US10703915
Various commercial ALD reactors such as single wafer, semi-batch, batch furnace or roll to roll reactor can be employed for depositing the solid silicon oxide or carbon doped silicon oxide.
【0064】
固体酸化ケイ素又は炭素ドープ酸化ケイ素を堆積させるために、枚葉式ウェーハー反応器、セミバッチ式反応器、バッチ炉反応器、又はロールツーロール反応器などの様々な市販のALD反応器を使用することができる。
US8058174
In addition, the processing component may be configured for single wafer processing and may be used for chambers, focus rings, suspension rings, susceptors, pedestals, etc.
それに加えて、加工用部品は、枚葉式ウェーハ加工用として構成可能であり、さらにチャンバー、フォーカスリング、サスペンションリング、サセプター、ペデスタルなどに使用可能である。
US10500842
[0046] Referring now to the figures of the drawings in detail and first, particularly to FIG. 1 thereof, there is shown a method of the invention that is implemented as a part of camera evaluation software in an inkjet printing machine 4 , preferably in a sheet-fed inkjet printing machine 4 and,
【0031】
本発明による方法は、インクジェット印刷機4内の、好ましくは枚葉式のインクジェット印刷機4内のカメラ評価ソフトウェアの一部として実装されており、
in a further preferred embodiment, in a similar structural design, in a web-fed inkjet printing machine 4 .
また、さらなる好ましい実施形態では、同じ構造で、輪転式のインクジェット印刷機4内のカメラ評価ソフトウェアの一部としても実装されている。
US10702893
The compositions of the present disclosure are
本開示の組成物は、
chemically compatible with practically all materials used to construct existing and proposed semiconductor wafer cleaning process tools for batch and single wafer cleaning.
バッチ及び枚葉式洗浄のための既存の及び提案される半導体ウェハ洗浄プロセスツール構成に用いられる実用上すべての材料と、化学的に相溶する。
US8216255
[0090] In one embodiment, all of the image data generated by the detector during the scanning of the wafer includes more than one terabyte of image data.
【0082】
一実施形態では、ウエハの走査中に検出器によって生成された画像データは全て2テラバイト以上の画像データを含む。
For example, inspection of a single 300 mm diameter wafer
例えば、300mm径の枚葉式ウエハの検査では、
may generate in excess of 3 terabytes of image data, and the embodiments described herein can advantageously store all 3 terabytes of the image data.
3テラバイトを上回る画像データが生成され、本明細書に記載する実施形態では、3テラバイトの画像データを全て有利に記憶することができる。
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