レーザーを照射

US2018245154(UNIV DUKE [US])
Such methods include traditional northern blotting and surface-enhanced Raman spectroscopy (SERS),
そのような方法には、伝統的なノーザンブロッティングおよび表面増強ラマン分光法（ＳＥＲＳ）

which involves shooting a laser at a sample exposed to surfaces of plasmonic-active metal structures with gene-specific probes, and measuring changes in light frequency as it scatters.
（それは、遺伝子特異的プローブを有するプラズモン活性金属構造の表面に曝された試料にレーザーを照射し、それが散乱させるにつれての光周波数の変化を測定することを含む）が含まれる。

US11592386(BECTON DICKINSON CO [US])
[0151] In certain embodiments, methods include irradiating the sample with two or more beams of frequency shifted light.
【０１４１】
  特定の実施形態では、方法は、試料を周波数シフトされた光の２つ以上のビームを照射することを含む。

As described above, a light beam generator component may be employed having a laser and an acousto-optic device for frequency shifting the laser light.
上記のように、レーザーを周波数シフトさせるための音響光学デバイスを有する光ビーム発生器構成要素が採用され得る。

In these embodiments, methods include irradiating the acousto-optic device with the laser. 
これらの実施形態では、方法は、音響光学デバイスにレーザーを照射することを含む。

US2021139321(MASSACHUSETTS INST TECHNOLOGY [US])
[0078] FIG. 3 shows the minimum achievable feature size of 5 μm using LAMPE micromachining process when a 10 micrometer beam spot-size is used.
【００４１】
  図３は、ビームスポットサイズが１０マイクロメートルのレーザーを使用した場合、ＬＡＭＰＥ微細加工プロセスによって加工できる最小フィーチャサイズ５μｍを示している。

This feature is created by irradiating a single pulse of laser with wavelength 532 nm and pulse duration 20 ns on a copper target. 
これは、ターゲットである銅に対し、波長５３２ｎｍ、パルス幅２０ｎｓの単一パルスレーザーを照射して加工される。

US2022098279(AMGEN INC [US])
When FITC-tagged aflibercept and biotinylated PlGF bind to each other, the acceptor beads and the donor beads are brought into close proximity.
ＦＩＴＣ標識化アフリベルセプト及びビオチン化ＰｌＧＦが互いに結合すると、アクセプタービーズ及びドナービーズは近接させられる。

When a laser is applied to this complex, ambient oxygen is converted to singlet oxygen by the donor beads. 
この錯体にレーザーを照射すると、ドナービーズによって周囲酸素が一重項酸素に変換される。

WO2020112466(CORNING INC [US])
[0032] According to aspect (28), the method of aspect (23) is provided, wherein the ceramming comprises irradiating the precursor glass with a laser to form the glass ceramic.
【００３２】
  態様（２８）によれば、ガラスセラミックを形成するために、セラミック化するステップが、前駆体ガラスにレーザーを照射するステップを含む、態様（２３）記載の方法が提供される。

吸気通路

US11408294(BORGWARNER INC [US])
Fig. 1 of the present application is adapted from Fig. 2 of US Application Publication 20160025044, the disclosure of which is incorporated herein by reference.
【００１６】
  本出願の図１は、米国特許出願公開第２０１６／００２５０４４号の図２から改造されたものであり、その開示は参照として本明細書に組み込まれる。

Fig. 1 provides an overview of the exhaust gas flow to the exhaust turbine 32 of the turbocharger.
図１は、ターボチャージャーの排気タービン３２への排気ガス流れの概要を示す。

The internal combustion engine 12 system includes an intake passageway 18 and exhaust manifold 20.
内燃機関１２システムは、吸気通路１８及び排気マニホールド２０を含む。

The intake passageway 18 is in fluid communication with the combustion chambers 16 to supply intake air to the combustion chambers 16.
吸気通路１８は、燃焼室１６と流体連通して吸気を燃焼室１６に供給する。

The exhaust manifold 20 is in fluid communication with the combustion chambers 16 to receive exhaust gas discharged through exhaust ports to the outside of the combustion chambers 16.
排気マニホールド２０は、燃焼室１６と流体連通して排気口を通じて燃焼室１６の外部に排出される排気ガスを受け取る。

曲線的に

US11598224(GEN ELECTRIC [US])
[0027] The illustrated exhaust diffuser 36 has an annular wall 40 , which gradually increases in diameter in a downstream direction 42 of the exhaust flow from the gas turbine engine 12 toward the exhaust collector 30 .
【００１６】
  図示の排気ディフューザ３６は、ガスタービンエンジン１２から排気コレクタ３０に向かう排気流の下流方向４２に徐々に直径が増す環状壁４０を有する。

The annular wall 40 may be described as a diverging or expanding annular wall, which diverges away from a longitudinal axis 44 in the downstream direction 42 of exhaust flow.
環状壁４０は、排気流の下流方向４２に向かって長手方向軸４４から離れるように広がる末広がりの、または拡張する環状壁として説明することができる。

The annular wall 40 may expand linearly (e.g., frustoconical wall) and/or curvilinearly (e.g., curved annular wall or bell shaped wall). 
環状壁４０は、直線的に拡張していても（例えば、円錐台状の壁であっても）および／または曲線的に拡張していていも（例えば、湾曲環状壁または釣鐘状壁であっても）よい

EP4168065(BAYER HEALTHCARE LLC [US])
The at least one retaining member may be linearly or curvilinearly contiguous between the first end and the second end.
少なくとも１つの保持部材は、第１の端部と第２の端部との間で直線的または曲線的に連続していてもよい。

The plunger may be configured to engage the plunger engagement mechanism regardless of angular orientation of the plunger relative to the piston of the fluid injector.
プランジャは、流体注入器のピストンに対するプランジャの角度配向にかかわらず、プランジャ係合機構と係合するように構成されてもよい。

一部又は全部として

US11570888(MILWAUKEE ELECTRIC TOOL CORP [US])
[0181] Thus,
【０１５０】
このように、

among other things, a host device is disclosed including a compartment that receives an insertable wireless communication device with an antenna that

uses a conductive layer of a PCB within the host device as part or all of a ground plane of the antenna to allow the antenna to meet a minimum antenna efficiency standard while maintaining a small size of the insertable wireless communication device.
挿入型ワイヤレス通信デバイスの小型サイズを維持しながら、アンテナが最小アンテナ効率規格を満たすことを可能にするために、ホストデバイス内のＰＣＢの導電層をアンテナの接地面の一部又は全部として使用する

アンテナを有する挿入型ワイヤレス通信デバイスを収容するコンパートメントを含むホストデバイスが、とりわけ、開示されている。

US11033440(PROCTER & GAMBLE [US])
[0150] The substrates of the present disclosure
【０１１９】
  本開示の基材が、

may be used as a portion of, or all of, any suitable products,

such as dusters, wipes (wet or dry), makeup removal substrates, paper towels, toilet tissue, facial tissue, medical gowns, surgical substrates, wraps, filtration substrates, or any other suitable products.
任意の好適な製品、例えば、ダスター、雑巾（湿式又は乾式）、メークアップ除去基材、ペーパタオル、トイレットペーパ、顔用ティシュ、医療用ガウン、外科用基材、ラップ、ろ過基材若しくは他の

任意の好適な製品の、一部又は全部として使用されてよい。

US11386424(APPLE INC [US])
Access data 652 via path 65 
パス６５を介したアクセスデータ６５２は、

may be provisioned on a secure element of device 100 as at least a portion or all of an access SSD
アクセスＳＳＤの少なくとも一部又は全部としてデバイス１００のセキュアエレメント上にプロビジョニングされてもよく、

and may include an access applet 153 b with an access key 155 b . 
アクセス鍵１５５ｂを有するアクセスアプレット１５３ｂを含むことができる。