ＮＩＬ半導体製造の「逆襲」の糸口になるかもね〜色々と水面下で〜

おはようさんです☀

今日は普通にお休みだよ〜ゆっくりしたいけど、お花と本を買いに行かなければ〜

そして色々と色んな事が、ここでつながる朝

前々から気になる半導体を巡るお話に興味津々の通りすがり〜の〜くま🐻だったけど〜

なるほどねと！

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気になる技術の「ナノインプリントリソグラフィ（ＮＩＬ）」型をウェハースに押し付けて微細な回路パターンを形成する技術。

大日本印刷、キオクシアホールディングス（旧東芝メモリホールディングス）、キャノンと共同開発を進めてる「ナノインプリントリソグラフィ（ＮＩＬ）」での半導体製造が極端紫外線（ＥＵＶ）露光と比べて消費電力を１０分の１に出来ることをあきらにした、

ＮＩＬの量産利用には課題が多いが、最先端の回路幅が形成出来る。

産業界における脱炭素機運の高まりを背景に、３社は消費電力削減で差別化しつつ、実用化に向けて開発を促進していく、

ＮＩＬは技術開発用で回路線幅は５ナノメートル（ナノは１０億分の１）など対応出来る、

実際の量産投入には、回路の欠陥の発生など解消さなければならない課題も多い。

３社は量産技術の確立を目指してる。

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今回、キャノン、微細ロジック／メモリ向け「ナノインプリントインプラント半導体製造装置」を商業化されたのが「ＦＰＡ−１２００ＮＺ２Ｃ」😊

まぁ〜何しろ昔は、ニコンとキャノンが半導体露光装置のシェアを独占していたんだけど、オランダの紫外線露光装置で、ＡＳＭＬがダントツの極紫外線露光装置で最先端の微細回路を作れる会社にやられちゃってたから、

ちょっと逆襲に向かえれば、面白いかもね。

何しろ、前々にキャノンの半導体回路図をハンコで作るとか言ってて、１０年前にアメリカのナノインプリントリソグラフィ技術を持ってる会社を買収していたし、

ちょっと前の大日本印刷の企業ＣＭで、半導体の回路図をプリントするとか流してたのを、ふっと思い出し、ここで色んな色々な事が繋がって行くのかと〜(笑)(´∀｀*)ｳﾌﾌ⭐⭐⭐

ナノインプリントの簡単な説明図が下😊

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紫外線露光とナノインプリントの製造の比較

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こんな感じの違いがある、何しろ回路をウェハースの上にプリントするのには、驚く〜🎶

キヤノン、微細ロジック/メモリ向けナノインプリント半導体製造装置を商用化

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「SCIVAX」と「大日本印刷」が資本業務提携　生産管理を担う合弁会社「ナノインプリントソリューションズ株式会社」を設立

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下はナノインプリント技術を詳しく書かれててます。

微細プロセス実現の解決策となるか - ナノインプリント技術の現状に迫る

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これで少しは失われつつある、今後メモリ以外に半導体の製造機が出来れば、日本の半導体製造やら半導体生産のシェアを増やせるかもね。

もう一つニコンにも、頑張ってもらいたい。

目が離せない半導体を取り巻く環境だね😊

今日もお互い前向きコツコツと良い塩梅で、楽しく笑顔忘れずに、最善を尽くして参りましょう〜です！(^o^)／⭐ファイト🎶