鍛造処理

US11693868(APRIORI INC [US])
[0051] The query 300 A includes a first statement that specifies information about the type of data.
【００４４】
  クエリ３００Ａは、データの型についての情報を指定する第１のステートメントを含む。

Here, the first statement including fields 310 A, 311 , and 312 , which specify requests CAD files from the Forging processing group.
ここで、第１のステートメントはフィールド３１０Ａ、３１１、及び３１２を含み、これらは、鍛造処理グループにあるＣＡＤファイルの要求を指定する。

Here, the field 310 A specifies a name of the field, equal specifies that the value should be equal, and 313 specifies the value itself.
ここで、フィールド３１０Ａはフィールドの名前を指定し、イコールは値がイコールであるべきことを指定し、３１３は値自体を指定する。

Thus, the request is for any CAD files that involve a forging process. 
従って、要求は、鍛造工程を必要とする全てのＣＡＤファイルに対するものである。

EP3532649(AK STEEL PROPERTIES INC [US])
[0036] Process Path 1 - Intercritical Annealing
【００２５】
  処理過程１－変態区間焼鈍

[0037] During the hot stamping process, the steel sheet material can be heated to an intercritical temperature (that is, between the Ai and A3 temperatures) that is appropriate for the alloy composition and for a time that will provide the desired properties, as further explained below.
熱間鍛造処理中、鋼板材料は、以下でさらに説明するように、合金組成及び望ましい性質を提供するだろう時間に適する変態区間温度（すなわち、Ａ_１及びＡ_３の間の温度）で加熱される。

US2022403487(ARCELORMITTAL [LU])
[0025] Boron is an optional element that can be present between 0 and 0.008%.
【００２５】
  ホウ素は、０～０．００８％の間で存在できる任意元素である。

Boron has no role to play in the steel for the targeted mechanical parts.
ホウ素は、標的とする機械部品用の鋼において果たす役割を持たない。

Boron has an obvious effect on hardenability and may lead to fully ferrite or pearlite microstructure at the end of the forging process.
ホウ素は焼入性に明らかな影響を及ぼし、鍛造処理の終わりに完全なフェライト又はパーライト微細組織を導く可能性がある。

面積比率

US11597749(ONL THERAPEUTICS INC [US])
Calculations:
【０１５９】
計算

Percent Coefficient of Variation: Used as an estimate of precision.
変動係数（％）：精度の推定値として用いた：

Percent Coefficient of Variation (% CV)=(Standard Deviation/average value)*100
変動係数（％CV）＝（標準偏差/平均値）×100

Quadratic Least Squares Analysis: The standard curve fit was determined using a quadratic equation with 1/x2 weighting:
二次最小二乗分析：標準曲線フィッティングを、1/x²重み付けを用いた二次方程式を用いて決定した：

y=ax 2 +bx+c
y＝ax²＋bx＋c

where: y=peak area ratio of the calibration standards to internal standard
[式中、y＝内部標準に対する較正標準のピーク面積比率

x=concentration of the calibration standard
x＝較正標準の濃度

a=quadratic coefficient of x2
a＝x²の二次係数（quadratic coefficient）

b=quadratic coefficient of x
b＝xの二次係数

c=the constant as the y-intercept of the calibration curve
c＝較正曲線のy切片としての定数]

US2021017426(3M INNOVATIVE PROPERTIES CO [US])
[0099] Example 2 was generated similarly to that of Example 1, however the target number of channels was increased such that the plano-area to total surface area ratio was designed for 75%.
実施例２は、実施例１と同様に作製したが、平面面積対総表面積比率が７５％となるように設計されるように、チャネルの目標数を増加させた。

超砥粒

US2021214596(SAINT GOBAIN ABRASIVES INC [US])
[0109] Each of the metal-bonded abrasive bodies had a first content of superabrasive particles (i.e., diamond abrasive particles) of 1-3 vol %, a first content of porosity of 66-70 vol %, a first content of bond material of 28-32 vol % for a total volume of each abrasive body.
【０１０５】
  各金属結合研磨体は、各研磨体の総体積に対して、超砥粒（すなわち、ダイヤモンド砥粒）の第１の含有量が１～３ｖｏｌ％、気孔率の第１の含有量が６６～７０ｖｏｌ％、結合材の第１の含有量が２８～３２ｖｏｌ％であった。

輝度分布

US2023168541(CORNING INC [US])
Though not shown, the angular luminance distributions of the angularly Lambertian light source 400 a or 400 b nearly follow the Lambertian distribution.
図示されてはいないが、角度的にランバート配光の光源４００ａまたは４００ｂの配光輝度分布はランバート配光分布をほぼ踏襲する。

The spatially uniform and angularly Lambertian light source 400 a may be constructed with LEDs of different pitches or with different volume diffuser plates, as long as the spatial luminance and spatial color coordinates that the light source provides satisfy the above conditions.
空間的に均一で角度的にランバート配光の光源４００ａは、この光源のもたらす空間輝度および空間色座標が上記の諸条件を満たしている限り、多様なピッチの発光ダイオードで構成されていてもよいし、或いは、多様なボリューム散光板で構成されていてもよい。

強め合い、弱め合い

US2023158458(LHOIST RECH ET DEVELOPPEMENT SA [BE])
[0038] In crystalline materials, the scattered X-rays undergo constructive and destructive interferences.
【００３７】
  結晶性材料において、散乱されたＸ線は、強め合い干渉および弱め合い干渉を受ける。

This process of diffraction is described by Bragg’s Law (nλ=2d sin θ). The diffracted X-rays are detected, processed, and counted.
この回折プロセスは、ブラッグの式（ｎλ＝２ｄ  ｓｉｎθ）により表される。回折されたＸ線は、検出、処理およびカウントされる。

US11243390(ILLUMINA INC [US])
[0201] A dedicated target device for calibrating and quality control checking in a SIM system may include other optical features, in addition to or in lieu of including a pattern of dots as described above.
【０２０５】
  ＳＩＭシステムにおける較正及び品質管理チェックのための専用の標的デバイスは、上述のドットパターンを含むことに加えて、又はその代わりに、他の光学的特徴を含んでもよい。

For instance, a target device may include a patterned line array.
例えば、標的デバイスは、パターン化された線アレイを含んでいてもよい。

Such a line array may include line pairs. Each line pair may be angled at required/expected angles of the structured illumination.
このような線アレイは、線ペアを含んでいてもよい。各線ペアは、構造化照明の必要な／予想の角度で傾斜していてもよい。

Thus, when the patterned light is shifted in and out of phase of the line pairs,
したがって、線ペアの位相と一致するように、また線ペアの位相からずれるように、パターン化された光がシフトされると、

differences in resultant intensity (as a result of the ranging constructive/in-phase and destructive/opposite-phase interference) may enable measurement of the level of parallelism between the two patterns. 
（強め合い／同位相及び弱め合い／逆位相の干渉の範囲の結果として）得られる強度における差により、２つのパターン間の平行度の測定が可能となり得る。

車両の；冠詞、既出

WO2021204353(TOYOTA MOTOR EUROPE [BE])
[0043] Figure 1 shows a schematic view of a transmission of a vehicle;

[0044] Figure 2A shows a torque-speed diagram;

[0045] Figure 2B shows a torque-speed plot versus time;

[0046] Figure 3 shows a torque-speed plot versus time;

[0047] Figure 4 shows a torque-speed plot versus time;

[0048] Figure 5 shows a control diagram;

[0049] Figure 6 shows a control diagram;

[0050] Figure 7 shows a schematic view of a transmission of a vehicle;

[0051] Figure 8 shows a schematic view of a transmission of a vehicle.

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[0133] Figure 7 shows a schematic view of an exemplary machine (in this case an exemplary hybrid vehicle 1 , for which a transmission is visible). The hybrid vehicle 1 of Figure 7 differs from the hybrid vehicle 11 of Figure 1 in that the second motor- generator 421 of the load system 4 is coupled to a different planetary gearset (called a second planetary gearset 22) of the transmission device 2 from the internal combustion engine 31 and the first motor-generator 411 (which are still connected to the first planetary gearset 21 of the transmission device 2). 

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[0135] Figure 8 shows a schematic view of an exemplary machine 1" (in this case an exemplary hybrid vehicle 1", for which a transmission is visible). The hybrid vehicle 11" of Figure 8 differs from the hybrid vehicle 1 of Figure 7 in that the second planetary gearset 22, to which the second motor-generator 421 of the load system 4 is coupled, is a Ravigneaux gearset 23. The ring portion 233 of the Ravigneaux gearset 23 is groundable (able to be fixed in rotation with respect to the vehicle) via a first clutch 234. 

（＊異なる車両）

 

ストロークする

US2023080231(AIR LIQUIDE [FR])
[0039] In particular, this pulled and preferably upward stroke of the piston 5 during the compression to a high pressure generates a tensile force on the rod of the piston. 
【００３６】
    具体的には、高圧に圧縮する間にこれが引かれて、好ましくはピストン５が上方にストロークすることにより、ピストンのロッドに張力が発生する。

US11674602(DELTAVALVE LLC [US])
In some embodiments, as the valve strokes, the blind 170 will remove built-up debris.
いくつかの実施形態では、弁がストロークするとき、ブラインド１７０は積層した残屑を取り除くことになる。

In some embodiments the valve is only stroked after extended intervals that may be monthly, annually, every five years, or longer.
いくつかの実施形態では、弁は月に１度、年に１度、５年ごと、またはそれより長い場合がある長期の間隔の後にのみストロークされる。

四体相互作用

US10175389(UNIV PRINCETON [US])
where C0 (k) is associated with the target structure factor by Eq. M4. If Eq. M11 is taken to be the potential energy of an N-body system, then two-, three-, and four-body interactions are present (Uche et al., Phys. Rev. E 74: 31104, 2006).
【００８５】
  ここで、Ｃ_０（ｋ）は、式Ｍ４による目標構造因子と関連する。式Ｍ１１をＮ体系のポテンシャルエネルギーに取り込む場合、二体、三体及び四体相互作用が存在する（論文：Uche et al, Phys. Rev. E 74: 31104, 2006）。

Equation M11 has a global minimum of zero, for χ<1, if and only if there exist configurations that satisfy all of the imposed constraints.
式Ｍ１１は、課される制約のすべてを満たす配置が存在する場合かつその場合に限り、χ＜１について、最小値ゼロを有する。

Minimizing Eq. M11 is used to construct super-ideal gases and equi-luminous materials as ground-state configurations.
式Ｍ１１の最小化を使用して、基底状態配置としての超理想気体及び等照度材料(equiluminous material)を構成する。

ウェット処理

US2022365434(LAM RES CORP [US])
For example, the removal of material may be performed by leveraging differences in chemical composition, density, and cross-linking of the film.
例えば、材料の除去は、膜の化学的組成、密度及び架橋の差を活用することによって実施してよい。

Removal may be by wet processing or dry processing, as further described herein.
除去は、本明細書で更に説明するように、ウェット処理によるものであっても、ドライ処理によるものであってもよい。