細胞培養用基材およびその製造方法

出願番号 : 特許出願２００６－２１５７９９ 出願日 : ２００６年８月８日
公開番号 : 特許公開２００８－３５８０６ 公開日 : ２００８年２月２１日
出願人 : ＫＩＳＣＯ株式会社 外２名 発明者 : 大谷 晋 外７名

【課題】工業的な量産が容易で、耐久性があり、安価に製造できる細胞培養用基材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基体上に表面改質層を有し、前記表面改質層が、ホルミル［２．２］パラシクロファンの化学蒸着により形成された式（II）で表される重合体に、モノマー単位に少なくとも１個のシッフ塩基を形成する能力のあるアミノ基（－ＮＨ2）を含む重合体を反応させて得られたアミノ基を有する重合体を含有する構成の細胞培養用基材と前記重合体を基体上に合成する細胞培養用基材の製造方法とした。



［式(II)中、ｎおよびｍはそれぞれ重合度を表す正の整数であり、ｎ＝０であってもよいが、ｍ＝０となることはない。］
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