●知的財産権侵害、最高懲役１０年に罰則強化 経産省方針 （産経新聞）
経済産業省は２８日までに、違法にコピーした商品を国内で製造、販売し、知的財産権を侵害した個人や企業の責任者に対する懲役刑をこれまでの最高５年から最高１０年に、罰金の最高額も大幅に増やして１０００万円に引き上げることなど罰則を強化する方針を固めた。今国会に特許法などの改正案を提出、２００７年の施行を目指す。
経産省は、与党や産業界からの強い要請を受けて、個人への懲役刑の強化を軸に厳罰化を進めることにした。不正競争防止法も合わせて強化、発明などを盗用する行為も厳罰化することで企業の開発努力の保護にも取り組む。
懲役を最高１０年とするのは特許法、商標法、意匠法、不正競争防止法。罰金の上限も現行の５００万円（意匠法は３００万円）から１０００万円に引き上げるほか、法人の罰金も大幅に引き上げ最高３億円とする。
まず、現行の特許法の規定による罰則はまとめるとこんな感じです。
１）特許権侵害罪：５年以下の懲役または500万円以下の罰金
２）特許詐欺罪（虚偽の事実を記載して特許を受けた場合など）：３年以下の懲役または300万円以下の罰金
３）虚偽表示罪（特許に係らない物に特許表示をした場合など）：３年以下の懲役または300万円以下の罰金
４）偽証等の罪：３月以上10年以下の懲役
５）秘密漏洩罪（特許庁の職員など）：１年以下の懲役又は50万円以下の罰金
６）両罰規定：法人などの業務に関する場合に、行為者を罰するほか、法人又は事業主も罰する（罰金刑）規定
（１）の特許権侵害罪の場合は、１億５千万円以下の罰金
（２）及び（３）の罪の場合は、１億円以下の罰金
記事本文ではよくわからない記載となっていますが（記者が混同しているのだと思います）、現行の特許法と示し合わせると、以下のようなことだと思われます。
Ⅰ.侵害者が個人の場合。
特許侵害罪（現行の１）；懲役５年以下or罰金500万以下→懲役１０年以下or罰金1000万以下
※ただし、特許侵害を個人が問われる場合はほとんど無いと思われます。
特許詐欺罪／虚偽表示罪（現行の２、３）；３年以下の懲役or300万円以下の罰金→（１０年以下の懲役？）or罰金1000万以下
Ⅱ.侵害者が法人の場合
特許侵害罪（現行の１）；１億５千万円以下の罰金→３億円以下の罰金？
特許詐欺罪／虚偽表示罪（現行の２、３）；１億円以下の罰金→３億円以下の罰金？
ちなみに、
特許侵害罪→特許侵害品の製造または販売、もしかすると輸入も
特許詐欺罪／虚偽表示罪→偽造品・海賊版販売とか
を意味していると思ってよろしいかと。
法人の場合については、記事中の「３億円以下の罰金」という記載がどっちに適用されるのかはっきりしませんので、両方を意味しているという解釈で。
記事の記載では、「企業の責任者にも…懲役●年」とも読めますが、さすがにそれはないと思います。もし、この記載が真実であればヤクザ映画でよくあるみたいに身代わりで刑に服するケースが出てきかねないのでｗ
私は、上記のような改訂内容だと思います。しかし、これでは手ぬるいという声が上がるでしょう。
米国では、特許侵害や偽造品の販売によって得た「売り上げまたは利益」を元に罰金を決定するので、裁判で言い渡される罰金（賠償金）が決定されるので、金額もすごいことになってしまいます。（もっとも、それが良い点なのですが）
日本のような、罰金にキャップを設けておくのとどっちが良いのかわかりませんが、特許侵害関係の訴訟の戦場が米国であるという現象はまだまだ続きそうです。
経済産業省は２８日までに、違法にコピーした商品を国内で製造、販売し、知的財産権を侵害した個人や企業の責任者に対する懲役刑をこれまでの最高５年から最高１０年に、罰金の最高額も大幅に増やして１０００万円に引き上げることなど罰則を強化する方針を固めた。今国会に特許法などの改正案を提出、２００７年の施行を目指す。
経産省は、与党や産業界からの強い要請を受けて、個人への懲役刑の強化を軸に厳罰化を進めることにした。不正競争防止法も合わせて強化、発明などを盗用する行為も厳罰化することで企業の開発努力の保護にも取り組む。
懲役を最高１０年とするのは特許法、商標法、意匠法、不正競争防止法。罰金の上限も現行の５００万円（意匠法は３００万円）から１０００万円に引き上げるほか、法人の罰金も大幅に引き上げ最高３億円とする。
まず、現行の特許法の規定による罰則はまとめるとこんな感じです。
１）特許権侵害罪：５年以下の懲役または500万円以下の罰金
２）特許詐欺罪（虚偽の事実を記載して特許を受けた場合など）：３年以下の懲役または300万円以下の罰金
３）虚偽表示罪（特許に係らない物に特許表示をした場合など）：３年以下の懲役または300万円以下の罰金
４）偽証等の罪：３月以上10年以下の懲役
５）秘密漏洩罪（特許庁の職員など）：１年以下の懲役又は50万円以下の罰金
６）両罰規定：法人などの業務に関する場合に、行為者を罰するほか、法人又は事業主も罰する（罰金刑）規定
（１）の特許権侵害罪の場合は、１億５千万円以下の罰金
（２）及び（３）の罪の場合は、１億円以下の罰金
記事本文ではよくわからない記載となっていますが（記者が混同しているのだと思います）、現行の特許法と示し合わせると、以下のようなことだと思われます。
Ⅰ.侵害者が個人の場合。
特許侵害罪（現行の１）；懲役５年以下or罰金500万以下→懲役１０年以下or罰金1000万以下
※ただし、特許侵害を個人が問われる場合はほとんど無いと思われます。
特許詐欺罪／虚偽表示罪（現行の２、３）；３年以下の懲役or300万円以下の罰金→（１０年以下の懲役？）or罰金1000万以下
Ⅱ.侵害者が法人の場合
特許侵害罪（現行の１）；１億５千万円以下の罰金→３億円以下の罰金？
特許詐欺罪／虚偽表示罪（現行の２、３）；１億円以下の罰金→３億円以下の罰金？
ちなみに、
特許侵害罪→特許侵害品の製造または販売、もしかすると輸入も
特許詐欺罪／虚偽表示罪→偽造品・海賊版販売とか
を意味していると思ってよろしいかと。
法人の場合については、記事中の「３億円以下の罰金」という記載がどっちに適用されるのかはっきりしませんので、両方を意味しているという解釈で。
記事の記載では、「企業の責任者にも…懲役●年」とも読めますが、さすがにそれはないと思います。もし、この記載が真実であればヤクザ映画でよくあるみたいに身代わりで刑に服するケースが出てきかねないのでｗ
私は、上記のような改訂内容だと思います。しかし、これでは手ぬるいという声が上がるでしょう。
米国では、特許侵害や偽造品の販売によって得た「売り上げまたは利益」を元に罰金を決定するので、裁判で言い渡される罰金（賠償金）が決定されるので、金額もすごいことになってしまいます。（もっとも、それが良い点なのですが）
日本のような、罰金にキャップを設けておくのとどっちが良いのかわかりませんが、特許侵害関係の訴訟の戦場が米国であるという現象はまだまだ続きそうです。
