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マイクロン、日本工場に2200億円投資、次世代DRAM量産、 

2017年05月29日 06時07分45秒 | thinklive

 米半導体大手のマイクロン・テクノロジーは日本でスマホ向けの最先端の半導体投資に踏み切る。広島工場(広島県東広島市)に今後2~3年で20億ドル(約2200億円)を投じて次世代DRAMを量産する。スマホやデータセンター、自動運転車などに不可欠な半導体の需要は活況で、世界で設備投資が増えている。

 次世代メモリーの量産に向けて、広島工場で半導体生産に使うクリーンルームを増強したほか、半導体の性能を左右する回路線幅が…13ナノmの先端品量産に向けた研究開発をハジメル、


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