スポーツと体格

 

 

【水泳革命－体格形成のビックＸをつかめ】

朝目覚めのテレビで、一瞬、男子４百メートル個人メドレー決勝で19歳で早大１年の瀬戸大也が
４分８秒69で優勝たという放送が流れた。これは後でわかった話で、その時は気付かなかった。
日本人選手が個人メドレーで金メダルを獲得したのは、五輪、世界選手権を通じて初めて。世界
選手権の競泳種目優勝者も、2003年バルセロナ大会の男子平泳ぎ２種目制覇など計３回優勝の北
島康介、09年ローマ大会の男子百メートル背泳ぎを制した古賀淳也に次いで、史上３人目という
から記録からも大したことではないかと感心していたが詳しいことはてん分からないでいたが、
へぇ～萩野公介選手でなかったのに何故なろうとそちらの方がインパクトが大きかったのだ実は。
当の萩野は後半失速して５位に終わる。瀬戸は萩野と同学年で小学生時代からライバル関係にあ
ったが、萩野が昨年のロンドン五輪で銅メダルを獲ったのに対し、瀬戸は代表落ちするなど大き
く後塵を拝していたというから唐突な感じはごく自然な反応だったんだ。ところで、競技に出て
いる水泳選手って体格が立派というか大きい。そこで。個人メドレー男子及び背泳男子の瀬戸大
也・ 堀畑裕也・萩野公介・入江陵介の体格を調べてみた。

	身長 cm	体重 kg
瀬戸大也	174	70
堀畑裕也	169	63
萩野公介	175	70
入江陵介	178	64

身長では入江が一番背が高いが、体重では瀬戸・萩野の一番重いものの、外国選手と比べて飛び
抜けて大きいとは思えない。因みに、スリム度＝身長÷体重も計算したが、2.49、2.68、2.50、
2.78と入江が一番スリム度が高く、瀬戸が一番低い。因みに平泳ぎの北島康介は、身長178cm、
体重73kg。スリム度2.43となり、スリム度が一番低くなる。これは日本男子の20から24歳の平均
値は、身長171cm、65kg、スリム度2.62（下表参考）となり、身長・体重双方ともおおよそ２～３
％大きいが飛び抜けているともいえないようだ。スリム度も変わらないように思える。とすると
トレーニングによる筋肉や骨格の特徴パラメータを見つけ出した方がよさそうだし、ネット情報
では萩野のタフネスは半端じゃなくて遺伝子依存性、あるいは先天的な特徴パラメータ、あるい
は素質に依存するとコーチが解説していたから、トレーニング度×素質という風なことに落ち着
ついた。

 

これじゃ困るねぇ～～～。思いつきに、もしかして水泳というスポーツに、ある特徴パラメータ
ーが他の競技と比較しずば抜けていていれば、水泳と他のスポーツ、例えばバスケットを年齢と
いう時間軸を考慮し組み合わせ理想体型をつくる方法を編み出せば、日本人特有の身体能力の劣
性を克服する基礎トレーニングに変えることができるのではないかなと思いついた誇大妄想？！
だった。具体的には硬式テニスをイメージしていたわけで、体格の良い外人選手に互する身体能
力を備え、それと日本人の優れた心技体にかかわる特徴パラメーターを組み合わせれば、ウイン
ブルドンで優勝できるのではと思ったわけだ。こういった誇大妄想は、些細なことに違いないが
また違った展開を見せるのではないかと思ったりしている。

 

【半導体のエコノミーとグリーン】

半導体のDRAM製造メーカの業界再編が加速している。キマンダの破産以降は大手による市場での
寡占がより進んだ。コスト競争力の乏しい下位の会社は、今後も撤退、吸収が予想される。微細
化に伴い露光装置の導入費用がさらに高くなるため、資金面での競争力の差が顕著になり、世界
的な再編が始まる。キマンダの消滅後、台湾5メーカー(Inotera、Nanya、Powerchip、ProMOS、Win-
bond)のうちNanyaがシェアを伸ばし、業界第５位となっている。業界第４位のMicronは2008年に
Nanya及びInoteraと提携を結んだ。かつての大手5社ではキマンダに続いてエルピーダも、2009年
6月30日より産業活力再生特別措置法に基づいて再建を行っていたが2012年２月についに力尽き
会社更生法適用を申請し破綻、2013年７月にMicronの子会社となり、業界は大手３社体制となる。
思えば勤労国民の血税なども投入し、敢えなく国産DRAMは消滅することになる。

時代は量子ドットといわれる段階に差し掛かっている。量子ドットとは、電子をその波長とほぼ
同じ大きさの空間に注入すると、三次元のどの方向にも自由に移動できず、特定のエネルギー状
態をとる。このエネルギー状態は、量子ドットの大きさを変えることで、ある程度自由に変化す
る。このたおめ、新しい機能を発現する素材をつくることができ、量子ドットレーザー・単電子
トランジスタ・量子コンピュータなどの応用が進んでいるが、量子ドットスケールは、直径数～
数十ナノメートルの半導体結晶を取り扱う。ところが、シリコンをベースとした半導体製造技術
でのダウンサイジングの進展が、微細加工が微塵加工に変化することで従来のリソグラフィから
ナノリソグラフィへの移行には大きな問題が立ちはだかる。それが、リソグラフィ設計の煩雑性
（＝非効率）とダブルパターニングなどのような生産コスト逓増、あるいは、極紫外線露光時の
ノイズやラインスペース形状バラツキにあらわれ、20nm以下にうまく対応できず技術開発のロー
ドマップの進捗を遅延させているからだ。この現状を、今年３月にセミコンダクター・マニュフ
ァクチャリング＆デザイン（SMD）社は、ナノインプリントリソグラフィツールサプライヤーの分
子インプリンツ社（MII）のナノインプリントリソグラフィツールサプライヤー社はマーク・メ
リア・スミス長兼最高経営責任者（CEO）とリソグラフィの動向についてインタビューからも窺
うことができる（“Making An Impression with Nanoimprint”2013.03.21 ）。

そこで期待される技術として従来の露光装置を使わずに、原版を基板に押し当てることで微細加
工いや微塵加工を実現する技術を「ナノインプリント」が登場する。この技術の調査研究にわた
しも従事していた経験があるが、そのことは置いておいて、ナノインプリントをLSI製造に使う際
の利点は、高解像度、優れた寸法制御性、低コストの三点にまとめられる。解像度は現時点で数
10nmを実現できており，原版さえ準備できれば、数nm級が達成できる。寸法制御は、既存の露光
技術で問題になっているバラつきが少なく、装置コストも量産による価格逓減が見込めるが、ゴ
ミなどの付着による欠陥（オーバーレイ）、位置合わせ、スループットの三点が課題となってい
たが、それも研究開発の進展と共に改善・改良を遂げている現状である。

 

ナノインプリントは写真製販技術がコアとしてあり、スループットの悪さが懸念される粒子集積
化技術の革新と競い合っているが、もともとは、従来のコンバーティング・テクノロジー（＝表
面加工技術）に包括される様々なコーティング技術及び産業は拡大成長を遂げてきたが（上表）<
そのナノ領域を占める技術に位置するものの材料部材で見る限りこれからというになる（下表）。

そして、微塵表面加工技術とし、ネオ・コンバーティング・テクノロジーとして21世紀に誕生す
る。そこでは、半導体の微細化、寸法逓減（ダウンサイジング）に伴い製造エネルギー（二酸化
炭素排出量）、製造費が逓増し、もはや「ムーアの法則の限界」が強く意識されだし、ナノリソ
グラフィを担う量子ドット形成技術の１つとしてのナノインプリントの研究開発に拍車がかけら
れている現状があるが、この技術開発の成功は、グリーン（環境リスク逓減）とエコノミー（
コスト逓減）の両面に大きく貢献できるものと期待されている。

ゴーグルを下ろし、水面下に身を屈め、両手を頭上に構え後ろ足でプール側面をキックしそのま
ましばらく潜水し、前に交差した両手、身体と後ろ足を数回ドルフィンキックさせ、やがて水面
に頭をだし泳ぎはじめる。右肩の痛みを押して、50メートルをゆっくり遊泳し、水中歩行を50メ
ートルこれを数回繰り返し早めに上がる。そんなことがここ数週間つづいている。 いずれ回復す
れば負荷を懸けていこうと思っている。