パターン形成された特徴の密度から生じうる任意のローディング効果（負荷効果）も、同様にモニタされうる。