洗浄技術 2008-03-02 20:59:14 | プロセス -Process- 洗浄は歩留まりに直結するため半導体製造に欠かせない技術の一つである。 半導体に影響を与える要素として １．微粒子（パーティクル） ２．金属不純物 ３．有機物 ４．バクテリア ５．ウオーターマーク などがある。 このうちウオーターマークは Si上にてO2とH2Oが反応し Si＋H2O＋O2→H2SiO3 の反応が起こりそれが乾燥後に残骸として残ることにより発生する。 上に上げたような懸念物質をを取 . . . 本文を読む
