オルニチンなウィンタリング

年の瀬が 瀬の戸の際の 在りし故　流行の風邪に 負けじ勤しむ





【フード革命】

ことしはじめたもので印象に残ることって
何だろうと考えていたら、そのトップは「
日本百名山登破」を抜き『ネバネバ・パウ
ダー革命』に落ち着いた。米＋大豆（発酵）
＋卵＋緑茶＋α（パウダー）。米と大豆と
緑茶の育殖で環境保全し、養卵で牛肉食偏
重社会を是正する革命だという確信が、ふ
つふつと湧いてくるのを感じる。１日２食
のうち、１食はこれを「家ご飯」する習慣
が定着している。

最近は、納豆と卵をかき混ぜずにご飯に乗
せ、電子レンジで約５～10秒加熱してホコ
ホコにして頂くと全体が旨く馴染んだ食感
が得られる。牛丼やマクドやケンタッキな
ど目じゃないね、本当に。それほどエコノ
ミーで、エコロジーでヘルシーな三拍子揃
ったフード革命という確信。


最近、オルニチン食品やサプリメントが人
気だとか。これを組み込むことで酒飲みに
は完璧な『ネバネバ・パウダー食品』にな
ると下調べしてみる。しじみをはじめキハ
ダマグロ、チーズ、ヒラメ、小麦に含まれ
るので「地産・地消」というのでセタシジ
ミを乾燥しパウダーにすれば、貝殻は鶏の
餌として使えるということで、セタシジミ
の養殖方法と加工方法の研究開発というテ
ーマとして残った。


【ウィンタリング】

廃食油を再生してつくられたBDFは、通常
氷点下前後で固化し、目詰まりを起こすな
ど、問題があってこれまで寒冷地では使用
できなかった。BDFは添加剤を入れた場合
でも－10℃程度が使用限界だが気温が－20
℃程に下がると使用できない。低温下に放
置することで高融点成分を下層に沈降させ
除去する「ウィンタリング(凍結分離処理)
技術」で対処できるという。

添加剤投人後にウィンタリング（wintering）
することで－20℃の状況下でも使用可能な
燃料が作れることが実証された(※添加剤
投入後 －25℃まで下げた後に－11℃まで
上げ、50時間程度静置したものでは、特３
号軽油規格値を満足)。「小さなことをコ
ッコッと」とは漫才家で参議院議員の西川
きよしのキャッチフレーズだが、誠にひと
つひとつの積み上げがBDF の品質を向上さ
せるという好例だ。30年前、廃食油を回収
し石鹸をつくっていた頃を思い出しながら、
瞬く間に過ぎていった時間の早さに驚きつ
つ感心している自分がいる。

• JIS K2204規格による軽油の分類・性状

試験項目	試験方法	種　類
		特1号	1号	2号	3号	特3号
引火点　℃	JIS K2265	50以上			45以上
蒸留性状　90%留出 温度　℃	JIS K2254	360以下		350以下	330以下	330以下
流動点　℃	JIS K2269	+5以下	-2.5以下	-7.5以下	-20以下	-30以下
目詰まり点　℃	JIS K2288	－	-1以下	-5以下	-12以下	-19以下
10%残油の残留 炭素分質量%	JIS K2270	0.1以下
セタン指数(*2)	JIS K2280	50以上		45以上
動粘度(30℃)　mm2/s	JIS K2283	2.7以上		2.5以上	2.0以上	1.7以上
硫黄分　質量％	JIS K2541-1, JIS K2541-2, JIS K2541-6 又は JIS K2541-7	0.0050以下
密度(15℃)　g/cm3	JIS K2249	0.86以下
備　　考		夏季用		冬季用	寒冷地用

【ライティング革命】

ことしの『デジタル革命』現象で目立った
ことにアイパッドに現れた電子書籍元年に
あるが、もうひとつ、LED 照明の本格化が
あげられる。来年早々に「第３回　次世代
照明技術展」（ライティングジャパン）が
開催される。そうなんだ、10年前わたし（
たち）は、2011年には有機LE（Oleds）の本
格的な普及期に入ると考えていた。これは
少し甘かったが、いずれにしろ実用化がは
じまるのはまず間違いないと踏んでいる（
この山はでかいゾ～～～っと）。





【モア・ザン・ムーア】

ムーアの法則の乗り越えが本格化しそうだ。
半導体にはチップ上のトランジスタの集積
度が18～24ヵ月で倍増するという「ムーア
の法則」だが、微細化は電子機器の小型化
やコスト低減を実現し、電機産業の発展を
けん引してきたが、トランジスタをさらに
小さくすると電流や配線効率が低下するた
め、微細化はいよいよ限界にさしかかって
いるといわれる。限界に突き当たった半導
体業界の合言葉が「More than moore（モア・
ザン・ムーア、ムーアを超えろ）」。付加
価値を微細化だけに求めず、半導体にセン
サ機能などを組み入れて多機能化を目指す
試み。今までにない半導体を生み出す研究
が、電機産業の新たな発展につながる可能
性があるとされ激しい開発競合の渦中にあ
る。

その１つめは、微細化を象徴する「ムーア
の法則」限界を超えて推し進める「モア・
ムーア」と呼ばれるアプローチで相補型電
界効果トランジスタ（CMOS）の性能向上
をめざす技術潮流。



２つめが、CMOSにおける「ムーアの法則
」にピリオドが打たれたとしても、CMOS
のさらなる高性能化を追究する「ビヨンド
CMOS」で、従来のCMOSとはまったく異
なる原理に基づき、CMOS性能をはるかに
しのぐデバイスを創生する技術潮流。そし
て３つめのCMOSへ新機能を追加しようと
いう「モア・ザン・ムーア」と呼ばれる技術
潮流。

しかし、半導体製造プロセスの微細化が加
速し、半導体製造技術の分析・予測を行う
ITRS（国際半導体技術ロードマップ）が、
2009年に作成したロードマップに対し、主
要デバイス各社の微細化計画はこれを上回
っているという。きたる2011年には1Xnmプ
ロセスの詳細が固まり、いよいよ物理的な
加工限界に近づきそうだ。リーマンショッ
クに前後し、３次元実装などによるモア・
ザン・ムーアが叫ばれてきた半導体業界だ
が、ムーアの法則は決してまだ過去のもの
ではない状況下にある。主要デバイス各社
の微細化は、その速度を落とすどころか加
速し続け、一部でITRSロードマップを上回
っている。微細化を牽引しているNAND型フ
ラッシュメモリーは、東芝が今夏から24nm
プロセスでの量産を開始した。同社は1年～
1年半で次世代に置き換える戦略を推進して
おり、24nmの次は1Xnm世代の量産採用が予
測されているという。

いずれにしても、「窮すれば変ず、変ずれ
ば通ず」（易経）とこころしているが。