355nmの紫外線レーザーの印機械の利点
紫外レーザーマーキング機は短波長と小スポットの特性を持ち、高精度レーザー彫刻機やマーキング機に最適な355nmレーザーを採用しています。
オプトエレクトロニクスレーザーは、355nmビームエキスパンダと355nmフィールドミラーを含むUVレーザーマーキング機用の光学部品を提供します。 355nmレーザーの特性として、355nm光レーザーの光学レンズは輸入石英で作られており、システム全体の高い通過率とスポット品質を保証します。
その中で、標準的なマッチングは、5倍、10倍の355nmビームエキスパンダと、355nmのF-θフィールドミラー（焦点距離160mm）で、現在在庫があります。
紫外線レーザーマーキング機は「フォトエッチング」効果として知られており、高エネルギー紫外線光子は「冷間処理」によって材料の化学結合を直接破壊し、加工された部分は滑らかなエッジと最小限の炭化を有する。
さらに、UVレーザーエネルギーは、ほとんどの材料に効果的に吸収され、良好な集束性能を持ちます。そのため、非常に高い研究価値と幅広い用途の見込みがある狭いスペースで微細加工することができます。一般的に言って、すべてのレーザーはその作動媒体によって励起されて励起状態に励起され、いくつかの光子（原子）は準安定状態と呼ばれる低エネルギーステップにあり、エネルギーレベルが高いほどエネルギーレベルが高くなります。そして、常に遷移（逆）、異なる媒体、原子ジャンプのスペクトルは異なり、単一であり、すべてが異なる色のレーザーを見ることができ、紫外線レーザーのスペクトルは光の観点から、約300 nmです、それは太陽電池ガラスに適していますプラスチックなどの材料のライトマーキング。
ＵＶレーザーマーキング機に使用される３５５ｎｍレーザーは、１５ｍＷの平均出力と２０ｎｓのパルス幅を有する。キロヘルツ電気光学Ｑスイッチ出力を有する全固体バイオレットレーザは、産業、農業、防衛、技術、医療などにおいて広範囲の用途を有し、一方、ＵＶレーザは、光学データ記憶、光ディスク制御、マイクロマシニング、大気検出、マイクロエレクトロニクス、および光化学において使用される。光生物学や医学の分野で特に重要なのは、全固体UV光源は高効率、高繰り返し率、信頼性の高い性能、小型化、良好なビーム品質、高い出力安定性を持つためです。 355nmの出力では、基本波と乗算器の出力電力を最大にする必要があります。和周波の発生は非線形結晶中の基本波と第二高調波の有効エネルギー変換の結果であり、変換プロセスはエネルギー保存と運動量保存の両方を満たさなければならないので、高調波変換効率を考慮しなければならない。
紫外レーザー355nmと約1μmのビーム直径の上記の特性と組み合わせて、紫外レーザーは太陽光発電ガラスのような壊れやすい物品の彫刻と他の製品の表面層彫刻に特に適しており、彫刻効果は完璧で材料は完璧である。それ自体は効果がありません。
紫外線レーザーマーキング機は、機械式マーキング機よりも多くの利点があります。これらの利点には、低消費コスト、低メンテナンスコスト、高生産性、および作業面の高利用率が含まれます。レーザープロセスは自動化が容易で、人件費が削減されます。紫外線レーザー技術はまだ開発されるべき多くの可能性を持っている、それでプロセスは発展し続けるであろう。我々は、レーザー加工が需要の高い彫刻の数をさらに発展させ、回収期間を短縮すると予測しています。
紫外レーザーマーキング機は短波長と小スポットの特性を持ち、高精度レーザー彫刻機やマーキング機に最適な355nmレーザーを採用しています。
オプトエレクトロニクスレーザーは、355nmビームエキスパンダと355nmフィールドミラーを含むUVレーザーマーキング機用の光学部品を提供します。 355nmレーザーの特性として、355nm光レーザーの光学レンズは輸入石英で作られており、システム全体の高い通過率とスポット品質を保証します。
その中で、標準的なマッチングは、5倍、10倍の355nmビームエキスパンダと、355nmのF-θフィールドミラー（焦点距離160mm）で、現在在庫があります。
紫外線レーザーマーキング機は「フォトエッチング」効果として知られており、高エネルギー紫外線光子は「冷間処理」によって材料の化学結合を直接破壊し、加工された部分は滑らかなエッジと最小限の炭化を有する。
さらに、UVレーザーエネルギーは、ほとんどの材料に効果的に吸収され、良好な集束性能を持ちます。そのため、非常に高い研究価値と幅広い用途の見込みがある狭いスペースで微細加工することができます。一般的に言って、すべてのレーザーはその作動媒体によって励起されて励起状態に励起され、いくつかの光子（原子）は準安定状態と呼ばれる低エネルギーステップにあり、エネルギーレベルが高いほどエネルギーレベルが高くなります。そして、常に遷移（逆）、異なる媒体、原子ジャンプのスペクトルは異なり、単一であり、すべてが異なる色のレーザーを見ることができ、紫外線レーザーのスペクトルは光の観点から、約300 nmです、それは太陽電池ガラスに適していますプラスチックなどの材料のライトマーキング。
ＵＶレーザーマーキング機に使用される３５５ｎｍレーザーは、１５ｍＷの平均出力と２０ｎｓのパルス幅を有する。キロヘルツ電気光学Ｑスイッチ出力を有する全固体バイオレットレーザは、産業、農業、防衛、技術、医療などにおいて広範囲の用途を有し、一方、ＵＶレーザは、光学データ記憶、光ディスク制御、マイクロマシニング、大気検出、マイクロエレクトロニクス、および光化学において使用される。光生物学や医学の分野で特に重要なのは、全固体UV光源は高効率、高繰り返し率、信頼性の高い性能、小型化、良好なビーム品質、高い出力安定性を持つためです。 355nmの出力では、基本波と乗算器の出力電力を最大にする必要があります。和周波の発生は非線形結晶中の基本波と第二高調波の有効エネルギー変換の結果であり、変換プロセスはエネルギー保存と運動量保存の両方を満たさなければならないので、高調波変換効率を考慮しなければならない。
紫外レーザー355nmと約1μmのビーム直径の上記の特性と組み合わせて、紫外レーザーは太陽光発電ガラスのような壊れやすい物品の彫刻と他の製品の表面層彫刻に特に適しており、彫刻効果は完璧で材料は完璧である。それ自体は効果がありません。
紫外線レーザーマーキング機は、機械式マーキング機よりも多くの利点があります。これらの利点には、低消費コスト、低メンテナンスコスト、高生産性、および作業面の高利用率が含まれます。レーザープロセスは自動化が容易で、人件費が削減されます。紫外線レーザー技術はまだ開発されるべき多くの可能性を持っている、それでプロセスは発展し続けるであろう。我々は、レーザー加工が需要の高い彫刻の数をさらに発展させ、回収期間を短縮すると予測しています。
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