◆井上陽水と私◆2005年1月1日から2011年12月まで

マルチクリエイター。井上陽水と私。 独身氷河期世代。当時、ペンネームは夏風アザミルク。

盛岡土産

2005-04-24 12:19:06 | Weblog

宮沢賢治は作家・詩人として有名だが、生前不遇だった。
職業をいろいろ変えている。
モラトリアムが長く、成功した一つの星だ。

「最近は、何歳までに、就職しないといけない、
と言った考えは、なくなってきた。
昔ほど、フリーターを特別視しない時代ですよ。」
と励まされた。

「君には期待しているよ」
という言葉を真に受けた。
プレッシャーを感じた。
後に「それは誰にでもいう挨拶だよ。
新人にそんな大切な仕事を任すことはありえない。
気楽にいけばいいんだよ。」
と、いわれた。

「早く一人で考えて仕事を進めろ」
と指示された時にうまく対処できない。

いま、ここで困っている。
『だから次にこうしてみる』
という頭の使い方が苦手。
これでは、開発には向かないと方向転換。

「そんな、我慢して働くほど、会社は大切じゃないよ。」
と励まされ、転職。




職場面接、拍子抜け

2005-04-21 17:34:19 | Weblog
今日、所長との対話研修があった。こうした面接は初めて。始まる前はドキドキした。

たが、内容は
「今の仕事はどう?」
「楽しく働いてます」
「今年でここは何年目?」
「なにか困ったことは?」
「なにかいいたいことは?」
「ここで長く働きたいです。」
「そういう人事のことは私では決められないんだ。まあ上層部に話は伝える」
以上。
なんとも拍子抜け。
事前の期待と不安が大きすぎました。

東芝PC交換

2005-04-18 20:31:32 | Weblog
昨日、液晶の不良を見つけた東芝パソコン返品、交換してもらいました。
この不良、最初、店員に見せたら現れなかった。焦った。電源いれて時間が経つと現れた。
ついでに、プリンタ複合機も購入。ポイントで16600円。


東芝PC失望

2005-04-17 20:34:04 | Weblog
先日購入したばかりの
東芝PC(Dynabook、PAPX)に
液晶の不具合。

写真はwindowsを立ち上げないときに撮影。
中央上の青い帯の終了の文字の右。
項目ヘルプの「へ」の字にかけて。

長く、Windows95に慣れた私は、
当然、画面テーマをクラッシックに設定した。
そのとき、画面の右に上から下まで
糸のような、緑の細い線が見えた。
最初、不良品とは気がつかなかった。

東芝PC電話センターに即電話。
不良品であることを確認。
購入した店に電話。
明日、交換を約束。
早目にわかって幸い。

東芝の技術に期待していたが、残念。

無気力男に朗報

2005-04-17 17:53:20 | Weblog
無気力男に朗報
昨日、コンビニで購入した女性誌より。

無気力な彼氏を持つ女性に向けて。
彼の脳はセロトニン不足。
対策は、
ガムを噛む。
朝日を浴びる。
食生活の改善。
納豆、マグロの刺し身、ほうれん草。

無気力な彼と付き合うのも、否定せず。
その対策まで書いてくれて、ありがたい。

ホリエモンに期待

2005-04-17 10:04:55 | Weblog
堀衛門で儲けられるか?

実は私、ライブドア株買いました。
株を買うのは、今回が初めて。
UFJ証券を利用したので、手数料が高い。
450円が、「売り」希望価格。
でも、売るよりも、間接的にでも、
フジテレビの株主にれるのかと思ってた。

ライブドアによるニッポン放送株の買収の行方は?
実質50%以上の株を取得。
フジテレビの抵抗。
ソフトバンクの介入。
この辺りは予想できる。
しかし、さまざまな手法には驚いた。

現在、和解協議中。
長引けば、双方のイメージダウンに。

問題は、その後だ。
業務提携は進むのか?
堀江社長はフジテレビのホームページの
集客力に注目。
ライブドアのポータルサイトへの
アクセス数アップを狙っているのか?
それだけでは、つまらない。

メディアとインターネットの融合に期待。
特に、ラジオは大好きなので楽しみにしている。

4月の俳句

2005-04-16 20:52:34 | Weblog
4月の俳句

見せたかった
一緒に植えた
クロッカス
With you, i hope see the spring flower here,
that were care for together

桜散る
別れの風に
たたずんで
The wind make cherry blossom fall away,
and i fell so lonely

楽しげな
宴の横を
一人歩いて
When i walk near the exciting party
under the cheery blossom,
i think i am not young

別れには
心にしみる
泣くギター
The good-bye girl leave me alone,
the sound of weeping guitar
make me missing-feeling

わらべ唄
蜜柑の花の
咲く頃に
When i liesen to a song, "orenge's flower",
i remenber my child days


生物時計を解明

2005-04-16 20:49:32 | Weblog
「生物時計」試験管で再現

05年4月15日、中日新聞、一面記事より。
名古屋大学、近藤孝男教授(理学)と
科学技術振興機構、中嶋正人研究員ら
が解明。

「生物時計」の時計の振り子にあたる部分を
再現したという。
3種類のタンパク質とエネルギー源を
試験管内で混ぜると、
24時間周期で反応が変化する。

単純な、しくみで、生物の大事な機能が、
再現できたのに驚いた。
研究の、成果はもちろん
シンプルでインパクトのある切り口がよい。

一方で、科学の進歩が、
人間の睡眠などの24時間周期の活動を
快適にする、役にたつ研究か、疑問も。

昔からの迷信や言い伝えの方が、役に立つ。
夜、しっかり寝て、
朝、快適に目覚めるための工夫。
食事、朝日、運動、牛乳、コーヒー、習慣だ。

文句も言ったが、
名古屋の研究者の優れた成果には
敬意を表しよう。








お気に入り音楽

2005-04-16 08:28:11 | Weblog
最近のお気に入り音楽
陽水以外では。

「オペラ座の怪人」
オペラ歌手の女性とファントムの男性が歌う。
映画版よりオリジナル版がすき。

「怪獣のバラード」
合唱曲。覚えやすく、元気な曲(バラード?)
{海がみたい、人を愛したい}という
フレーズがいいのかも。

「この空をとべたら」
中島みゆきの最新ライブDVDの一曲目。
加藤登紀子版より、みゆき版がすき。

4月の短歌

2005-04-16 08:26:59 | Weblog
4月の短歌

ゆったりと 朝風呂あとに 朝刊を
のんびりみるだけで 幸せあり

落ちついて なにかに取り組む 気力あり
熱が出過ぎて 眠気もおきず

ウォークマン 90分テープが 良く似合う
新旧和洋 とりまぜて

毎日が平凡退屈繰り返し
それが 安心安定予定通りの 幸せかも

食事は ゆっくり噛んで 腹八分
少ない量でも 満腹になるんだ

今回は、歌ごころは薄い。

発声練習

2005-04-04 20:50:33 | Weblog
学生時代に合唱団に所属。
発声練習を繰り返しやった。
それを紹介する。

まず、体を柔らかくする運動。(略)

出しやすい声域から徐々に上げていく。
また、下げていく。
裏声(ファルセット)をつかった練習。
高い声から徐々に低くしていく。

ハミング(Hmm)
ジー(Zzi)
アー(Aaa)
ドミド、ドレミレド、ドレミファソファミレド。

姿勢。
上半身の余分な力を抜く。
頭の上から糸で引っ張られている人形の気分で。

頭声。
電話に出るときの明るい声。

腹式呼吸。
腹を楽にストンと落ち着いた状態がスタート。
息を細く長くはく。
重たいモノを持って腹に力が入っている感じ。

表情。
そばを吸い込む時の口の中のカタチで息をはく。
驚いたときの表情(目、のどの奥)。
奥歯で割り箸をかんだときのアゴのあけ方。
ゆで卵が縦に口に入っているような感じ。

専攻紹介

2005-04-03 19:58:57 | Weblog
1997年に書いたレポートを紹介する。
内容は当時のまま。

電子材料シリコン半導体(ULSIプロセス)

シリコンLSIの大規模化を抑制する要因
半導体デバイスの中でダイナミック型メモリ(DRAM)は市場規模の大きさとして重要である一方,微細化技術開発のリーディングデバイスとしての役割も担ってきた.現在の市場の主流は最小寸法0.4~0.5μmレベルの16MビットDRAMであるが,学会発表レベルでは3年に1世代の速度で開発が進められ,最小寸法0.25μmの256MビットDRAMに続き,現在最小寸法が0.2μmを切る1GビットDRAMの世代に突入している.しかし,1GビットDRAMを実現するには,微細加工技術を中心として,特に次に述べる3つの大きな課題を克服していく必要がある.さらに洗浄技術についての課題についても述べる.

キャパシタ技術
微細化によって単位セル面積は減少の一途をたどっているが,ソフトエラー耐性,リフレッシュ特性等の観点から,DRAMとしての動作を保障する下限の容量はほぼ一定と見積もられている.したがって容量確保のため円筒型,フィン型などの電極を複雑に3次元化して電極表面積を増加させる手法がとられている.しかし微細化の進展に従い,①作製プロセスの複雑化,②デバイス表面の断差の増大が以後の行程に悪影響を与える,といった問題点が顕在化してきた.

リソグラフィー技術
0.25μm世代のKrFエキシマ転写技術に対して,1Gビット時代に必要な0.18から0.16μmの微細パターンを形成する転写技術に関しては,現状の光転写技術を延命するか光以外の新規な転写技術を実用化するか二つの選択肢がある.従来光波長以下のパターンで量産することは困難といわれてきており,X線転写技術や電子線直接描画技術が研究されてきた.しかし現在のところ光転写技術に置き代わるにはいたっていない.EB直描が0.15μm未満を実際に改造できる実力がある点が魅力であるが,処理能力の点で問題が残る.X線は等倍ではマスク,縮小では光学系に課題があり,積極的に使う動きは少ない.現在までの光転写技術の蓄積を生かせること,低コスト化のためにも光転写技術に対する期待は大きい.

エッチング技術
1Gビット時代に要求される0.1μmレベルまでの幅広い寸法範囲における高精度なエッチング技術にはまだ解決すべき重要な課題が数多くな越されている.例えば,超微細化・高アスペクト化とともに,高選択比やパターン寸法が小さくなるにつれてエッチング速度が遅くなるといった問題が挙げられる.また後に述べるような,キャパシタ材料にSiO2以外の高誘電率材料を用いる際のエッチング技術も必要とされる.

洗浄技術
半導体分野において表面の洗浄は,製品の品質管理の上で極めて重要である.特にSi上の微量金属の付着による欠陥発生は非常に敏感であり,ppbオーダーでの制御が必要とされる.しかし従来の手法ではほこり,金属カチオン,などの除去のため超純粋水リンスと濃硫酸,過酸化水素などの多く化学薬品を消費する,多くの工程を必要としており,半導体コストの上で占める割合が無視できないものとなっていた.また廃液処理のうえでも洗浄の効率化が望まれている.

更なる大規模化へのブレイクスルー
キロ.ビットからギガビットに至るDRAMの大容量化は,3つの時代に大きく別れる.微細加工が開発の中心だったキロ・ビット時代,構造改良が中心だったメガ・ビット時代に対し,ギガ・ビット時代を迎えるに当たり,従来のSiと酸素,窒素,を中心としたごく限られた元素のみによる半導体構成が眼界に達していることを示してきた.そのブレイクスルーとして各種材料開発がDRAM大容量化技術の中心になることが指摘されている.セルには高誘電率膜を採用し,メガビット時代には世代ごとに減ってしまっていた蓄積容量を,各世代で一定に保つようにする. 露光にはArFなど向けのレジスト材料の開発が重要となる.配線には低誘電率の層間絶縁膜や低抵抗の配線材料を使って,配線遅延を抑制する.従来半導体分野に用いられなかった元素を導入した無機材料開発などが重要性を増し,物理・電気系技術者中心だった半導体産業界において,今後化学・材料系技術者の活躍の場が広がることが予想される.

キャパシタ材料
1Gビット向けセルには,0.3μm2程度のセル面積に約20fFのキャパシタ容量を確保する必要がある.そのためにはキャパシタ絶縁膜にTa2O5を用い,MIM (metal-insulatoe-metal)構造の円筒型スタックの採用が検討されている.これまではフィン型の方が実績があるが,1Gでは円筒型の採用が有力である.これは微細化に際してフィン型では容量確保に寄与しない面積が相対的に増加するのに対し,円筒型は内側を繰り抜いて垂直方向の面積を有効に使い方法であるため,微細セルにおいて表面積確保が容易であるためである.またTa2O5薄膜採用には従来の絶縁膜の限界に加えて,Ta2O5薄膜の成膜技術の改良によりリーク電流が抑えられようになったためである.リーク電流の原因はTaとOの組成比が理想的な2:5からズレてOが不足することにあった.これをO2プラズマ処理によりOを補給してリーク電流を抑制できた.また成膜後の熱処理による容量低下する問題に対して,下部電極に金属を用いるMIM構造の採用で対応することが検討されている.従来の多結晶Siを用いた下部電極では熱処理によりSiO2が形成されてしまい絶縁層が厚くなり,容量が低下するためである.

露光用レジスト材料
波長248nmのKrF光源を使って0.15μm解像結果が登場し始めており,1G-DRAMにはKrFエキシマ・レーザが通用する見方が広がっている.これはKrFとレベンソン型の位相シフト・マスクを組みあわせたからである.位相シフト技術は超解像技術の中でも最も効果的なものであり,通常露光に比べて解像力を最大2倍に向上できる.この技術は隣り合ったパターンの位相を180℃ずらす事で,パターン周辺での光の分布を急峻に変化させて解像力を高めるもの.しかし0.13,0.1μmといった微細化をエキシマレーザにより実現するにはArF技術と超解像技術を組み合わせる必要がある.今後の課題はArFレジストが開発が鍵となっている.現在アクリレート系樹高分子とシクロアリファティック系高分子のレジストが各社から発表されているが,感度と安定性を両立させたレジストの開発が望まれている.またレジスト開発はレベンソン型位相シフト以後の超解像技術としても注目される.レジストの表層から内部に行くにしたがって透明度を高めてレジスト上下での露光量のバラツキを減らし,コントラストを向上させる技術である.

計測技術
微細加工の位置合わせの精度は今後ますます重要性を増す.現在生産ラインでの位置合わせはレーザを利用して計測しているが,微細加工に対応するには限界を迎えつつある.光の波長以下の加工を行うには長さを測る技術として電子線を用いる必要が出てくる.従来からある電子顕微鏡をもちいれば十分測定できる大きさではあるが,その顕微鏡を用いる思想は大きく異なる.すなわち従来の特殊技術者が使用して1サンプルの破壊測定といった研究用顕微鏡ではなく,ライン従業員が使用して製造デバイスすべてについて,ひとつひとつの位置,長さを非破壊で測定する生産技術用顕微鏡の開発が必要となっていくと考えられる.

洗浄技術
半導体表面へのほこりの付着には表面の電荷によるクーロン力が大きく関与していることが考えられる.すなわち半導体表面とほこりが同種電荷を帯びれば付着を抑制できる.こうした考察からイオン性界面活性剤を用いることで,半導体表面とほこりの表面がどちらも同電荷の界面活性剤でつつまれ,洗浄を効率的に行う事ができる.これにより従来の洗浄行程を大幅に簡素化でき,薬品,超純水の節約によりコスト低減につながる重要な技術のひとつである.

感想
各分野の第一人者による講義は最新の技術について知識だけでなく,その仕事に携わった研究者の思想まで伝わってきた.電気系の開発は従来の欧米技術の買い付けと,その中での操作条件の最適化を行うだけの形態が限界に達していることは,しばしば話題にされている.そうしたなかで先頭に立って独自の技術をもちいた研究開発についての重要性が強調されていたように思う.それには特に幅広い分野から研究者を集めたプロジェクトチームをつくることで,問題を多くの視点から解決できる.本質を見抜くまでとことん考える力が必要とされている.こうしたことが様々な実例をもって説明されると説得力をもっていた.

自己紹介

2005-04-03 19:57:09 | Weblog
夏風あざみは、高校生まではガリ勉くんでしたが、
大学では、全く勉強ができませんでした。
応用化学を専攻。
超一流の教授の弟子になり、
エレクトロニクス分野での化学をかじりました。
その時のテーマのひとつが強誘電体メモリでした。
その後、苦労していた時期もありましたが、
公務員になってからは、のんびりと生活しています。