先に、投稿した「純水およびその用途に係る記載について調べました。」に引き続き、その純水を純化した超純水およびその製造装置に係る記載を紹介します。
環境テクノス超純水装置によれば、
http://www.kan-tech.co.jp/frametyojyunsui.html
「通常の自然水や水道水、井戸水等にはカルシウム・鉄分他多数の含有物質が多くて使用用途によっては困ることがあります。この不純物質だけを水の中から完全に取り除く機械が必要なのです。
１）超純水製造装置： 水道水や井戸水を利用して非常に純度の高い水（通電しない超純水）を大量に精製する機械のことです。
２）超純水の特徴：
①一般の水は電気を通しますが、超純水は電気を通しません。・・・
②非常に純度が高く、清潔で透明度も高度な水です。
③電子産業等工業用でよく使用されます。
３）超純水の用途：
①部品の洗浄用水・・・高圧噴出洗浄、漬け洗い等(電子産業、化学工業 ）・・・
②うすめ液や検査用水として（食品工場、理化学、工業試験等）・・・
③室内の湿度管理の霧吹きとして（病院、製紙工業、薬化事業eｔｃ）」
⇒一般に、超純水の製造は、水道水→樹脂製マイクロフィルターによる鉄さびなどの除去→活性炭による残留塩素の有機化合物などの吸着除去→水中のＣａイオンなどの硬度成分のイオン交換による除去→ＲＯ（逆浸透）膜による～98％程度の不純物イオンを除去→イオン交換樹脂による微量な残留カチオン（陽イオン）/アニオン（陰イオン）の除去→ＵＶ（紫外線）照射による有機物や微粒子・生菌の殺菌および分解→最終イオン交換樹脂により低分子有機酸などの除去→ＵＦモジュール（限外ろ過膜）による残存有機物や微粒子などを除去しています。
電気比抵抗１８ＭΩ・ｃｍ以上が要求され、微粒子数、生菌数、ＴＯＣ（トータルオーガニックカーボン）などを管理しています。
⇒製造装置の大きさ（採水量）は分析・検査用途の約１L/分程度から、半導体電子産業では大量にシリコンウエハー等の洗浄に使用しているようです。
（google画像検索から引用）
＜小規模＞
（google画像検索から引用）
