富士電機 185億円投じ、山梨にパワー半導体新ライン…日経新聞7月29日11面より

富士電機は28日、産業機械やハイブリッド自動車などに使うパワー半導体の新ラインを山梨製作所（山梨県南アルプス市）に建設すると発表した。

投資額は185億円。今年６月までハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）用の磁気ディスクを生産していた拠点を転換する。パワー半導体は省エネに役立つとして需要が拡大しているため増産体制を敷く。

素材となるシリコンウエハーの直径が８インチ対応の生産ラインを構築する。同社は長野県にパワー半導体の主力拠点を構えるが、６インチ対応にとどまっていた。新ライン稼働は2012年５月の予定で、全体の生産能力は６インチ換算で15％増える。

山梨工場で生産していた磁気ディスクはマレーシア工場への移管を進めている。クリーンルームなど半導体製造に設備を転用することで投資コストを抑える狙いもある。

パワー半導体は電力の変換や制御に使う半導体で、産業機械から家電、電気自動車までさまざまな機器に組み込まれている。高効率なパワー半導体を搭載することで機器の省エネ化か図れるため、国内外で需要が高まっている。

また同日発表した１１年４～６月期決算は、連結最終損益が53億円の赤字（前年同期は99億円の黒字）たった。売上高は２％減の１４００億円。車載向け半導体の供給が低調だった。