サムスンのDRAM工場、半導体製造プロセスに不可欠なクリーンルームの機器がすべて汚染

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サムスンのDRAM工場、半導体製造プロセスに不可欠なクリーンルームの機器がすべて汚染

サムスンが工場の汚染に直面
2019-11-12

DRAMチップの製造に特化したサムスンのファウンドリ部門は、数週間前に発生したミスによる課題に直面しています。 これらの間違いは、200 mmウェーハでのDRAMチップの製造に必要なすべての機器が感染したクリーンルームの汚染という形であり、サムスンは新しいウェーハを廃棄する必要があるため、数百万ドルの損失を被っています。

クリーンルームは半導体製造プロセスに不可欠です。なぜなら、クリーンルームはすべての汚染物質をシリコンから遠ざけ、シリコンを清潔で使用可能な状態に保つからです。 Samsungは、1x nmクラスのDRAMチップ用の200 mmウェーハで動作するDRAM製造施設のクリーンルームを確保できていません。 ウェーハ処理に使用されるツールは汚染されているため、相互作用のためにウェーハ自体が汚染されています。 サムスンは「数十億韓国ウォン」を失い、数百万ドルをもたらしたことを認めた。 これがDRAM市場に大きな影響を与えないという安心できることは、生産が計画どおりに進んでおり、問題が整理されていることです。したがって、DRAMの価格に大きな影響がないことを期待できます。

https://www.techpowerup.com/261049/samsung-faces-factory-contamination
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