高解像度化

US2022127187(AGC GLASS EUROPE [BE])
Further, as the resolution of the cameras used increases the need for a clear distortion free field of view increases.
さらに、使用されるカメラの高解像度化に伴い、鮮明でゆがみのない視野に対する必要性が高まっている。

US10530380(RAYTHEON CO)
[0003] Over the last few years, electro-optical sensors have been developed that incorporate increasingly higher resolution.
【０００２】
  ここ数年、ますます高解像度化された電子光学センサが開発されてきた。

Such detectors may have different operations modes or settings that need to be stored or altered.
そのような検出器は、記憶又は変更される必要がある異なる動作モード又は設定を有することがある。

US2020023658(KATEEVA INC)
[0004] In the case of display devices, such as OLED displays, for example, with increases in resolution and corresponding decreases in pixel size,
【０００４】
  有機ＬＥＤディスプレイなどの表示装置の場合、高解像度化に伴い画素サイズが低減するため、

accuracy and precision of the print components, such as the printhead for example, becomes increasingly important to maintain quality of the resulting device.
製造される装置の品質を維持するには、例えばプリントヘッドなどの印刷部品の正確度と精度が重要となりつつある。

US2021013034(LAM RES CORP)
The fact that the light has a wavelength significantly greater than the desired size of the features to be produced on the semiconductor substrate creates inherent issues.
その光が、半導体基板上に形成されるべき所望のフィーチャサイズより著しく大きい波長を有するという事実は、特有の問題を引き起こす。

Achieving feature sizes smaller than the wavelength of the light requires use of complex resolution enhancement techniques, such as multipatterning.
光の波長より小さいフィーチャサイズを実現することは、マルチパターニングなどの複雑な高解像度化技術の使用が必要である。

Thus, there is significant interest and research effort in

developing photolithographic techniques using shorter wavelength light, such as extreme ultraviolet radiation (EUV), having a wavelength of from 10 nm to 15 nm, e.g., 13.5 nm.
よって、１０ｎｍから１５ｎｍ（例えば、１３．５ｎｍ）の波長を有する極紫外放射線（ＥＵＶ）などのより短い波長光を用いるフォトリソグラフィ技術の開発

は、意義深い重要性と、大変な研究努力とがある。