窒化アルミニウムスカンジウム薄膜、強誘電性示す東京工業大学らの研究グループは、膜厚が10nm以下の窒化アルミニウムスカンジウム薄膜を作製。これまでより高い強誘電性を有することが確認された。窒化アルミニウムスカンジウム薄膜、強誘電性示す交通系ICカードのメモリと言えばFeRAM、90年代には相当盛り上がったものの微細化という観点ではいまいち成功せず世の中のメモリとして主流にはなり切れてません。それで . . . Read more
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