マイクロ・ナノデバイス 

デバイス・プロセス技術のコラボレーション 参考資料:S.M.Sze半導体デバイス

エッチング技術

2007-07-30 00:10:10 | プロセス -Process-
エッチングは堆積した膜をレジスト等をマスクにして彫って加工する工程である。大きく分けて溶液を用いた湿式(Wet)の化学的エッチングとプラズマを用いた乾式(Dry)エッチングに分類される。 Wet エッチング Wetエッチングは等方的に進行するので微細化の進む半導体ではメジャーではなくなってきているが反応速度という面ではまだまだ分があり前面でエッチングをする際等に用いられている。 Wetエッチン . . . 本文を読む

リソグラフィ技術

2007-07-02 00:27:16 | プロセス -Process-
リソグラフィとはマスクの幾何学的模様をウエハー上にに塗布した感光性物質(レジスト)に転写する工程のことである。リソはギリシャ語の石版画(Lithos)が名前の由来であり石版(リト)に印刷する(グラフィ)というのが語源。 このパターンを用いてエッチング、イオン注入、電極の形成、素子分離等が行われる。 露光法 リソグラフィ装置の大部分は紫外線(波長0.2~0.4um)を用いている。パターンは現在最先 . . . 本文を読む