集光

EP2676163
Finally, a focussing lens 59, for example an aspherical lens (f = 40 mm, Thorlabs), focuses the fluorescent light onto a second EM-CCD camera (for example SamBa SE-34, Sensovation), referred to as FCS camera 58.
最後に，集光レンズ５９，例えば非球面レンズ（Thorlabs社ｆ＝４０ｍｍ）が，ＦＣＳカメラ５８と呼ばれる第２ＥＭ－ＣＣＤカメラ（例えば，Sensovation社SamBa SE-34）に蛍光光を集光させる。

The total magnification of the second detection light path 50 may be, for example 39x, which may lead to a pixel size of 190x190 nm2 in sample space (actual size on the chip: 7.4x7.4 µm2), and to a maximum field of view that corresponds to 124x94 µm2 in the sample.
第２検出光路５０の全体倍率は例えば３９倍であってよく，これは標本空間における画素サイズ（１９０×１９０ｎｍ^２（チップ上の実際のサイズは７．４×７．４μｍ^２）と，標本における１２４×９４μｍ^２に対応する最大視野とにつながる。

Other magnifications and other pixel sizes and different detector arrays may be used with the present disclosure and may be adapted to the microscope and the sample 8 to be investigated.
本発明と共に，ほかの倍率，ほかの画素サイズ及び別の検出器配列を用いてもよく，顕微鏡及び調査すべき標本８に適合させてもよい。

WO2015038472
 In one embodiment, reference optics 556 can include a reference collection lens 514 and a reference detector 516.
一実施形態では、基準光学系５５６は、基準集光レンズ５１４及び基準検出器５１６を含むことができる。

Reference collection lens 514 is arranged to collect and direct the portion of the beams on reference detector 516, which is arranged to measure the intensity of the light. Reference optics are generally well known in the art and for the sake of brevity will not be discussed in detail .
基準集光レンズ５１４は、ビームの一部分を基準検出器５１６上に集光し方向付けるように配列され、基準検出器５１６は、光の強度を測定するように配列される。基準光学系は、一般的に、当該技術分野で周知であり、簡潔さのため、詳細には考察しない。

[0057] From telescope 588, the three beams pass through an objective lens 590, which is arranged for focusing the beams onto the surface of substrate 512. As the beams intersect the surface as three distinct spots, both reflected light beams and transmitted light beams may be generated.
【００５４】
  望遠鏡５８８から、３つのビームは、ビームを基材５１２の表面上に集束させるように配列される対物レンズ５９０を通過する。ビームが３つの別個のスポットとして表面と交差する際、反射光ビームと透過光ビームとの両方が発生し得る。

The transmitted light beams pass through substrate 512 , while the reflected light beams reflect off the surface. By way of example, the reflected light beams may reflect off of opaque surfaces of the substrate, and the transmitted light beams may transmit through transparent areas of the substrate.
透過光ビームは、基材５１２を通過するし、一方で、反射光ビームは、表面で反射される。例として、反射光ビームは、基材の不透明な表面で反射され得、透過光ビームは、基材の透明な区域を透過し得る。

The transmitted light beams are collected by transmitted light optics 558 and the reflected light beams are collected by reflected light optics 562.
透過光ビームは、透過光光学系５５８によって集光され、反射光ビームは、反射光光学系５６２によって集光される。

EP3477277
[0022] The collection optics 220 defines and collects light through the receiver field of view 208 for processing by the rest of the first receiver 200. In one embodiment, the collection optics 220 includes a collection lens 221, a solar filter 222, and/or a first focusing lens 223.
【００２１】
  [0033]  集光光学系２２０は、第１受信器２００の残り部分による処理のために、受信器視野２０８を定め、これを通る光を集光する。一実施形態では、集光光学系２２０は、集光レンズ２２１、太陽フィルタ２２２、および／または第１合焦レンズ２２３を含む。

In another embodiment, the collection optics 220 includes one or more mirrors that direct the optical beam 208 so that the optical receiver 208 need not be in line with the optical beam 208.
他の実施形態では、集光光学系２２０は、光受信器２０８が光ビーム２０８と整列しなくてもよいように、光ビーム２０８を導く１つ以上のミラーを含む。

WO2018234921
[0024] Referring first to FIG. 1 , an exemplary scanner 10 includes a condenser lens 12 for condensing radiation emitted from a radiation source (not illustrated),
【００２５】
  図１を参照すると、例示のスキャナ１０は、照射源（図示せず）から放出される照射を集光するための集光レンズ１２と、

a mask 16 having pattern corresponding to a circuit pattern to be formed on a semiconductor substrate,
半導体基板上に形成する回路パターンに対応するパターンを有するマスク１６と、

a slit 14 defining the radiation condensed by the condenser lens 12 to a limited (desired) region of the mask 16,
集光レンズ１２によって集光された照射をマスク１６の限られた（所望の）領域に画定するスリット１４と、

a projection lens system 18 for reducing the image of the radiation transmitted through the mask 16 and projecting the reduced image onto a substrate,
マスク１６を透過した照射の画像を縮小し、縮小された画像を基板上に投影するための投影レンズ・システム１８と、

and a wafer stage 20 provided under the projection lens system 18 for supporting the substrate. Scanner 10 may also be referred to as a stepper or a scanning stepper.
基板を支持するために投影レンズ・システム１８の下に設けられたウエハ・ステージ２０とを含む。スキャナ１０は、ステッパまたは走査ステッパと呼ばれることもある。

WO2018187176
The method further includes pouring a curable composition into the lens-mold and curing the curable composition to obtain a polymeric concentrator comprising a concentrating lens with a planar surface.
本方法は、硬化性組成物をレンズ成形型へと注入するステップと、平坦面を有する集光レンズを含む高分子集光器を得るために、この硬化性組成物を硬化させるステップとをさらに含む。

Figure 8A shows an image of an exemplary lens array- mold made using a 3-D printer. Figure 8B shows an image of an array of concentrators made using the lens array-mold of Figure 8A.
図８Ａは、３Ｄプリンタを使用して作製された、例示的なレンズアレイ成形型の画像を示す。図８Ｂは、図８Ａのレンズアレイ成形型を使用して作製された、集光器のアレイの画像を示す。

[0087] In an embodiment, the step of fabricating a solar cell on the first surface of the transparent substrate by solution processing includes fabricating an array of solar cell pixels on the first surface of the transparent substrate by solution processing and evaporation.
【００８７】
  一実施形態では、透明基板の第１の表面上に溶液処理により太陽電池を作製するステップは、溶液処理および溶液蒸着により、透明基板の第１の表面上に太陽電池ピクセルのアレイを作製するステップを含む。

In such embodiment, the step of providing a polymeric concentrator includes providing a flexible array of concentrators that allows collection of sunlight over the entire area that the solar cell device occupies while scaling down the illumination to the pixel size,
そのような実施形態では、高分子集光器を設けるステップは、照明を画素サイズまで絞る一方で、太陽電池装置が占有する領域全体に太陽光を集光することができる集光器のフレキシブルアレイを設け、

thereby providing enhanced uniform illumination from each micro-concentrator over each of the solar cell pixels.
これにより、太陽電池ピクセルそれぞれに各マイクロ集光器からの強化された均一な照明をもたらすステップを含む。

WO2018071617
[0052] This is the reason for an enhanced optical assembly 6 which comprises both an axicon and a focusing lens.
【００４０】
  これが、アキシコンおよび集光レンズの両方を含む向上した光学アセンブリ６の理由である。

FIG. 5A depicts such an optical assembly 6 in which a first optical element (viewed along the beam direction) with a non-spherical free surface designed to form an extensive laser beam focal line 2b is positioned in the beam path of laser 3.
図５Ａは、そのような光学アセンブリ６を描写し、当該光学アセンブリにおいて、広範囲なレーザービーム焦線２ｂを形成するように設計された非球状の自由表面を有する、ビーム方向に沿って見られる第１の光学素子がレーザー３のビーム経路に位置決めされている。

In the case shown in FIG. 5A, this first optical element is an axicon 10 with a cone angle of 5°, which is positioned perpendicularly to the beam direction and centered on laser beam 3. The apex of the axicon is oriented towards the beam direction.
図５Ａに示される場合において、この第１の光学素子は、５°の円錐角を有するアキシコン１０であり、当該アキシコンは、ビーム方向に対して垂直であり、レーザービーム３の中心に位置決めされている。アキシコンの頂点はビーム方向に向けられている。

A second, focusing optical element, here the plano-convex lens 11 (the curvature of which is oriented towards the axicon), is positioned in beam direction at a distance zl from the axicon 10.
第２の集光光学素子、ここで、その湾曲がアキシコンに向けられている平凸レンズ１１は、ビーム方向にアキシコン１０から距離ｚ１に位置決めされている。

The distance zl, in this case approximately 300 mm, is selected in such a way that the laser radiation formed by axicon 10 circularly incides on the marginal area of lens 11 (i.e., is incident in a circular or annular manner on the lens 11).
この場合ではおよそ３００ｍｍである距離ｚ１は、アキシコン１０によって形成されるレーザー照射が、レンズ１１の周辺面積に円形に入射する、すなわち、レンズ１１に円形または円環形で入射するように、選択される。

Lens 11 focuses the circular radiation on the output side at a distance z2; in this case approximately 20 mm from lens 11, on a focal line 2b of a defined length, in this case 1.5 mm. The effective focal length of lens 11 is 25 mm here.
レンズ１１は、円形照射を出力側に、この場合ではレンズ１１からおよそ２０ｍｍである距離ｚ２で集光し、定められた長さの焦線２ｂに、この場合では１．５ｍｍで集光する。レンズ１１の有効な焦点長さは、ここで、２５ｍｍである。

The circular transformation of the laser beam by axicon 10 is labeled with the reference SR.
アキシコン１０によるレーザービームの円形変換は、参照符号ＳＲで示される。