メタライゼーション 2007-10-14 15:54:21 | プロセス -Process- 薄膜形成技術は物理的気相成長法 PVD（Physical Vapor Deposition）と化学的気相成長法 CVD（Chemaical Vapor Deposition）に大別される。 PVD 蒸着、電子ビーム、蒸着、スパッタなどが含まれる。真空蒸着は真空中にて原料が融点以上に加熱して残留ガスと衝突させずに基板へ堆積させる技術である。 現在主流として用いられているIonBeamSputtae . . . 本文を読む
