US10829938
[0062] The roof sheeting membranes can be evaluated for physical properties using test methods developed for mechanical rubber goods.
【0062】
屋根シート加工膜の物性については、機械用ゴム製品のために開発された試験方法を用いて評価することができる。
Typical properties include, among others, tensile strength, modulus, ultimate elongation, tear resistance, ozone resistance, water absorption, burn resistivity, and cured compound hardness.
典型的な特性としては、とりわけ、引張強さ、モジュラス、極限伸び、耐引裂性、抗オゾン性、吸水率、耐燃焼性及び硬化コンパウンド硬度が挙げられる。
US10695482
In some embodiments, surfaces may include silicon, for example, silicon nanofabricated membranes (see, e.g., U.S. Patent Publication No. 2004/0124147).
幾つかの実施形態では、表面は、ケイ素、例えば、ケイ素ナノ加工膜(例えば、米国特許出願公開第2004/0124147号明細書を参照されたい)を含んでもよい。
US2021205810
[0046] The second filter membrane 28 may be made from similar materials and have similar, albeit smaller pore sizes than the first filter membrane 24 .
【0021】
[0045]第2の濾過膜28は、第1の濾過膜24よりも小さい孔径ではあるが、同様の材料から作製することができ、同様の細孔を有することができる。
As explained herein, the first filter membrane 24 and the second filter membrane 28 may be formed using single layer, woven meshes of polymer fibers
本明細書で説明するように、第1の濾過膜24と第2の濾過膜28は、ポリマー繊維の単層の織メッシュを使用して形成することができる
although they may also be formed using microfabricated membranes or track-etched membranes.
が、微細加工膜またはトラックエッチング膜を使用して形成することもできる。
US11143594
[0073] The strength and deflection, also denoted herein as displacement or actuation, of silicon nitride membranes has been studied using theoretical models of membrane stress (Equation 1) and comparison to fabricated membranes.
【0053】
本明細書では変位又は作動としても表される窒化ケイ素膜の強度及び撓みは、膜応力の理論モデル(式1)及び加工膜との比較を用いて研究されている。
US10777800
[0008] At least certain embodiments, aspects, or objects of the present application or invention may address the above needs, and/or may provide novel, improved or modified
【0011】
本出願または本発明の少なくとも特定の実施態様、側面または目的は、上記のニーズに対処することができ、および/または新規の改良されたまたは改変された
membranes, multilayer membranes, separator membranes, calendered membranes, stretched membranes, stretched and calendered membranes, stretched and calendered dry process membranes, separator membranes,
膜、多層膜、セパレータ膜、カレンダー加工膜、延伸膜、延伸カレンダー加工膜、延伸カレンダー加工乾式法膜、セパレータ膜、
coated membranes, membranes with unique structures, membranes with enhanced performance, membrane separators, battery separators,
被覆膜、独特の構造を持つ膜、強化された性能を持つ膜、膜セパレータ、電池セパレータ、
shutdown separators, and/or batteries or cells including such membranes or separators,
シャットダウンセパレータ、および/またはかかる膜またはセパレータを含む電池またはセル、
and/or methods of making such membranes, separators, cells,
および/またはかかる膜、セパレータ、セル、および/または電池を製造する方法、
and/or batteries, and/or methods of using such membranes, separators, cells, and/or batteries.
および/またはそのような膜、セパレータ、セル、および/または電池を使用する方法を提供し得る。
EP3036189
Once properly aligned, the bonding agent is then heated, depressurized or otherwise caused to sublime or vaporize, thereby releasing the processed membrane from the carrier.
いったん適切に位置合わせしたら、結合剤を加熱し、圧抜きし、又はそうでなければ昇華若しくは気化させ、それにより処理加工膜をキャリアから離す。
This process may be repeated a plurality of times to build a desired stack of membranes.
このプロセスを複数回繰り返して膜の所望のスタックを構築することができる。
US2018203258(JP)
In addition, because a polarizable compact according to the present invention is used for glasses,
【0065】
また、本発明における偏光性成形体は眼鏡用途であるため、
the obverse surface side (object side) is generally covered with a hard coat film through a primer film, and also the reverse surface side (eyeball side) is covered with a hard coat film through a primer film, as needed, as in the prior art.
通常、表面側(対物側)さらには、適宜、裏面側(眼球側)は、従来同様、プライマー膜を介してハードコート膜で被覆されるとともに、
In addition, each hard coat film is covered with a functional surface treatment film including a vapor deposited film.
該ハードコート膜の上に蒸着膜を含む機能性表面加工膜で被覆されている。
US9724847(JP)
[0021] Meanwhile, on the upper surface of the zirconia thermal insulating layer, a processing film of a nickel-phosphorous alloy is formed by plating.
【0016】
一方、ジルコニア断熱層の上部表面には、めっき法でニッケルりん合金の表面加工膜が形成される。
The general procedure of plating is as a) to d) herein below:
その方法は、一般的には以下のa)~d)の通りである。
US7629092(JP)
In the present embodiment,
本実施形態では、
the film-thickness measuring device 27 measures
the film thickness of a lower layer structure body being patterns lying in lower layer of a film to be subjected to surface processing (for example, an interlayer insulating film),
加工対象となる表面加工膜(例えば層間絶縁膜)の下層に存するパターンである下層構造体、
particularly the film thickness of a lower layer structure body (for example, wirings) made of a metal material with a high reflectivity with respect to the electron beam, prior to the film-forming of the film to be subjected to surface processing.
特に電子ビームの反射率の高い金属材料からなる下層構造体(例えば配線)の膜厚を、表面加工膜の成膜に先立って
膜厚測定装置27により測定しておく。