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“hCFET”とは
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#上下に積層化
#異種チャネル相補型電界効果トランジスタ
#2nm世代
#産総研
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#LT-HBT
#IEDM2020
Si(シリコン)とGe(ゲルマニウム)など異なるチャネル材料を(左右でなく)上下に積層化させ、 n型FETとp型FET(※1)を最短距離で連結するようにした新しいFET構造です。&rd
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