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PED、シンガポールを本社に次ぐ研究開発拠点へ 研究開発のスピード化とグローバル化を加速

2011-06-29 | 電子部品業界



 パナソニック・エレクトロニックデバイスは、シンガポール開発技術センターを本社開発本部(大阪府門真市)に次ぐ第2の研究開発拠点と位置付け強化していく。

 研究開発のスピード化とグローバル化を加速するのが狙い。


●アンテナ機能を充実

 シンガポール開発技術センターは、これまで通りメディカルエレクトロニクス領域に比重を置いて研究開発に取り組む。

 一方、同社第2の研究開発拠点としてデバイス、ソフトウエアの研究開発ほか、メディカルエレクトロニクスなどの新規分野の研究開発のアンテナ機能を充実させる。

 久保実取締役技術・知財担当(CTO)デバイスアプリケーション本部長は、「スピードと執念を持ってお客さまに価値を届けることで時代にマッチしたデバイスをタイミングよく提供できる。シンガポールを第2の研究開発拠点にしてグループの総合力を生かし、環境に対応した変革を自ら起こしてお客さまの要望、市場の変化をいかにスペックに落とし込んでいくかが大切だ」と説明する。

 10年度からスタートさせた中計3カ年経営計画『GT12』の中で、『狙って磨く』『狙って護る』『狙って造る』を基本コンセプトに研究開発においても、従来の延長線でない非連続な材料革新、プロセス革新で競争力のあるデバイスを生み出し、グローバルに新しい価値の提供に注力。

 本社開発本部とともに、第2の研究開発拠点のシンガポール開発技術センターと欧州(ドイツ・リューネブルグ)、中国(北京・中関村)の開発技術センターでの研究開発を加速。

 SE的機能と技術を密着させてデバイスソリューション提案を行う同社の日本(大阪府門真市)、欧州(リユーネブルグ)、中国(上海)、北米(サンノゼ)の四つのデバイスアプリケーション センター(DAC)との連携を図り、エリアごとのシーズ、ニーズに迅速に対応する体制を強化。

 材料技術、ソフトウエア技術をベースにパワーマネジメント、基板・実装、薄膜・MEMSの三つのコア技術でアルミキャパシタ、高密度基板、センサーなどの研究開発に取り組む。





【記事引用】 「電波新聞/2011年6月29日(水)/1面」


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