と対向する、と反対側：同じ？

WO2019108237
Although not depicted from the perspective of Figure 30A (but locations for which are shown in Figure 29C),
[0327] 図３０Ａの視点からは図示されないが（ただし、その位置は図２９Ｃに示される）、

a first source or drain region may be formed adjacent a first side of the placeholder gate electrode 3006,
第１ソース又はドレイン領域は、プレースホルダゲート電極３００６の第１側面に隣接して形成され得て、

and a second source or drain region may be formed adjacent a second side of the placeholder gate electrode 3006, the second side opposite the first side.
第２ソース又はドレイン領域は、プレースホルダゲート電極３００６の第２側面に隣接して形成され得て、第２側面は第１側面と対向する。

Additionally, gate dielectric spacers may be formed along the sidewalls of the placeholder gate electrode 3006,
更に、ゲート誘電体スペーサは、プレースホルダゲート電極３００６の側壁に沿って形成され得て、

and an inter-layer dielectric (ILD) layer may be formed laterally adjacent the placeholder gate electrode 3006.
層間誘電（ＩＬＤ）層は、プレースホルダゲート電極３００６に横方向に隣接して形成され得る。

US10228418
[0037] The IC package 102 may have a surface 114 opposite to the surface 108 .
【００１７】
  ICパッケージ102は、表面108と対向する（＊反対側？同じ？）表面114を有していてもよい。

（＊空間を介在しなくても「対向」でOK？）

An electrical contact element 120 may be disposed on the surface 114 of the IC package 102 .
電気的接触要素120は、ICパッケージ102の表面114の上に配置されてもよい。

Although the electrical contact element 120 may be discussed in the singular, this is simply for ease of illustration, and the IC package 102 may include a plurality of electrical contact elements 120 . 
電気的接触要素120は単数形で議論されてもよいが、このことは図示の容易さのために過ぎず、ICパッケージ102は、複数の電気的接触要素120を含んでもよい。

The first socket 104 may have a surface 162 opposite to the surface 130 .
第1のソケット104は、表面130と対向する表面162を有してもよい。

EP3983119
The front chamber housing 164 may include an interior face 168 at least partially defining the chamber 112.
前部チャンバハウジング１６４は、チャンバ１１２を少なくとも部分的に画定する内面１６８を含み得る。

The rear chamber housing 166 may be a cap-like feature complementary to the front chamber housing 164
後部チャンバハウジング１６６は、前部チャンバハウジング１６４と相補的なキャップ状の機能部とすることができ、

and define a front face 170 at least partially defining the chamber 112 opposite the interior face 168 (see Figure 10). 
内面１６８と対向する（＊副詞「反対側で」？同じ？）チャンバ１１２を少なくとも部分的に画定する前面１７０を画定する（図１０参照）。

US2020383880
 The absorbent article further comprises side panels 30 , elasticized leg cuffs 32 , elastic waist features 34 , and a fastening system generally designated 40 .
吸収性物品は、サイドパネル３０と、伸縮性レッグカフ３２と、弾性腰部機構３４と、全体として４０と指定される締着システムとを更に含む。

The diaper 20 has a first waist region 36 , a second waist region 38 opposed to the first waist region 36 , and a crotch region 37 located between the first waist region 36 and the second waist region 38 . 
おむつ２０は、第１の腰部領域３６と、第１の腰部領域３６と対向する（＊空間を介して）第２の腰部領域３８と、第１の腰部領域３６と第２の腰部領域３８との間に位置する股部領域３７とを有する。

US2020383547
[0092] As shown, the robotic cleaner 100 includes a vacuum including suction conduit 155 , a dust cup 144 and a suction motor 142 .
【００９２】
  示されるように、ロボットクリーナー１００は、吸引導管１５５、ダストカップ１４４および吸引モーター１４２を含む真空装置を含む。

The suction conduit 155 disposed at the bottom of the chassis 120 in opposed facing relationship to the cleaning surface and is fluidly coupled to the dust cup 144 and the suction motor 142 . 
吸引導管１５５は、シャーシ１２０の底部に配置され、クリーニング表面と対向する関係で（＊空間を介して）、ダストカップ１４４および吸引モーター１４２に流体的に連結される。

US2020376700
[0026] The exemplary polishing system 100 includes the platen assembly 102 having a polishing pad 110 mounted thereon, a substrate carrier 108 disposed above the polishing pad 110 and facing there towards（＊theretoward）.
【００１８】
  [0025] 例示的な研磨システム１００は、研磨パッド１１０が上に取り付けられたプラテンアセンブリ１０２と、研磨パッド１１０の上方に配置された基板キャリア１０８であって、研磨パッド１１０に対向する基板キャリア１０８とを含む。

The platen assembly 102 is rotatable about an axis A, the substrate carrier 108 is rotatable about an axis B and is configured to sweep back and forth from an inner diameter to an outer diameter of the platen assembly to, in part, reduce uneven wear of the surface of the polishing pad 110 .
プラテンアセンブリ１０２は、軸Ａの周りで回転可能であり、基板キャリア１０８は、軸Ｂの周りで回転可能であり、プラテンアセンブリの内径から外径まで前後に掃引されて、部分的に、研磨パッド１１０の表面の不均一な摩耗を低減させるように構成されている。

US2022212154
[0044] Now referring to FIGS. 3 and 5, the plate 146 , like the stator 104 , can define a plurality of teeth 189 extending from the plate 146 along the longitudinal direction 2 .
【００３１】
  図３及び図５を参照すると、プレート１４６は、ステータ１０４と同様に、長手方向２に沿ってプレート１４６から延在する複数の歯１８９を画定することができる。

When disposed within the mixing chamber 82 , the plurality of teeth 189 can extend along the longitudinal direction 2 away from the rotor 134 towards the stator 104 .
混合チャンバ８２内に配置されると、複数の歯１８９は、長手方向２に沿って、ロータ１３４からステータ１０４に向かって延在することができる。

Accordingly, the plurality of teeth 189 extend along the longitudinal direction 2 in an opposing direction to the plurality of teeth 119 of the stator 104 . 
したがって、複数の歯１８９は、ステータ１０４の複数の歯１１９と対向する方向（＊空間を介して）に長手方向２に沿って延在する。

 

US2020367613
[0048] A contact surface 202 of the wristband 108 is positionable to contact the wrist of the user.
【００４７】
  リストバンド１０８の接触面２０２は、ユーザの手首に接触するように位置決め可能である。

Along the first section 400 , the contact surface 202 faces inwardly toward the wrist.
第１のセクション４００に沿って、接触面２０２は、手首に向いて内側に面する。

Along the second section 402 , the contact surface 202 continues as an outwardly facing surface.
第２のセクション４０２に沿って、接触面２０２は、外側に向いた面として続く。

An engagement surface 200 of the wristband 108 is positionable to contact itself when the wristband 108 is folded onto itself or when portions otherwise overlap each other.
リストバンド１０８の係合面２００は、リストバンド１０８が、リストバンド１０８自体の上に折り畳まれるとき、又は一部分が他の方法で互いに重なり合うときに、リストバンド１０８自体と接触するように位置決め可能である。

 Along the second section 402 , the engagement surface 200 faces inwardly toward the first section 400 and opposite the portion of the engagement surface 200 that extends along the first section 400 .
第２のセクション４０２に沿って、係合面２００は、第１のセクション４００に向いて内側に面し、かつ第１のセクション４００に沿って延びる係合面２００の部分と対向する（＊２００同士が対向する、重なる、面する、接触する）。

Magnets are provided near at least the engagement surface 200 to magnetically couple the first section 400 to the second section 402 , as described further herein.
磁石は、本明細書で更に説明するように、少なくとも係合面２００の近くに設けられて、第１のセクション４００を第２のセクション４０２に磁気的に結合する。

 

＊

opposite (to): across an intervening space from and usually facing

face: stand or sit opposite to: occupy a position with the face toward (Merriam-Webster Unabridged)