2019第80回応用物理学会秋季学術講演会(北海道大学)に上坂GからM2の古田と古橋で参加しました.
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私は工具の膜厚分布に沿った除膜技術の開発を目的として,
MVP法と熱電子放出フィラメントを組み合わせた
金属丸棒に対するエッチング分布の制御性について報告いたしました.
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以下、自身の研究と関わりが深いと感じた,面白いと感じた報告を
いくつか紹介させて頂きます.
①『変調パルス電力マグネトロンスパッタリングのパルス/パワー制御とプラズマ発光分光』(東京工芸大 中込様)
この研究ではアーキング抑制に優れる変調パルス電力方式を使った
マグネトロンスパッタリングのスパッタ特性を知ることを目的として
プラズマ発光の計測の結果を報告していました.
Tiターゲットに対して,Ar雰囲気2Paの条件下で出力電流を変化させたときの
発光分光の結果が下の図になります.電流値が約190 Aで,Ti+原子の発光強度の上昇は頭打ちとなり、
代わってAr+の発光強度が急激に強くなっています。
その考察として自己スパッタリングが起きていることが挙げられていました.
私の研究では,MVP法とフィラメントの熱電子放出によって除膜を行っていますが,
マイクロ波の出力を上げていくと除膜レートが高くなるという予想に対して,
出力を大きくしすぎると除膜レートが上昇しなくなります.
それは今回の報告と同様に,電源の出力を上げたことによる自己スパッタリングが起きている可能性があるため
発光分光を用いて今後調査したいと思いました.
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(第80回応用物理学会予稿集 20a-B11-6)
②『高輝度ファセットレス電子源の実現に向けた表面炭素修飾』(日立研開 松永様)
この研究では結晶性の電子源表面を非晶質カーボンを修飾することで
電子放出パターンが下図のAからBのように均一に変化したことでファセットレス電子源が実現されたという報告がされていました.
実用化するという点においては,非晶質カーボンを取り付けて長時間使用すると
カーボンが剥離する問題点があり、質疑応答において剥離が起こる原因について様々な考察がなされていました.
(カーボンに対するイオン衝突によるもの,電流が結晶材料とカーボンの界面を流れたことによるカーボンの組成変化)
こう言ったやり取りを直に聞けることも学会に参加する醍醐味であると感じました.
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(第80回応用物理学会予稿集 19a-E312-2)
③『ArイオンとArクラスターイオンビームによる金属膜と有機膜へのエッチングの影響』(発表者 東芝テック研究開発センター 關 様)
有機絶縁膜をArイオンとAr-ガスクラスターイオンでエッチングし、
2つのエッチング方法が有機膜に与えたダメージを報告していました.
結果としてXPSでAr-ガスクラスターイオンを用いることで有機物に対して
影響を与えずに測定ができるというものでした.
(エッチング後にArイオンではベンゼン環のピークが消えるのに対して、
Ar-ガスクラスターイオンはピークが残る)
試料への影響が少ないエッチング方法として興味深いと思いました.
研究を進めるうえで測定方法が試料に与える影響を考慮して
評価を行うことが重要であると再確認することができました.
1日目の夜には千葉工大の学生と夕食をともにし
互いの研究室生活について話したりと楽しい時間を過ごせました.
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2日目はスープカレーを食べました。ブロッコリーがおいしいと思ったのは初めてで
北海道の野菜の美味さに感激しました
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北海道神宮でお参りしてきました
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一時間並んだラーメン店:すみれと雪風
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北海道の美味いものを食べてリフレッシュすることができたので
残りの学生生活もわずかですが
成果を残せるよう頑張っていきたいと思います。
M2 古田
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